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Alle Veröffentlichungen von IMEC Belgium

28nm Pitch Single-Exposure-Strukturierung mit dem MOx-Prozess von Inpria auf einem 0,33NA EUV-Vollfeldscanner nach Ru-Metallisierung. / 28nm pitch single-exposure patterning using Inpria’s MOx process on a 0.33NA EUV full field scanner after Ru metallization.

24nm Pitch-Linien/Abstände, erzielt auf einem 0,33NA NXE:3400B Vollfeldscanner, (links) nach dem Entwickeln und (rechts) nach dem Ätzen auf der kritischen Zielgröße (CD) (uLER = unbiased line-edge roughness). / 24nm pitch line/spaces obtained on a 0.33NA NXE:3400B full field scanner, (left) after developing and (right) after etching on target critical dimension (CD) (uLER = unbiased line-edge roughness).

28nm Kontaktlöcher, erzielt mit einem 0,33NA NXE:3400 Vollfeldscanner, nach dem Entwickeln. / 28nm contact holes obtained on a 0.33NA NXE:3400 full field scanner, after developing.

23.02.2021

Nachgewiesene Korrelation zwischen morphologischen und elektrischen Daten auf 28-nm-Pitch-Linien/-Spaces erhöht das Verständnis der Auswirkungen stochastischer Defekte auf die Zuverlässigkeit/Ausbeute der Bauelemente

Imec treibt die Single-Exposure-Patterning-Fähigkeit von 0,33NA EUVL bis an ihre Grenzen

Diese Woche präsentieren imec, ein weltweit führendes Forschungs- und Innovationszentrum für Nanoelektronik und digitale Technologien, und ASML, der weltweit führende Hersteller von Halbleiterlithografieanlagen, auf der SPIE Advanced Lithography Conference 2021 mehrere Vorträge, die die ultimative F…

23.02.2021

Collaboration zwischen Sarcura und imec zielt auf die Entwicklung einer auf Silizium-Photonik basierenden Zytometrielösung ab, die eine Prozesskontrolle und Manipulation von Zellen in Echtzeit ermöglicht.

SARCURA und imec arbeiten gemeinsam an einer Hochdurchsatz-Zytometrielösung für die automatisierte (T-)Zellseparation, um die Herausforderungen bei der Herstellung von Zell- und Gentherapien anzugehen

Die Sarcura GmbH, ein österreichisches Technologie-Startup im Anfangsstadium, gab heute die Zusammenarbeit mit imec, einem weltweit führenden Forschungs- und Innovationszentrum für Nanoelektronik und digitale Technologien, bekannt. Ziel ist die Entwicklung eines Siliziumchip-basierten Prototyps eine…

Schematische Darstellungen (nicht maßstabsgetreu) von (links) Lloyd's Mirror-Anordnung für High-NA EUV-Interferenz-Coupon-Experimente und (rechts) Interferenzkammer für Full-Wafer-Experimente. / Schematic representations (not to scale) of (left) Lloyd’s Mirror setup for high-NA EUV interference coupon experiments and (right) interference chamber for full-wafer experiments.

(Links) Querschnitts-SEM-Aufnahme eines 20-nm-L/S-Musters auf einem Inpria-Metalloxid-Resist, belichtet in einem Lloyd's-Spiegel-Interferenzaufbau bei einer Dosis von 64mJ/cm2 und einem Interferenzwinkel von 20°. (Rechts) Fourier-Transformationsanalyse, wobei 0,05=20nm Abstand. / (Left) Cross-section SEM image of a 20nm L/S pattern imaged an Inpria metal-oxide resist, exposed in a Lloyd’s mirror interference setup at a dose of 64mJ/cm2 and interference angle 20°. (Right) Fourier transform analysis where 0.05=20nm pitch.

