Új év, új munka? Nézze meg az ajánlatokat! Több ...
Vaisala ClearClean Pfennig Reinigungstechnik GmbH Becker
reinraum online
Német Angol Francia Magyar Lengyel Cseh Olasz Spanyol Holland

Összes publikáció: IMEC Belgium

28nm-es pitch egyexposíciós struktúrázás az Inpria MOx folyamatával egy 0,33NA EUV teljes mező szkenneren Ru-fémesítés után. / 28nm-es pitch egyexposíciós mintázás az Inpria MOx folyamatával egy 0,33NA EUV teljes mező szkenneren Ru-fémesítés után. 24nm-es léptékű vonalak/távolságok, egy 0,33NA NXE:3400B teljes mező szkenneren mérve, (balra) a fejlesztés után és (jobbra) az etetés után a kritikus céldimenzió (CD) mentén (uLER = elfogulatlan vonalszegély durvaság). 28nm kontaktnyílások, elérve egy 0,33NA NXE:3400 teljes mező szkenneren, a fejlesztés után. / 28nm contact holes obtained on a 0.33NA NXE:3400 full field scanner, after developing.

Bizonyított korreláció a morfológiai és elektromos adatok között 28 nm-es léptékű vonalak/távolságok esetén növeli az ismereteket a stochasztikus hibák hatásairól az alkatrészek megbízhatóságára/hozamára

Imec kihasználja a 0,33NA EUVL egyszeri expozíciós mintázási képességét a határaiig

Ebben a héten az imec, egy világszerte vezető kutatási és innovációs központ a nanóelektronikában és digitális technológiákban, valamint az ASML, a világ vezető félvezető litográfiai berendezéseket gyártó vállalata, több előadást mutat be a SPIE Advanced Lithography Conference 2021-en, amelyek demon…

Az Sarcura és az imec közötti együttműködés célja egy szilícium-fotonikán alapuló citometria megoldás kifejlesztése, amely lehetővé teszi a folyamatok irányítását és a sejtek valós idejű manipulálását.

SARCURA és az imec közösen dolgozik egy magas átviteli sebességű citometria-eljáráson alapuló automatikus (T-)sejt szétválasztási megoldáson, hogy kezelje a sejtes és génterápiák gyártásával kapcsolatos kihívásokat

A Sarcura GmbH, egy kezdő szakaszában lévő osztrák technológiai startup, ma bejelentette együttműködését az imec-kel, amely egy világszerte vezető kutatási és innovációs központ a nanoelektronika és digitális technológiák területén. A cél egy szilíciumchip-alapú prototípus kifejlesztése egy citométe…
Sémaatikus ábrák (nem méretarányosak) (balra) Lloyd tükör elrendezése magas NA EUV interferencia kupon kísérletekhez és (jobbra) interferencia kamra teljes lapkás kísérletekhez. Sématikus ábrák (nem méretarányos) (balra) Lloyd tükör elrendezése magas-NA EUV interferencia kuponkísérletekhez és (jobbra) interferenciamedence teljes lapkás kísérletekhez. / Sématikus ábrák (nem méretarányos) (balra) Lloyd tükör elrendezése magas-NA EUV interferencia kuponkísérletekhez és (jobbra) interferenciamedence teljes lapkás kísérletekhez. (Links) Querschnitts-SEM-Aufnahme eines 20-nm-L/S-Musters auf einem Inpria-Metalloxid-Resist, belichtet in einem Lloyd's-Spiegel-Interferenzaufbau bei einer Dosis von 64mJ/cm2 und einem Interferenzwinkel von 20°. (Rechts) Fourier-Transformationsanalyse, wobei 0,05=20nm Abstand. / (Balra) Átfogó SEM-kép egy 20 nm-es L/S mintáról, amelyet Inpria fém-oxid ellenálláson készítettek Lloyd-féle tükör interferencia beállításban, 64 mJ/cm2 dózissal és 20°-os interferencia szöggel. (Jobbra) Fourier-transzformációs elemzés, ahol 0,05=20 nm-es lépték.

