Nettoyage du CO₂ à l'aide de pompes à membrane
Liquide, hypercritique, gazeux : Nettoyage de wafers en silicium avec du dioxyde de carbone supercritique
La propreté joue un rôle essentiel dans la fabrication des wafers de silicium, afin de garantir une conductivité électrique et un fonctionnement appropriés des circuits intégrés (CI) qui en sont issus. La rugosité de surface des wafers doit être réduite à quelques nanomètres lors de plusieurs étapes…








