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Buchta MT-Messtechnik Pfennig Reinigungstechnik GmbH C-Tec

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Solution de positionnement ultra-compacte et de haute précision pour l'exposition de wafers dans une atmosphère d'azote sèche et sans oxygène. (Image : Groupe Steinmeyer)
  • Électronique (wafers, semi-conducteurs, microprocesseurs,...)

Ultrakompakt, haute précision, lubrification à sec, fiable, peu d'entretien

Solution de positionnement innovante pour la lithographie DUV

Pour la lithographie DUV, Steinmeyer a développé sur le site de Dresde, le plus grand centre IKT/microélectronique d'Europe, une solution de positionnement ultracompacte et de haute précision pour l'exposition de wafers en atmosphère sèche, sans oxygène, dans de l'azote. Ce module innovant est conçu…

Représentation du bâtiment terminé avec un étage supplémentaire. © Vetter Pharma International GmbH
  • Emballage

L'augmentation des commandes de projets entraîne une croissance supplémentaire du site

Étape importante pour Vetter à Rankweil, en Autriche : 100 remplissages aseptiques réussis

– Un avenir prometteur pour le site est attendu
– Vetter accélère dynamiquement le développement du site
– Sécurité accrue des processus grâce à une alimentation électrique sans interruption

Vetter, un prestataire de services pharmaceutiques de renommée mondiale, a réussi à achever avec succès les 100…

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