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Pulizia a secco per la massima purezza nella produzione elettronica

quattroClean-Technologia a getto di neve – scalabile, compatibile con l'inline e conforme alle norme di sala bianca

La progettazione del processo e la definizione dei parametri di processo ottimali avvengono nel proprio laboratorio di prova in ambiente sterile. La preparazione dei mezzi di processo - anidride carbonica e aria compressa - garantisce una qualità dell'aria come richiesta, ad esempio, dalla produzione di semiconduttori. (Fonte immagine: acp systems) / The process is designed in the company’s own cleanroom test facility. Optimum process parameters are also defined here. The process media - carbon dioxide and compressed air - are prepared in such a way so as to ensure the air quality required by the semiconductor industry, for example. (Photo credit: acp systems)
La progettazione del processo e la definizione dei parametri di processo ottimali avvengono nel proprio laboratorio di prova in ambiente sterile. La preparazione dei mezzi di processo - anidride carbonica e aria compressa - garantisce una qualità dell'aria come richiesta, ad esempio, dalla produzione di semiconduttori. (Fonte immagine: acp systems) / The process is designed in the company’s own cleanroom test facility. Optimum process parameters are also defined here. The process media - carbon dioxide and compressed air - are prepared in such a way so as to ensure the air quality required by the semiconductor industry, for example. (Photo credit: acp systems)
La cella di pulizia compatta in acciaio inossidabile JetCell con ugelli rotanti è stata sviluppata per applicazioni di pulizia automatizzata e permette di coprire grandi superfici in breve tempo. Può essere facilmente integrata in ambienti di produzione collegati o essere utilizzata come soluzione autonoma. (Fonte immagine: acp systems)
La cella di pulizia compatta in acciaio inossidabile JetCell con ugelli rotanti è stata sviluppata per applicazioni di pulizia automatizzata e permette di coprire grandi superfici in breve tempo. Può essere facilmente integrata in ambienti di produzione collegati o essere utilizzata come soluzione autonoma. (Fonte immagine: acp systems)
Con la tecnologia di pulizia con neve quattroClean a secco, è possibile ottenere una pulizia particellare conforme a ORK 1 in modo ripetibile. Per residui filmanti, i risultati di pulizia corrispondono a quelli ottenuti con altri metodi di pulizia ultra-fini. (Fonte immagine: acp systems)
Con la tecnologia di pulizia con neve quattroClean a secco, è possibile ottenere una pulizia particellare conforme a ORK 1 in modo ripetibile. Per residui filmanti, i risultati di pulizia corrispondono a quelli ottenuti con altri metodi di pulizia ultra-fini. (Fonte immagine: acp systems)
Per soddisfare in modo affidabile le esigenze talvolta enormemente aumentate di pulizia tecnica nell'industria elettronica o per pulire componenti già assemblati, sono necessarie soluzioni di pulizia efficaci, asciutte e compatibili con le camere bianche come la tecnologia a getto di neve quattroClean. (Fonte immagine: acp systems)
Per soddisfare in modo affidabile le esigenze talvolta enormemente aumentate di pulizia tecnica nell'industria elettronica o per pulire componenti già assemblati, sono necessarie soluzioni di pulizia efficaci, asciutte e compatibili con le camere bianche come la tecnologia a getto di neve quattroClean. (Fonte immagine: acp systems)

Sulla base dell'energia, della mobilità o dell'industria – nella trasformazione verso la neutralità climatica, i componenti e i sistemi elettronici svolgono un ruolo chiave. La loro produzione comporta requisiti più elevati in termini di densità di prestazione e affidabilità, nonché nuove soluzioni che hanno portato a un aumento significativo delle esigenze di pulizia tecnica. Questi possono essere soddisfatti con la tecnologia di sabbiatura a neve quattroClean, scalabile, adatta alle camere bianche e compatibile con il processo inline, in una vasta gamma di applicazioni di pulizia, in modo asciutto, sicuro e sostenibile.

Dalla produzione di semiconduttori e microsistemi, alla tecnologia di assemblaggio di schede e componenti, fino alla produzione di celle e moduli batteria, alla fabbricazione di fotovoltaico e all'elettronica organica strutturata a laser, la pulizia tecnica ha un'influenza decisiva sulla capacità di prestazione, funzionalità, affidabilità e durata di componenti e sistemi elettronici. Il parametro di riferimento è la purezza richiesta per i processi successivi o per l'applicazione finale, che deve essere stabile e riproducibile. Per garantire il rispetto dei limiti estremamente rigorosi riguardo alle contaminazioni residue particellari, filmiche organiche e inorganiche, la pulizia avviene di solito in ambienti controllati. Come soluzione per tali compiti di alta purezza, si è affermata la tecnologia di sabbiatura a neve quattroClean di acp systems, adattata alla classe di ambiente sterile.

