Rozbudowa lokalizacji półprzewodników w Itzehoe

Rozbudowa lokalizacji półprzewodników w Itzehoe

Instytut Fraunhofer dla technologii krzemu ISIT jest jednym z wiodących i najnowocześniejszych ośrodków badawczych na świecie w dziedzinie mikrosystemów i mikroelektroniki. Z finansowym wsparciem ze strony rządu landowego, Fraunhofer ISIT jest intensywnie rozbudowywany i modernizowany. Premier Peter Harry Carstensen dziś (15 czerwca) przekazał kierownikowi ISIT, prof. Wolfgangowi Benecke, w obecności licznych przedstawicieli nauki, przemysłu i polityki, ostateczne decyzje o dofinansowaniu ze strony landu w wysokości 27,45 miliona euro na budowę kolejnego budynku na terenie ISIT z pomieszczeniami czystymi, laboratoriami i biurami. Ta nowoczesna infrastruktura będzie wykorzystywana wspólnie z partnerami przemysłowymi do opracowywania zaawansowanych procesów i elementów mikrosystemów.

Budowa ta usunie istniejące wąskie gardła i stworzy nowe możliwości współpracy przemysłowej. Całkowity koszt planowanej inwestycji wynosi 36,6 miliona euro, z czego 9,15 miliona euro zainwestuje społeczność Fraunhofer w ten projekt.

Plany rozbudowy trwają od 2009 roku. W 2010 roku zarząd budynków Schleswig-Holstein (GMSH) zatwierdził i sprawdził projekt budowlany. Również miasto Itzehoe szybko wydało niezbędne pozwolenia na budowę. Obecnie rozpoczęły się prace przygotowawcze do urządzenia placu budowy, a przetargi na wykonanie prac budowlanych są od teraz regularnie publikowane. Planowane ukończenie kompleksu to 2012 rok.

Serce nowego, czteropiętrowego budynku stanowi obszar czystego pomieszczenia oraz laboratoria na poziomie 2, które później mogą zostać przekształcone w pomieszczenia czyste. Nad tym piętrem znajdują się dodatkowe poziomy. Dwa piętra nad pomieszczeniem czystym służą do przygotowania powietrza: na poziomie 4, w centralnej stacji powietrza, będą zainstalowane wszystkie urządzenia wentylacyjne. Na poziomie 3 powietrze będzie przepuszczane przez filtry precyzyjne i następnie kierowane do pomieszczenia czystego. Poziom 1, znajdujący się pod pomieszczeniem czystym, służy do dystrybucji niezbędnych mediów do urządzeń obróbczych oraz do systemów odzysku powietrza w specjalnych systemach na fasadzie. Podziemny poziom 0 zawiera wszystkie niezbędne instalacje techniczne do zaopatrzenia i odprowadzania odpadów z pomieszczenia czystego, takie jak centrala elektryczna czy magazyn chemikaliów. W sumie w nowym budynku powstanie 1000 m² przestrzeni czystej i 500 m² laboratoriów oraz biura dla 44 pracowników. Budynek będzie połączony z istniejącym już laboratorium za pomocą mostu.

Nowy budynek laboratorium i pomieszczeń czystych zostanie przekształcony z istniejącego zewnętrznego terenu na terenie ISIT wraz z utworzonym stawem przeciwpożarowym w atrakcyjny dziedziniec. Architekci i planiści budowlani wymyślili coś wyjątkowego dla elewacji. Jest ona zaprojektowana w jednolitym rzędzie i przypomina struktury na waflu krzemu. Duże, jednolite elementy elewacji są wyposażone w podstruktury w formie perforowanych elementów fasady. Nowy budynek będzie się prezentował jako nowy, wyrazisty znak dla ISIT, naprzeciwko wejścia na działkę.

Stały rosnący popyt na usługi badawczo-rozwojowe, szczególnie w zakresie elektromobilności i efektywnego wykorzystania energii elektrycznej, doprowadził na ISIT do sytuacji, w której konieczna jest rozbudowa. W ciągu lat zwiększyła się liczba urządzeń w pomieszczeniach czystych, korytarze zostały przekształcone w laboratoria czyste, w podziemiach starego budynku czystego pomieszczenia zainstalowano tymczasowe laboratoria i przestrzenie czyste, a biura na parterze zostały przekształcone w laboratoria. Wynajęto również zewnętrzne magazyny na tymczasowe przechowywanie urządzeń i części zamiennych. Wielu pracowników musiało przeprowadzić się do kontenerów biurowych.

Inwestycja ta ma na celu kontynuację sukcesu ISIT, z którego korzysta również Schleswig-Holstein. W niemal dwadzieścia lat działalności w Itzehoe instytut zbudował stabilną bazę klientów liczącą ponad 350 firm, z czego około 50 pochodzi z Schleswig-Holstein. Powstało 500 miejsc pracy, a do tej pory zainwestowano ponad 200 mln euro w przemysłowe inwestycje pochodne.

Rozpoczynająca się rozbudowa ISIT jest ściśle związana z modernizacją całej technologii, rozpoczętą również w 2009 roku, która jest obecnie niemal w pełni ukończona. W szczególności zainstalowano nowe urządzenia produkcyjne umożliwiające obróbkę dużych, 200 mm krzemowych wafli, zamiast dotychczas używanych wafli o średnicy 150 mm. Dzięki tej platformie technologicznej ISIT posiada jedne z najbardziej nowoczesnych na świecie ośrodków badawczo-rozwojowych i jest bardzo dobrze przygotowany do dalszej, udanej współpracy z firmami i instytucjami w dziedzinie mikro- i nanosystemów.

Znaczenie rozpoczynającej się rozbudowy dla instytutu podkreśla kierownik ISIT, profesor Wolfgang Benecke: „Nowe możliwości technologiczne doprowadzą do kolejnych dwustronnych projektów przemysłowych i projektów finansowanych ze środków publicznych. Dla ISIT pojawiają się dobre szanse na dalszy wzrost zatrudnienia w Itzehoe, wykraczający poza rozbudowę ISIT.”

Zdjęcie: Widok modelowy planowanego nowego budynku laboratorium, biur i pomieszczeń czystych w Fraunhoferze ISIT. Inspiracją dla projektu elewacji są struktury na waflu krzemu.