Trockene Reinigung für höchste Reinheit in der Elektronikfertigung

Opracowanie procesu i określenie optymalnych parametrów procesu odbywa się w własnym laboratorium czystego pomieszczenia firmy. Przygotowanie mediów procesowych – dwutlenku węgla i sprężonego powietrza – zapewnia jakość powietrza, która jest wymagana na przykład w produkcji półprzewodników. (Źródło zdjęcia: acp systems) / Proces jest projektowany w własnym laboratorium czystego pomieszczenia firmy. Optymalne parametry procesu są również definiowane tutaj. Media procesowe – dwutlenek węgla i sprężone powietrze – są przygotowywane w taki sposób, aby zapewnić jakość powietrza wymaganą przez przemysł półprzewodnikowy, na przykład. (Źródło zdjęcia: acp systems)

Kompaktowa komora czyszcząca JetCell wykonana ze stali nierdzewnej z obrotowymi dyszami została opracowana do zautomatyzowanego czyszczenia i umożliwia szybkie czyszczenie dużych powierzchni. Może być łatwo zintegrowana z połączonym środowiskiem produkcyjnym lub obsługiwana jako samodzielne urządzenie. (Źródło zdjęcia: acp systems) / The compact, stainless steel JetCell cleaning cell with rotating nozzles was developed for automated cleaning applications and is capable of cleaning large areas in a short time. It can be easily integrated into an interlinked manufacturing environment or operated as a stand-alone device. (Photo credit: acp systems)

Mit der trockenen quattroClean-Schneestrahltechnologie lässt sich eine partikuläre Sauberkeit entsprechend ORK 1 reproduzierbar erreichen. Bei filmischen Rückständen entsprechen die Reinigungsergebnisse denen, die mit anderen Feinstreinigungsverfahren erzielt werden. (Bildquelle: acp systems) / Technologia sucha quattroClean snow jet zapewnia, że czystość cząsteczkowa zgodnie z SCC 1 jest osiągana w sposób powtarzalny. W przypadku osadów filmowych wyniki czyszczenia odpowiadają tym, które uzyskuje się innymi metodami czyszczenia ultra-drobnego. (Źródło zdjęcia: acp systems)

Aby skutecznie spełnić czasami ogromnie zwiększone wymagania dotyczące czystości technicznej w przemyśle elektronicznym lub wyczyścić już zamontowane komponenty, konieczne są skuteczne, suche i zgodne z czystymi pomieszczeniami rozwiązania do czyszczenia, takie jak technologia strumienia śnieżnego quattroClean. (Źródło obrazu: acp systems) / Effective, dry and cleanroom-compatible cleaning solutions such as the quattroClean snow jet technology are a must in order to reliably meet the sometimes enormously increased requirements for technical cleanliness in the electronics industry or to clean pre-assembled components. (Photo credit: acp systems)

O energii, mobilności czy przemyśle – w transformacji ku neutralności klimatycznej kluczową rolę odgrywają komponenty i systemy elektroniczne. Ich produkcja pociąga za sobą rosnące wymagania dotyczące gęstości mocy i niezawodności, a także nowe rozwiązania powodują znaczny wzrost wymagań dotyczących czystości technicznej. Można je spełnić za pomocą skalowalnej, czystej w klasie czystości i zdolnej do produkcji na linii technologii quattroClean do piaskowania śnieżnego, w wielu zastosowaniach czyszczenia, w sposób suchy, bezpieczny dla procesu i zrównoważony.

Od produkcji półprzewodników i mikrosystemów, przez technologię łączenia płytek obwodów drukowanych i technologii montażu, po produkcję ogniw i modułów baterii, wytwarzanie fotowoltaiki oraz laserowo strukturalnej, organicznej elektroniki – czystość techniczna ma decydujący wpływ na wydajność, funkcjonalność, niezawodność i żywotność komponentów i systemów elektronicznych. Miara tego jest czystość wymagana dla kolejnych procesów lub końcowego zastosowania, którą musi się osiągnąć stabilnie i powtarzalnie. Aby zapewnić przestrzeganie czasami ekstremalnych limitów dotyczących cząstek, reszt organicznych i nieorganicznych, zwykle przeprowadza się czyszczenie w pomieszczeniach czystych. Jako rozwiązanie dla takich zadań wysokiej czystości sprawdziła się technologia quattroClean do piaskowania śnieżnego firmy acp systems, dostosowana do klasy czystości pomieszczenia.

