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Tutte le pubblicazioni di IMEC Belgium

Strutturazione a singola esposizione con passo di 28 nm utilizzando il processo MOx di Inpria su uno scanner EUV a campo completo con NA 0,33 dopo metallizzazione Ru. / 28nm pitch single-exposure patterning using Inpria’s MOx process on a 0.33NA EUV full field scanner after Ru metallization.

Pitch-linee/spazi di 24 nm ottenuti su uno scanner a campo completo NXE:3400B con NA 0,33, (a sinistra) dopo lo sviluppo e (a destra) dopo l'etching sulla dimensione critica obiettivo (CD) (uLER = rugosità del bordo della linea senza bias).

Fori di contatto da 28nm, ottenuti con uno scanner a campo completo NXE:3400 con NA 0,33, dopo lo sviluppo.

23.02.2021

Correlazione dimostrata tra dati morfologici ed elettrici su linee/spazi a passo di 28 nm aumenta la comprensione degli effetti dei difetti stocastici sulla affidabilità / resa dei componenti

Imec spinge la capacità di patterning a esposizione singola di 0,33NA EUVL ai suoi limiti

Questa settimana imec, un centro di ricerca e innovazione leader a livello mondiale nel campo della nanoelettronica e delle tecnologie digitali, e ASML, il produttore mondiale di impianti di litografia a semiconduttori, presenteranno alla SPIE Advanced Lithography Conference 2021 diversi interventi…

23.02.2021

Collaborazione tra Sarcura e imec mira allo sviluppo di una soluzione citometrica basata sulla fotonica di silicio, che consenta il controllo e la manipolazione dei processi cellulari in tempo reale.

SARCURA e imec collaborano su una soluzione di citometria ad alta produttività per la separazione automatizzata di cellule (T), affrontando le sfide nella produzione di terapie cellulari e geniche

La Sarcura GmbH, una startup tecnologica austriaca in fase iniziale, ha annunciato oggi la collaborazione con imec, un centro di ricerca e innovazione leader a livello mondiale nel campo della nanoelettronica e delle tecnologie digitali. L'obiettivo è lo sviluppo di un prototipo di cytometro basato…

Rappresentazioni schematiche (non a scala) di (a sinistra) configurazione Lloyd's Mirror per esperimenti di coupon di interferenza EUV ad alta NA e (a destra) camera di interferenza per esperimenti su wafer completi.

Rappresentazioni schematiche (non a scala) di (sinistra) configurazione Lloyd's Mirror per esperimenti di coupon di interferenza EUV ad alta NA e (destra) camera di interferenza per esperimenti su wafer completi.

(Links) Immagine SEM in sezione trasversale di un motivo L/S di 20 nm su un resist a base di ossido di metallo Inpria, esposto in un sistema di interferenza a specchio di Lloyd a una dose di 64 mJ/cm² e un angolo di interferenza di 20°. (Destra) Analisi di trasformata di Fourier, dove 0,05 = 20 nm di passo.

10.02.2021

Il risultato segna una pietra miliare importante di AttoLab di imec e KMLabs

Imec presenta l'imaging di linee/spazi a passo di 20 nm con litografia a interferenza EUV ad alta NA

Imec, un centro di ricerca e innovazione leader a livello mondiale per la nanoelettronica e le tecnologie digitali, annuncia per la prima volta l'impiego di una sorgente di Generatore di Armoniche Alte a 13,5 nm per la stampa di linee/distanze con passo di 20 nm mediante litografia a interferenza di…

Immagini SWIR per 3 diverse distanze tra pixel. Le immagini con la risoluzione più alta sono state acquisite con la distanza tra pixel più piccola (1,82 µm). / SWIR images for 3 different pixel pitches. Highest resolution images could be captured with the smallest (1.82 µm) pixel pitch.

Il rivelatore fotodetettore a film sottile è stato integrato monoliticamente su un circuito di lettura Si-CMOS personalizzato. (Fonte: Imec)

08.12.2020

L'integrazione monolitica del rivelatore fotodiodico a film sottile con il circuito di lettura CMOS offre una strada per la produzione a livello di wafer con alta produttivit�

Imec presenta un sensore di immagine a infrarossi a onde corte a strato sottile con passo pixel inferiore a 2 µm

Imec, un centro mondiale leader nella ricerca e innovazione per la nanoelettronica e le tecnologie digitali, presenta il prototipo di un sensore di immagine a infrarossi a onde corte (SWIR) ad alta risoluzione con una distanza tra pixel record di 1,82 µm. Si basa su un fotodetector a film sottile, i…

02.11.2020

Il metodo innovativo utilizzerà particelle virali nell'aria espirata per test rapidi, semplici, comodi e di grande portata

Imec inizia lo sviluppo di un test SARS-CoV-2 per identificare i casi positivi e confermare in meno di cinque minuti se qualcuno è contagioso

Imec, un centro di ricerca e innovazione leader a livello mondiale nel campo della nanoelettronica e delle tecnologie digitali, ha annunciato di aver iniziato lo sviluppo di un test rivoluzionario per SARS-CoV-2. A differenza degli attuali metodi (con sangue, saliva o un tampone naso-faringeo), il n…

25.06.2020

Deltaray consente la produzione senza errori

Deltaray, uno spin-off dell'Università di Anversa e di imec - un centro di ricerca e innovazione leader mondiale in nanoelettronica e tecnologie digitali - porta il controllo qualità al livello successivo con l'introduzione della sua tecnologia 'Accelerated 3D XRAY'. La soluzione di Deltaray permett…

19.01.2020

Evonetix collabora con imec per espandere la produzione della tecnologia basata su chip per la piattaforma di sintesi del DNA di terza generazione

EVONETIX LTD ('Evonetix'), l'azienda di biologia sintetica che sviluppa una piattaforma desktop per la sintesi genica scalabile, ad alta risoluzione e veloce, ha annunciato oggi di aver stretto una partnership con imec, un centro di ricerca e innovazione leader a livello mondiale, attivo nei settori…

L'idea innovativa del progetto NOTICE è quella di utilizzare un nuovo materiale stabile di ossido come base sia per il superconduttore che per il materiale isolante topologico. All'interfaccia epitassiale, verranno generati fermioni di Majorana – elementi costitutivi per qubit tolleranti ai guasti –.

11.12.2019

Premio speciale ERC europeo di rilievo per Clement Merckling di imec per lo sviluppo di qubit tolleranti agli errori

Imec, uno dei centri di ricerca e innovazione leader a livello mondiale nel campo della nanoelettronica e delle tecnologie digitali, annuncia oggi che il Consiglio Europeo della Ricerca ha concesso a Clement Merckling, responsabile di dipartimento presso imec, un Consolidator Grant per lo sviluppo d…

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