Az eredmény egy fontos mérföldkő az AttoLab, az imec és a KMLabs számára

Imec bemutatja a 20 nm-es Pitch Line/Space Ellenőrző Képalkotás High-NA EUV Interferencia-litográfiával

Az imec, egy világszerte vezető kutatási és innovációs központ a nanoelektronikában és a digitális technológiákban, elsőként jelentette be egy 13,5 nm-es High Harmonic Generator-Forrás alkalmazását vonalak/távolságok nyomtatására 20 nm-es pitch-csel interferencia-litográfiával, egy Inpria-fémoxid-el…
SWIR-képek 3 különböző pixelközökkel. A legnagyobb felbontású képek a legkisebb (1,82 µm) pixelközökkel készültek. / SWIR képek 3 különböző pixelközökkel. A legmagasabb felbontású képeket a legkisebb (1,82 µm) pixelközökkel lehetett rögzíteni. A vékonyfilm-fotodetektor monolitikusan integrálva volt egy egyedi Si-CMOS olvasóráccsal. (Kép forrása: Imec) / The thin-film photodetector was monolithically integrated on a custom Si-CMOS readout circuit. (Source: Imec)

A vékonyfilm-fotodetektor monolitikus integrációja a CMOS-olvasó áramkörrel magas átviteli sebességű szilíciumlapkán történő gyártási útvonalat kínál

Imec bemutatja a vékonyrétegű rövidhullámú infravörös képérzékelőt, amelynek pixelközötti mérete kevesebb, mint 2 µm

Az imec, egy világszerte vezető kutatási és innovációs központ a nanoelektronikában és digitális technológiákban, bemutatja egy nagyfelbontású rövidhullámú infravörös (SWIR) képérzékelő prototípusát, rekordkicsi pixelközökkel, mindössze 1,82 µm-es pixelközökkel. Ez egy vékonyfilm-fotodetektorra alap…

A forradalmi megközelítés vírusrészecskéket fog használni a kilélegzett levegőben gyors, egyszerű, kényelmes és nagyszabású tesztekhez

Imec megkezdi egy SARS-CoV-2 teszt fejlesztését, hogy azonosítsa a pozitív eseteket, és kevesebb mint öt perc alatt megerősítse, hogy valaki fertőző-e

Imec, egy világszerte vezető kutatási és innovációs központ a nanoelektronika és digitális technológiák terén, bejelentette, hogy megkezdte egy úttörő SARS-CoV-2 teszt fejlesztését. A jelenlegi megközelítésekkel (vér, nyál vagy orr-garat tampon) szemben az új teszt a kilélegzett levegőben azonosítja…

Az Evonetix az imec-kel működik együtt, hogy bővítse a harmadik generációs DNS-szintézis platformhoz szükséges chip-alapú technológia gyártását

EVONETIX LTD („Evonetix”), a szintetikus biológia területén működő vállalat, amely egy asztali platformot fejleszt a skálázható, nagy felbontású és gyors génszintézishez, ma bejelentette, hogy partnerséget kötött az imec-kel, egy világszerte vezető kutatási és innovációs központtal, amely a nanoelek…
Betekintés a HÍRLEVELEK-be

Jobban tájékozott: ÉVKÖNYV, HÍRLEVÉL, NEWSFLASH, NEWSEXTRA és SZAKÉRTŐI JEGYZÉK

Maradjon naprakész, és iratkozzon fel havi e-mail hírlevelünkre, valamint a NEWSFLASH-ra és a NEWSEXTRA-ra. Emellett nyomtatott ÉVKÖNYVÜNKBŐL is tájékozódhat arról, mi történik a tisztaterek világában. És jegyzékünkből megtudhatja, kik a tisztatér SZAKÉRTŐI.

Hydroflex Systec & Solutions GmbH PMS Berner International GmbH