ORK 1 i najwyższe poziomy czystości filmowej są dowodowo osiągalne

Jest to sucha metoda czyszczenia do zastosowań na całych powierzchniach i lokalnych. Medium czyszczące to ciekły dwutlenek węgla, recyklingowany z procesów chemicznych produkcji i pozyskiwania energii z biomasy. Jest on prowadzony przez bezstykowy dwukomorowy pierścień, który podczas wyjścia rozluźnia się do drobnych kryształków śniegu. Kryształy te są skupiane przez oddzielny, pierścieniowy strumień sprężonego powietrza i przyspieszane do prędkości naddźwiękowej. Gdy dobrze skupiony strumień śniegu z powietrzem uderza w powierzchnię do czyszczenia, dochodzi do połączenia efektów termicznych, mechanicznych, rozpuszczalnikowych i sublimacji, na których opiera się działanie czyszczące. Kryształowy dwutlenek węgla sublimuje podczas procesu całkowicie, więc czyszczone powierzchnie pozostają suche. Zanieczyszczenia usunięte są razem z gazem procesowym, co zapobiega ponownemu zanieczyszczeniu elementów i środowiska. Nie ma konieczności stosowania kosztownych i energochłonnych procesów płukania i suszenia.

W szeroko zakrojonych badaniach wykazano, że metodą quattroClean można powtarzalnie osiągnąć wymagania klasy czystości powierzchni (ORK) 1 według VDI 2083, arkusz 9.1:2006 w zakresie cząstek resztkowych. Ponadto, w przypadku już czyszczonych chemicznie elementów, można uzyskać powtarzalną czystość cząstek na poziomie ORK 0,1. W przypadku filmowych pozostałości, wyniki czyszczenia są porównywalne z innymi metodami precyzyjnego czyszczenia, takimi jak czyszczenie chemiczne, plazmowe czy odparowywanie w próżni.

Zrównoważone czyszczenie z certyfikowanym medium Green Screen

W połączeniu z gazem procesowym firmy Linde, skuteczna technologia quattroClean posiada certyfikat Green Screen dla środków czyszczących i odtłuszczaczy od organizacji Clean Production Action. Niezależna, non-profit organizacja stworzyła w ten sposób standard dla środków czyszczących używanych jako chemikalia procesowe w produkcji, szczególnie w przemyśle elektronicznym. Certyfikat potwierdza, że w gazie procesowym nie ma substancji chemicznych szkodliwych dla ludzi i środowiska.

Czystość w pomieszczeniach czystych dla każdej aplikacji

Aby optymalnie dostosować rozwiązanie czyszczące do wymagań i sytuacji produkcyjnej, acp systems oferuje różne systemy bazujące na standardowych modułach oraz indywidualnie projektowane rozwiązania. Wykonanie i wyposażenie w pełni ze stali nierdzewnej jest dostosowane do klasy czystości pomieszczenia. W ten sposób można zapewnić czystość procesu na poziomie 99,995 procent dla czystego dwutlenku węgla oraz jakość 1.2.1 dla sprężonego powietrza zgodnie z ISO 8573-1:2010. W systemie dostarczania czystych mediów do sprężonego powietrza (XCDA) można zintegrować separator gazu, który usuwa śladowe ilości substancji organicznych. Uzyskana jakość powietrza spełnia na przykład wymagania produkcji półprzewodników.

Przykładem jest kompaktowa JetCell z obrotowymi dyszami, która będzie prezentowana na tegorocznej Productronice. Ta elastyczna, gotowa do podłączenia komórka czyszcząca została opracowana do zautomatyzowanego czyszczenia i może być łatwo zintegrowana z liniami produkcyjnymi, na przykład bezpośrednio po maszynie do wycinania lub wtrysku, albo działać jako samodzielne rozwiązanie. Charakteryzuje się wysoką skutecznością czyszczenia przy minimalnym zużyciu mediów. Podczas czyszczenia powierzchni, które może odbywać się jednocześnie od góry i od dołu, zapewniona jest pełna kontrola i monitorowanie procesu, co gwarantuje, że każdy element jest traktowany zgodnie z wcześniej zatwierdzonymi parametrami. Zintegrowane interfejsy umożliwiają podłączenie cyfrowo sterowanego systemu czyszczenia do nadrzędnego systemu zarządzania.

Technikum czystościowe do opracowania i walidacji procesów

Acp systems posiada własne technikum czystościowe, które umożliwia przeprowadzanie prób czyszczenia w zwalidowanym pomieszczeniu klasy ISO 7 z strefami do klasy 5 według ISO 14644-1. Procesy są dokładnie dostosowywane, obejmując parametry takie jak przepływy powietrza i dwutlenku węgla, liczba dysz, zakres i czas strumienia, do konkretnej aplikacji, właściwości materiałów, zanieczyszczeń do usunięcia oraz wymaganego poziomu czystości. Uzyskane wartości można zaprogramować jako indywidualne programy czyszczenia w sterowaniu urządzenia.

Dzięki suchej technologii quattroClean do piaskowania śnieżnego dostępne jest rozwiązanie czyszczące, które pozwala bezpiecznie i skutecznie realizować różnorodne zadania w przemyśle elektronicznym. Jednocześnie metoda ta umożliwia energooszczędne i zasobowo oszczędne uzyskanie wymaganej czystości komponentów elektronicznych, mechanicznych, optycznych i sensorowych.