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Soluzione di posizionamento ultracompatta e ad alta precisione per l'esposizione di wafer in un'atmosfera di azoto secco e priva di ossigeno. (Immagine: Gruppo Steinmeyer)
  • Elettronica (wafer, semiconduttori, microchip,...)

Ultracompatto, altissima precisione, lubrificante secco, affidabile, a bassa manutenzione

Soluzione innovativa di posizionamento per la litografia DUV

Per la litografia DUV, Steinmeyer ha sviluppato presso la sede di Dresda, il più grande centro ICT/microelettronica d'Europa, una soluzione di posizionamento ultracompatta e ad alta precisione per l'esposizione di wafer in un'atmosfera di azoto secco e privo di ossigeno. Il modulo innovativo è proge…

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