ORK 1 e i più elevati livelli di purezza filmica sono raggiungibili dimostrabilmente

Si tratta di un metodo di pulizia a secco per applicazioni su tutta la superficie e locali. Il mezzo di pulizia è anidride carbonica liquida, riciclata dai processi chimici di produzione e dalla generazione di energia da biomassa. Viene condotto attraverso un anello di tenuta a due componenti senza usura e si espande all'uscita in cristalli di neve fini. Questi vengono concentrati da un getto d'aria compressa a forma di anello, che viene accelerato a velocità supersonica. Quando il getto di neve d'aria compressa ben focalizzato colpisce la superficie da pulire, si verifica una combinazione di effetti termici, meccanici, solventi e di sublimazione, su cui si basa l'azione di pulizia. Il biossido di carbonio cristallino sublima completamente durante il processo, lasciando le superfici trattate asciutte. Le contaminazioni rimosse vengono aspirate insieme al gas di processo, prevenendo così la rifusione delle parti e l'inquinamento dell'ambiente circostante. Si eliminano processi di risciacquo e asciugatura complessi e ad alta intensità energetica.

In studi approfonditi è stato dimostrato che il metodo quattroClean permette di raggiungere in modo riproducibile i requisiti di purezza di superficie della classe di purezza (ORK) 1 secondo VDI 2083, foglio 9.1:2006. Inoltre, per componenti già sottoposti a pulizia fine chimica umida, si può ottenere una purezza particellare equivalente a ORK 0,1 con ripetibilità. Per residui filmici, i risultati di pulizia sono comparabili a quelli di altri metodi di pulizia fine come la pulizia chimica umida, la pulizia con plasma e il essiccamento sotto vuoto.

Pulizia sostenibile con mezzo certificato Green Screen

In combinazione con il gas di processo di Linde, il metodo efficace quattroClean dispone del certificato Green Screen per detergenti e sgrassanti di Clean Production Action. Questa organizzazione no-profit indipendente ha creato uno standard specifico per i mezzi di pulizia utilizzati come chimici di processo nella produzione, in particolare nell'industria elettronica. Il certificato garantisce che nel gas di processo non siano presenti sostanze chimiche dannose per l'uomo e l'ambiente.

Soluzioni di pulizia compatibili con le camere bianche per ogni applicazione

Per un'ottimale adattabilità delle soluzioni di pulizia alle esigenze e alla situazione di produzione, acp systems offre diversi impianti basati su moduli standard e sistemi progettati su misura. La realizzazione e l'equipaggiamento delle soluzioni, interamente in acciaio inossidabile, sono adattati alla classe di ambiente sterile richiesta. Così, si può garantire una purezza del mezzo di processo del 99,995% per il trattamento del biossido di carbonio liquido e una qualità 1.2.1 per l'aria compressa, secondo ISO 8573-1:2010. Se necessario, nel sistema di alimentazione di aria pulita (XCDA) può essere integrato un gas-washer, che rimuove tracce di sostanze organiche. La qualità dell'aria così ottenuta soddisfa, ad esempio, i requisiti della produzione di semiconduttori.

Un esempio è il compatto JetCell con ugelli rotanti, che sarà presentato alla Productronica di quest'anno. La cella di pulizia plug and play, sviluppata per la pulizia automatizzata, può essere facilmente integrata in ambienti di produzione collegati, ad esempio subito dopo una macchina per stampaggio o presso stampanti, o funzionare come soluzione autonoma. Si distingue per un'elevata capacità di pulizia con un consumo minimo di mezzi. Durante la pulizia delle superfici, che può essere eseguita contemporaneamente dall'alto e dal basso, un monitoraggio e un controllo del processo senza lacune garantiscono che ogni pezzo venga trattato con i parametri di processo validati in precedenza. Interfacce integrate consentono di collegare il sistema di pulizia controllato digitalmente a un sistema di controllo superiore.

Laboratorio di camere bianche per la progettazione e la validazione dei processi

Per la progettazione dei processi, acp systems dispone di un proprio laboratorio di camere bianche. Permette di condurre prove di pulizia in una camera bianca validata di classe ISO 7 con zone fino alla classe 5 secondo ISO 14644-1. Viene effettuata una regolazione precisa dei parametri di processo, come portate di aria compressa e biossido di carbonio, numero di ugelli di spruzzo, area e tempo di spruzzo, in funzione dell'applicazione, delle caratteristiche del materiale, delle impurità da rimuovere e dei requisiti di pulizia. I valori ottenuti possono essere memorizzati come programmi di pulizia specifici per ogni pezzo nel sistema di controllo dell'impianto.

Con la tecnologia di sabbiatura a neve quattroClean a secco, è disponibile una soluzione di pulizia in grado di soddisfare in modo sicuro ed efficiente le diverse esigenze dell'industria elettronica. Allo stesso tempo, il metodo permette di ottenere la pulizia richiesta per componenti elettronici, meccanici, ottici e sensoriali, risparmiando energia e risorse.


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acp systems AG
Berblingerstraße 8
71254 Ditzingen
Germania
Telefono: +49 7156 480140
E-mail: info@acp-systems.com
Internet: http://acp-systems.com


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