Espansione del sito dei semiconduttori di Itzehoe

Sviluppo del sito dei semiconduttori di Itzehoe

Il Fraunhofer Institute for Silicon Technology ISIT è uno dei centri di ricerca più avanzati e all'avanguardia nel mondo nel settore della microtecnica e della microelettronica. Con il supporto finanziario del governo regionale, il Fraunhofer ISIT viene ampliato e modernizzato in modo massiccio. Il Presidente del Consiglio, Peter Harry Carstensen, ha consegnato oggi (15 giugno) al responsabile dell'ISIT, Prof. Wolfgang Benecke, alla presenza di numerosi rappresentanti della scienza, dell'economia e della politica, la comunicazione finale di finanziamento del governo regionale di 27,45 milioni di euro per la costruzione di un ulteriore edificio nel sito dell'ISIT con ambienti di sala bianca, laboratori e uffici. Questa infrastruttura moderna sarà utilizzata dall'ISIT insieme ai partner industriali per sviluppare processi avanzati e componenti della microtecnica.

Con la costruzione si eliminano le strozzature esistenti e si creano nuove possibilità di cooperazione industriale. L'entità complessiva dell'investimento pianificato ammonta a 36,6 milioni di euro, di cui 9,15 milioni di euro sono investiti dalla società Fraunhofer in questo progetto.

I piani per l'espansione sono in corso dal 2009. Nel 2010, la gestione degli edifici dello Schleswig-Holstein (GMSH) ha esaminato e approvato il progetto edilizio. Anche la città di Itzehoe ha rapidamente rilasciato le necessarie autorizzazioni edilizie. Ora sono iniziati i lavori preparatori per l'allestimento del cantiere e le gare d'appalto per le prestazioni di costruzione vengono pubblicate regolarmente da subito. La conclusione del complesso è prevista per il 2012.

Il cuore del nuovo edificio di 4 piani è l'ambiente della sala bianca e i laboratori che in seguito potranno essere riutilizzati come sala bianca al livello 2. Attorno a questo piano si sviluppano gli altri livelli necessari. I due piani sopra la sala bianca sono dedicati alla preparazione dell'aria: al livello 4, la centrale dell'aria ambiente, vengono installate tutte le apparecchiature di ventilazione. Al livello 3 sottostante, l'aria viene soffiata attraverso filtri fini e successivamente condotta nella sala bianca. Il livello 1 sotto la sala bianca serve alla distribuzione dei mezzi necessari alle apparecchiature di lavorazione e al ricircolo dell'aria tramite sistemi speciali nel settore delle facciate. Il seminterrato al livello 0 contiene tutte le apparecchiature tecniche necessarie per l'approvvigionamento e lo smaltimento della sala bianca, come il centro elettrico o il magazzino delle sostanze chimiche. Complessivamente, nel nuovo edificio si prevedono 1000 m² di sala bianca e 500 m² di laboratori, oltre a uffici per 44 dipendenti. L'edificio sarà collegato tramite un ponte al complesso di laboratori già esistente.

Con il nuovo edificio di laboratori e sale bianche, l'area esterna esistente nel sito dell'ISIT, insieme a un stagno antincendio, sarà trasformata in un cortile attraente. I progettisti e gli architetti hanno ideato qualcosa di speciale per la facciata. È progettata con una griglia uniforme e ricorda le strutture di un wafer di silicio. I grandi elementi della facciata sono dotati di una sottostruttura a forma di elementi di facciata forati. La nuova struttura si presenterà come un segno distintivo per l'ISIT di fronte all'ingresso del sito.

La domanda in costante crescita di servizi di R&S, soprattutto nei settori della mobilità elettrica e dell'uso efficiente dell'energia elettrica, ha portato negli anni a una congestione presso l'ISIT nel campo della microtecnica, dell'elettronica di potenza e delle tecnologie di accumulo energetico, rendendo urgente un'espansione. Così, la disposizione delle apparecchiature nel sala bianca è stata continuamente intensificata, gli spazi dei corridoi sono stati trasformati in laboratori di sala bianca, nei seminterrati del vecchio edificio di sala bianca sono stati installati laboratori provvisori e aree di sala bianca, gli uffici al piano terra sono stati convertiti in laboratori e sono stati affittati spazi di magazzino esterni per lo stoccaggio temporaneo di apparecchiature e pezzi di ricambio. Molti dipendenti sono stati trasferiti in container ufficio.

Con questo investimento si intende proseguire la storia di successo dell'ISIT, dalla quale ha beneficiato anche Schleswig-Holstein. In quasi vent'anni di attività a Itzehoe, l'istituto ha costruito una clientela stabile di oltre 350 aziende, di cui circa 50 provenienti da Schleswig-Holstein. Sono stati creati 500 posti di lavoro sul posto e sono stati investiti oltre 200 milioni di euro in investimenti industriali successivi.

L'espansione dell'ISIT appena avviata è strettamente collegata anche alla modernizzazione dell'intera tecnologia iniziata anch'essa nel 2009, ormai quasi completata. Sono state installate principalmente nuove linee di produzione che consentono di lavorare grandi dischi di silicio (wafer) da 200 mm di diametro, rispetto ai wafer da 150 mm utilizzati fino ad allora. Con questa piattaforma tecnologica, l'ISIT dispone di una delle strutture di R&S più moderne a livello internazionale ed è quindi molto ben posizionato per future collaborazioni di successo con aziende e istituzioni nel campo della micro e nanosistemica.

Il significato dell'espansione in corso per l'istituto viene sottolineato dal responsabile dell'ISIT, Professor Wolfgang Benecke: "Le nuove opportunità tecnologiche porteranno a ulteriori progetti industriali bilaterali e a progetti finanziati pubblicamente. Per l'ISIT si aprono buone possibilità di un ulteriore aumento dell'occupazione a Itzehoe oltre l'espansione dell'ISIT stesso."

Immagine: Vista modellata del nuovo edificio previsto per laboratori, uffici e sala bianca presso il Fraunhofer ISIT. Ispirazione per il design della facciata sono le strutture di un wafer di silicio.