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Todas las publicaciones de la rúbrica Electrónica ( obleas, semiconductores, microchips,...)

El sala limpia de Imec sienta las bases para los PDKs de NanoIC, basados en procesos de 2 nm. / El sala limpia de Imec proporciona la base para los PDKs de NanoIC, basados en procesos de 2 nm.
  • Taller / Curso

Actualización exhaustiva del Pathfinding N2 P-PDK de NanoIC que permite a investigadores y desarrolladores familiarizarse con arquitecturas completas de SoC y promover innovaciones.

NanoIC amplía su innovador N2-PDK con macros de memoria SRAM avanzados

Esta semana, la línea de producción NanoIC-Pilotlinie, una iniciativa europea coordinada por imec para acelerar la innovación en tecnologías de chips más allá de 2 nm, anuncia en SEMICON Europe la publicación del N2 P-PDK v1.0, una actualización importante de su Kit de Diseño de Procesos de Búsqueda…

Vera de 4 pulgadas de GaN sobre obleas de SiC de la tecnología GaN07 del Fraunhofer IAF. Las obleas se fabrican y prueban completamente en la línea de semiconductores interna de la institución, incluyendo diseño, epitaxia, procesamiento de obleas y caracterización. © Fraunhofer IAF / Oblea de 4 pulgadas de GaN sobre SiC procesada por la parte frontal de la tecnología GaN07 del Fraunhofer IAF. Las obleas se fabrican y prueban completamente en la línea de procesos III-V del Fraunhofer IAF, incluyendo el diseño y la fabricación de conjuntos de máscaras de procesamiento, epitaxia, procesamiento de obleas y caracterización. © Fraunhofer IAF
  • Conocimientos, Instituto

EuMW 2025: Fraunhofer IAF presenta transistor GaN de 70 nm para satélites de alto rendimiento

Tecnología de semiconductores para comunicaciones satelitales de banda ancha alcanza una eficiencia récord

Investigadores del Fraunhofer IAF han desarrollado una tecnología de transistores de GaN con una longitud de puerta de 70 nm, que alcanza valores récord en eficiencia bajo condiciones típicas de satélites. Se espera que esta tecnología permita en el futuro antenas activas compactas para transferenci…

Inspección de calidad en el proceso de fabricación de obleas. © Fraunhofer IPMS / Quality inspection in the wafer manufacturing process. © Fraunhofer IPMS
  • Medios de reinstalación (agua, gases, ...)

Agua pura para una producción de semiconductores sostenible

Fraunhofer IPMS, AlixLabs y NSS Water revolucionan la gestión sostenible del agua pura en la fabricación de semiconductores

AlixLabs y NSS Water anuncian una colaboración estratégica para el desarrollo de soluciones sostenibles y rentables para la gestión del agua ultrapura (en alemán, ultra-pure water, UWP) en la producción de chips. Debido a la creciente preocupación por el constante aumento en el consumo de agua de la…

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