Expansión del centro de semiconductores en Itzehoe

Desarrollo del sitio de semiconductores en Itzehoe

El Instituto Fraunhofer para Tecnología de Silicio ISIT es una de las instituciones de investigación líderes y más modernas a nivel mundial en el campo de la microsistemas y la microelectrónica. Con el apoyo financiero del gobierno del estado, el Fraunhofer ISIT será ampliado y modernizado de manera significativa. El primer ministro Peter Harry Carstensen entregó hoy (15 de junio) al director del ISIT, Prof. Wolfgang Benecke, en presencia de numerosos representantes de la ciencia, la economía y la política, la resolución definitiva de financiación del gobierno del estado por un monto de 27,45 millones de euros para la construcción de un edificio adicional en las instalaciones del ISIT con salas limpias, laboratorios y oficinas. Esta infraestructura moderna será utilizada conjuntamente por el ISIT y socios industriales para desarrollar procesos y componentes avanzados de la microsistemas.

Con la construcción se eliminarán los cuellos de botella existentes y se crearán nuevas oportunidades para la cooperación industrial. El alcance total de la inversión planificada asciende a 36,6 millones de euros, de los cuales la Sociedad Fraunhofer invertirá 9,15 millones de euros en este proyecto.

Los planes para la expansión se han estado gestando desde 2009. En 2010, la gestión de edificios de Schleswig-Holstein (GMSH) revisó y aprobó el plan de construcción. La ciudad de Itzehoe también otorgó rápidamente los permisos de construcción necesarios. Ahora, han comenzado los trabajos preparatorios para la instalación del sitio de construcción y se publicarán licitaciones para trabajos de construcción de forma continua a partir de ahora. Se prevé que el complejo esté terminado en 2012.

El corazón del nuevo edificio de 4 pisos es la zona de salas limpias y los laboratorios que podrán ser reutilizados como salas limpias en el nivel 2. Alrededor de este piso se distribuyen los niveles adicionales necesarios. Los dos pisos por encima de la sala limpia sirven para la preparación del aire: en el nivel 4, la central de aire, se colocan todos los equipos de ventilación. En el nivel 3, debajo, el aire se impulsa a través de filtros finos y luego se conduce a la sala limpia. El nivel 1, debajo de la sala limpia, se destina a la distribución de los medios necesarios a los equipos de procesamiento y al retorno de aire mediante sistemas especiales en la fachada. El sótano en el nivel 0 contiene todos los sistemas técnicos necesarios para la alimentación y el desecho de la sala limpia, como la central eléctrica o el almacén de productos químicos. En total, en el nuevo edificio se crearán 1000 m² de salas limpias y 500 m² de laboratorios, además de oficinas para 44 empleados. El edificio estará conectado mediante un puente con el complejo de laboratorios ya existente.

Con el nuevo edificio de laboratorios y salas limpias, el área exterior existente en las instalaciones del ISIT, junto con un estanque de extinción de incendios, se transformará en un patio atractivo. Los arquitectos y planificadores han ideado algo especial para la fachada. Está diseñada con una cuadrícula uniforme que recuerda las estructuras de un wafer de silicio. Los grandes elementos de fachada uniformes están equipados con una subestructura en forma de elementos de fachada perforados. La nueva estructura se presentará como un signo distintivo del ISIT frente a la entrada del terreno.

La demanda continuamente creciente de servicios de I+D, especialmente en los ámbitos de movilidad eléctrica y uso eficiente de la energía eléctrica, ha llevado en el ISIT, en la microsistemas, la electrónica de potencia y la tecnología de almacenamiento de energía, a una situación de estrechez que hace urgente la ampliación. Así, la disposición de los equipos en la sala limpia se ha ido densificando constantemente, las superficies de pasillo se han convertido en laboratorios de salas limpias, en el sótano del antiguo edificio de salas limpias se han instalado laboratorios provisionales y áreas de salas limpias, las oficinas en la planta baja se han convertido en laboratorios y se han alquilado espacios de almacenamiento externos para la gestión intermedia de equipos y componentes de repuesto. Muchos empleados han tenido que trasladarse a contenedores de oficina.

Con esta inversión, se pretende continuar la historia de éxito del ISIT, de la cual también ha beneficiado Schleswig-Holstein. En casi veinte años de existencia en Itzehoe, el instituto ha construido una base sólida de clientes con más de 350 empresas, de las cuales aproximadamente 50 son de Schleswig-Holstein. Se han creado 500 puestos de trabajo en el lugar y se han realizado inversiones industriales por más de 200 millones de euros hasta la fecha.

La expansión del ISIT que comienza ahora está estrechamente relacionada con la modernización de toda la tecnología, también iniciada en 2009, y que ya está casi completamente finalizada. En ella, se han instalado principalmente nuevas instalaciones de fabricación que permiten el procesamiento de obleas de silicio de más de 200 mm de diámetro, en lugar de las obleas de 150 mm que se usaban anteriormente. Con esta plataforma tecnológica, el ISIT cuenta con una de las instalaciones de I+D más modernas a nivel internacional y está muy bien preparado para seguir colaborando con empresas e instituciones en el campo de los microsistemas y nanosistemas.

El significado de la ampliación que comienza ahora para el instituto lo subraya el director del ISIT, Profesor Wolfgang Benecke: "Las nuevas posibilidades tecnológicas conducirán a más proyectos industriales bilaterales y a proyectos financiados públicamente. Para el ISIT, surgen buenas oportunidades para un mayor crecimiento en empleo en Itzehoe, además de la ampliación del ISIT."

Imagen: Vista en modelo del nuevo edificio planificado para laboratorios, oficinas y salas limpias en el Fraunhofer ISIT. La idea para el diseño de la fachada proviene de las estructuras en un wafer de silicio.