Uitbreiding van de halfgeleiderlocatie Itzehoe

Uitbreiding van de halfgeleiderlocatie Itzehoe

Het Fraunhofer-Institut voor Siliciumtechnologie ISIT is een van 's werelds toonaangevende en modernste onderzoeksinstellingen op het gebied van microsysteemtechnologie en micro-elektronica. Met financiële ondersteuning van de deelstaatregering wordt het Fraunhofer ISIT ingrijpend uitgebreid en gemoderniseerd. Minister-president Peter Harry Carstensen overhandigde vandaag (15 juni) aan de directeur van het ISIT, Prof. Wolfgang Benecke, in aanwezigheid van talrijke vertegenwoordigers uit wetenschap, economie en politiek, het definitieve subsidiebesluit van de deelstaatregering voor de bouw van een extra gebouw op het terrein van het ISIT met cleanroom-, laboratorium- en kantoorruimtes. Deze moderne infrastructuur zal het ISIT samen met industriële partners gebruiken om geavanceerde processen en componenten van de microsysteemtechnologie te ontwikkelen.

Met de bouw worden bestaande knelpunten weggenomen en nieuwe mogelijkheden voor industriële samenwerkingen gecreëerd. De totale investering bedraagt 36,6 miljoen euro, waarvan de Fraunhofer-Gesellschaft 9,15 miljoen euro investeert in dit project.

De plannen voor de uitbreiding lopen sinds 2009. In 2010 heeft het Gebouwbeheer Schleswig-Holstein (GMSH) het bouwplan beoordeeld en goedgekeurd. Ook de stad Itzehoe heeft snel de benodigde bouwvergunningen verleend. Nu zijn de voorbereidingswerkzaamheden voor de inrichting van de bouwplaats begonnen en worden aanbestedingen voor bouwwerkzaamheden vanaf nu voortdurend gepubliceerd. De voltooiing van het complex is gepland voor 2012.

Het hart van het nieuwe vier verdiepingen tellende gebouw vormt het cleanroomgebied en de laboratoria op verdieping 2, die later kunnen worden omgebouwd tot cleanroom. Om deze verdieping liggen de aanvullende benodigde niveaus. De twee verdiepingen boven de cleanroom dienen voor de luchtbehandeling: op verdieping 4, de centrale luchtbehandelingsruimte, worden alle ventilatieapparaten geplaatst. Op de onderliggende verdieping 3 wordt de lucht door fijne filters geblazen en vervolgens naar de cleanroom geleid. De onder de cleanroom gelegen verdieping 1 dient voor de distributie van de benodigde media naar de bewerkingsapparaten en voor de luchtterugvoer via speciale systemen in de gevel. Het souterrain op niveau 0 bevat alle technische installaties die nodig zijn voor de bevoorrading en afvoer van de cleanroom, zoals de elektrische centrale en het chemikalieënmagazijn. In totaal ontstaan in het nieuwe gebouw 1000 m² cleanroom- en 500 m² laboratoriumruimte, evenals kantoren voor 44 medewerkers. Via een brug wordt het gebouw verbonden met het reeds bestaande laboratoriumcomplex.

Met het nieuwe laboratorium- en cleanroomgebouw wordt de bestaande buiteninstallatie op het terrein van het ISIT, samen met een aangelegde brandbestrijdingstuin, omgevormd tot een aantrekkelijke binnenplaats. De architecten en bouwplanners hebben iets bijzonders bedacht voor de gevel. Deze is ontworpen volgens een gelijkmatig raster en doet denken aan de structuren op een siliciumwafer. Daarbij zijn de grote, gelijkmatige gevelpanelen voorzien van een onderstructuur in de vorm van geperforeerde gevelpanelen. Het nieuwe gebouw zal zich aan de straatzijde presenteren als een nieuw, opvallend teken voor het ISIT.

De voortdurend groeiende vraag naar R&D-diensten, vooral op het gebied van elektromobiliteit en het efficiënte gebruik van elektrische energie, heeft op het ISIT in de microsysteemtechnologie, de vermogenselektronica en de energiebuffertechnologie in de loop der jaren geleid tot een knelpunt dat uitbreiding dringend noodzakelijk maakt. Zo werd de apparatuuropstelling in de cleanroom voortdurend geconcentreerd, werden gangruimtes omgevormd tot cleanroomlaboratoria, werden in het souterrain van het oude cleanroomgebouw tijdelijke laboratoria en cleanroomgebieden geïnstalleerd, werden kantoorruimtes op de begane grond omgevormd tot laboratoria en werden externe opslagruimtes gehuurd voor de tussenopslag van apparatuur en reserveonderdelen. Veel medewerkers moesten verhuizen naar kantoorcontainers.

Met deze investering wil het ISIT haar succesverhaal voortzetten, waarvan ook Schleswig-Holstein heeft geprofiteerd. In de bijna twintig jaar dat het instituut in Itzehoe bestaat, heeft het een stabiele klantenkring opgebouwd van meer dan 350 bedrijven, waarvan ongeveer 50 uit Schleswig-Holstein. Er zijn 500 banen gecreëerd en er zijn tot nu toe meer dan 200 miljoen euro aan industriële vervolginvesteringen gedaan.

De nu begonnen uitbreiding van het ISIT is nauw verbonden met de eveneens in 2009 begonnen modernisering van de gehele technologie, die inmiddels bijna volledig is afgerond. Daarbij zijn vooral nieuwe productie-installaties geïnstalleerd die het bewerken van grote 200 mm siliciumkristalschijven (wafers) mogelijk maken, in plaats van de tot dan toe gebruikte wafers met een diameter van 150 mm. Het ISIT beschikt met dit technologische platform over een van de modernste R&D-instellingen, ook internationaal beschouwd, en is daarmee zeer goed uitgerust voor verdere succesvolle samenwerking met bedrijven en instellingen op het gebied van micro- en nanosystemen.

De betekenis van de nu begonnen uitbreiding voor het instituut benadrukt ISIT-directeur Professor Wolfgang Benecke: "De nieuwe technologische mogelijkheden zullen leiden tot verdere bilaterale industriële projecten en tot door de overheid gefinancierde projecten. Voor het ISIT ontstaan goede kansen voor verdere groei van de werkgelegenheid in Itzehoe, boven de uitbreiding van het ISIT uit."

Afbeelding: Modellering van het geplande nieuwe laboratorium-, kantoor- en cleanroomgebouw bij het Fraunhofer ISIT. Inspiratie voor het gevelontwerp zijn structuren op een siliciumwafer.