10.02.2021

Das Ergebnis markiert einen wichtigen Meilenstein des AttoLab von imec und KMLabs

Imec präsentiert 20nm Pitch Line/Space Resist Imaging mit High-NA EUV Interferenzlithographie

IImec, ein weltweit führendes Forschungs- und Innovationszentrum für Nanoelektronik und digitale Technologien, meldet erstmals den Einsatz einer 13,5 nm High Harmonic Generator-Quelle für das Printing von Linien/Abständen mit 20 nm Pitch mittels Interferenzlithografie eines Inpria-Metalloxid-Resists…

SWIR-Bilder für 3 verschiedene Pixelabstände. Die Bilder mit der höchsten Auflösung konnten mit dem kleinsten (1,82 µm) Pixelabstand aufgenommen werden. / SWIR images for 3 different pixel pitches. Highest resolution images could be captured with the smallest (1.82 µm) pixel pitch.

Der Dünnfilm-Photodetektor wurde monolithisch auf einer kundenspezifischen Si-CMOS-Ausleseschaltung integriert. (Bildnachweis: Imec) / The thin-film photodetector was monolithically integrated on a custom Si-CMOS readout circuit. (Source: Imec)

08.12.2020

Die monolithische Integration des Dünnfilm-Photodetektors mit der CMOS-Ausleseschaltung bietet einen Weg zur Herstellung auf Wafer-Ebene mit hohem Durchsatz

Imec präsentiert Dünnschicht-Kurzwellen-Infrarot-Bildsensor mit Sub-2-µm-Pixelpitch

Imec, ein weltweit führendes Forschungs- und Innovationszentrum für Nanoelektronik und digitale Technologien, präsentiert den Prototyp eines hochauflösenden Kurzwellen-Infrarot (SWIR)-Bildsensors mit rekordverdächtig kleinem Pixelabstand von 1,82 µm. Er basiert auf einem Dünnfilm-Photodetektor, der…

02.11.2020

Der bahnbrechende Ansatz wird Viruspartikel in ausgeatmeter Luft für schnelle, einfache, bequeme und groß angelegte Tests verwenden

Imec beginnt mit der Entwicklung eines SARS-CoV-2-Tests, um positive Fälle zu identifizieren und in weniger als fünf Minuten zu bestätigen, ob jemand ansteckend ist

Imec, ein weltweit führendes Forschungs- und Innovationszentrum für Nanoelektronik und digitale Technologien, gab bekannt, dass es mit der Entwicklung eines bahnbrechenden SARS-CoV-2-Tests begonnen hat. Im Gegensatz zu derzeitigen Ansätzen (mit Blut, Speichel oder einem Nasen-Rachen-Abstrich) wird d…

25.06.2020

Deltaray ermöglicht Null-Fehler-Produktion

Deltaray, ein Spin-off der Universität Antwerpen und imec - ein weltweit führendes Forschungs- und Innovationszentrum in Nanoelektronik und digitalen Technologien - bringt die Qualitätskontrolle mit der Einführung seiner 'Accelerated 3D XRAY'-Technologie auf die nächste Stufe. Die Lösung von Deltara…

19.01.2020

Evonetix arbeitet mit imec zusammen, um die Produktion der Chip-basierten Technologie für die DNA-Syntheseplattform der dritten Generation zu erweitern

EVONETIX LTD ('Evonetix'), das Unternehmen für synthetische Biologie, das eine Desktop-Plattform für skalierbare, hochauflösende und schnelle Gensynthese entwickelt, gab heute bekannt, dass es eine Partnerschaft mit imec, einem weltweit führenden Forschungs- und Innovationszentrum, das in den Bereic…

Groundbreaking idea of the NOTICE project is to use a novel stable oxide material as the basis for both the superconductor and topological insulator material. At the epitaxial interface, Majorana fermions – building blocks for fault-tolerant qubits – will be generated.

11.12.2019

Renommierter europäischer ERC-Sonderpreis für Clement Merckling von imec für die Entwicklung fehlertoleranter Qubits vergeben

Imec, eine der weltweit führenden Forschungs- und Innovationszentren für Nanoelektronik und digitale Technologien, gibt heute bekannt, dass der Europäische Forschungsrat Clement Merckling, Abteilungsleiter bei imec, einen Consolidator Grant für die Ausarbeitung seines Projekts NOTICE gewährt hat.

Die…

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