Neues Jahr, neuer Job? Zu den Angeboten! Mehr ...
ClearClean MT-Messtechnik Piepenbrock Hydroflex



Alle Veröffentlichungen zur Rubrik Elektronik (Wafer, Halbleiter, Mikrochips,...)

Der Reinraum von Imec bildet die Grundlage für die PDKs von NanoIC, die auf 2-nm-Prozessabläufen basieren. / Imec’s cleanroom provides the foundation for NanoIC’s PDKs, based on 2 nm process flows.
  • Workshop / Lehrgang

Umfangreiches Update des Pathfinding N2 P-PDK von NanoIC ermöglicht Forschern und Entwicklern, sich mit vollständigen SoC-Architekturen vertraut zu machen und Innovationen voranzutreiben.

NanoIC erweitert sein bahnbrechendes N2-PDK um fortschrittliche SRAM-Speichermakros

Diese Woche kündigt die NanoIC-Pilotlinie, eine von imec koordinierte europäische Initiative zur Beschleunigung von Innovationen im Bereich der Chip-Technologien jenseits von 2 nm, auf der SEMICON Europe die Veröffentlichung des N2 P-PDK v1.0 an, einem wichtigen Update ihres N2 Pathfinding Process D…

  • Wissenschaft

AIXTRON tritt 300-mm-GaN-Forschungsprogramm mit Hyperion 300 mm Anlage bei Herzogenrath, 7. Oktober 2025 – AIXTRON SE (FSE: AIXA) beteiligt sich als einer der ersten Partner mit seinem Hyperion GaN-MOCVD-System an einem 300-mm-GaN-Programm für Leistungs

AIXTRON tritt 300-mm-GaN-Forschungsprogramm mit Hyperion 300 mm Anlage bei

AIXTRON SE (FSE: AIXA) beteiligt sich als einer der ersten Partner mit seinem Hyperion GaN-MOCVD-System an einem 300-mm-GaN-Programm für Leistungselektronik. Das Hyperion-System wird genutzt, um 300 mm Epitaxiewafer für das Programm und dessen Partner bereitzustellen und damit die Entwicklung von Ni…

4-Zoll-GaN-auf-SiC-Wafer der GaN07-Technologie des Fraunhofer IAF. Die Wafer werden vollständig in der hauseigenen Halbleiterlinie hergestellt und getestet ¬ einschließlich Design, Epitaxie, Waferverarbeitung und Charakterisierung. © Fraunhofer IAF / Frontside processed 4-inch GaN-on SiC wafer of Fraunhofer IAF´s GaN07 technology. The wafers are completely fabricated and tested in Fraunhofer IAF´s III-V process line including design and fabrication of processing mask sets, epitaxy, wafer processing and characterization. © Fraunhofer IAF
  • Know How, Institut

EuMW 2025: Fraunhofer IAF stellt 70-nm-GaN-Transistor für High-Throughput-Satelliten vor

Halbleiter-Technologie für Breitband-Satellitenkommunikation erreicht Rekord-Effizienz

Forschende des Fraunhofer IAF haben eine GaN-Transistor-Technologie mit 70 nm Gatelänge entwickelt, die unter satellitentypischen Bedingungen Rekordwerte hinsichtlich der Effizienz erreicht. Die Technologie soll zukünftig kompakte Aktivantennen für hochbitratige Datentransfers im Ka-, Q- und W-Band…

Qualitätsuntersuchungen im Wafer-Herstellungsprozess. © Fraunhofer IPMS / Quality inspection in the wafer manufacturing process. © Fraunhofer IPMS
  • Reinstmedien (Wasser, Gase, ...)

Reines Wasser für eine nachhaltige Halbleiterproduktion

Fraunhofer IPMS, AlixLabs und NSS Water revolutionieren das nachhaltige Reinstwasser-Management in der Halbleiterfertigung

AlixLabs und NSS Water geben eine strategische Zusammenarbeit zur Entwicklung nachhaltiger und kosteneffizienter Lösungen für das Reinstwasser-Management (dt. für ultra-pure water, UWP) in der Chip-Produktion bekannt. Aufgrund zunehmender Besorgnis über den ständig steigenden Wasserverbrauch der Hal…

Besser informiert: Mit JAHRBUCH, NEWSLETTER, NEWSFLASH, NEWSEXTRA und EXPERTEN VERZEICHNIS

Bleiben Sie auf dem Laufenden und abonnieren Sie unseren monatlichen eMail-NEWSLETTER und unseren NEWSFLASH sowie NEWSEXTRA. Lassen Sie sich zusätzlich mit unserem gedruckten JAHRBUCH darüber informieren, was in der Welt der Reinräume passiert. Und erfahren Sie mit unserem Verzeichnis, wer die EXPERTEN im Reinraum sind.

Pfennig Reinigungstechnik GmbH Vaisala Becker Systec & Solutions GmbH