Rozšíření výrobního závodu polovodičů v Itzehoe

Rozšíření polovodičového závodu v Itzehohe

Fraunhoferův ústav pro silikonovou technologii ISIT je jedním z předních a nejmodernějších výzkumných zařízení na světě v oblasti mikrosystémové techniky a mikroelektroniky. S finanční podporou zemské vlády je Fraunhofer ISIT masivně rozšiřován a modernizován. Předseda vlády Peter Harry Carstensen dnes (15. června) předal vedoucímu ISIT, Prof. Wolfgangu Beneckovi, za přítomnosti řady zástupců vědy, průmyslu a politiky konečné rozhodnutí o financování ze strany zemské vlády ve výši 27,45 milionu eur na výstavbu další budovy na pozemku ISIT s čistírnou, laboratořemi a kancelářemi. Tato moderní infrastruktura bude společně s průmyslovými partnery využívána k vývoji pokročilých procesů a součástek mikrosystémové techniky.

S výstavbou budou odstraněny stávající úzká místa a vytvořeny nové možnosti pro průmyslovou spolupráci. Celková plánovaná investice činí 36,6 milionu eur, z čehož Fraunhoferova společnost investuje do tohoto projektu 9,15 milionu eur.

Plánování rozšíření probíhá od roku 2009. V roce 2010 schválila a zkontrolovala stavební plánování společnost Gebäudemanagement Schleswig-Holstein (GMSH). Také město Itzehoe rychle vydalo potřebná stavební povolení. Nyní začaly přípravné práce na zařízení staveniště a výběrová řízení na stavební práce jsou od tohoto okamžiku průběžně zveřejňována. Dokončení komplexu je plánováno na rok 2012.

Srdcem nové čtyřpodlažní budovy je čistírenská zóna a laboratoře na úrovni 2, které lze později přestavět na čisté prostory. Okolo této úrovně se nacházejí další potřebné vrstvy. Dvě nadzemní podlaží nad čistírnou slouží k úpravě vzduchu: v úrovni 4, v centrále vzduchu, jsou umístěny všechny ventilační zařízení. V nižší úrovni 3 je vzduch vháněn přes jemné filtry a následně veden do čistírny. Úroveň 1 pod čistírnou slouží k distribuci potřebných médií k obráběcím zařízením a k recirkulaci vzduchu přes speciální systémy v oblasti fasády. Podzemní patro v úrovni 0 obsahuje všechny technické zařízení potřebné pro zásobování a odstraňování odpadů z čistírny, například elektrickou centrálu nebo sklad chemikálií. Celkem bude v nové budově 1000 m² čistírenských prostor a 500 m² laboratoří, stejně jako kanceláře pro 44 zaměstnanců. Budova bude spojena s již existujícím laboratořním traktem přes most.

S novým laboratořím a čistírnou bude stávající venkovní areál na pozemku ISIT spolu s vytvořeným požárním rybníkem přeměněn na atraktivní dvůr. Architekti a projektanti přišli s něčím zvláštním pro fasádu. Je navržena s rovnoměrným mřížkovým vzorem, který připomíná struktury na silikonovém waferu. Velké rovnoměrné prvky fasády jsou opatřeny podstavcem ve tvaru děrovaných prvků fasády. Nová budova se bude prezentovat jako nový výrazný znak pro ISIT naproti vstupu na pozemek.

Stále rostoucí poptávka po výzkumných a vývojových službách, především v oblastech elektromobility a efektivního využívání elektrické energie, vedla v průběhu let na ISIT ke stísněnosti, která činí rozšíření nezbytným. Tak například byla zařízení v čistírně neustále přeplněná, chodby byly přeměněny na laboratoře v čistírnách, v podzemí staré čistírny byly dočasné laboratoře a čistírenské prostory, kanceláře v přízemí byly přeměněny na laboratoře a byly pronajaty externí skladovací prostory pro dočasné uskladnění zařízení a náhradních dílů. Mnoho zaměstnanců muselo přestěhovat do kancelářských kontejnerů.

S touto investicí má být pokračováno v úspěšné historii ISIT, na které má prospěch i Šlesvicko-Holštýnsko. Během téměř dvaceti let své existence v Itzehoe si ústav vybudoval stabilní zákaznickou základnu s více než 350 firmami, z toho asi 50 ze Šlesvicko-Holštýnska. Na místě vzniklo 500 pracovních míst a dosud bylo realizováno přes 200 milionů eur průmyslových následných investic.

Právě začínající rozšíření ISIT je úzce spojeno s modernizací celkové technologie, která byla zahájena také v roce 2009 a je nyní téměř úplně dokončena. Především byly instalovány nové výrobní zařízení umožňující zpracování velkých 200mm silikonových krystalových kotoučů (waferů) namísto dosud používaných 150mm waferů. S touto technologickou platformou má ISIT jednu z nejmodernějších výzkumných a vývojových zařízení i z mezinárodního hlediska, a je tak velmi dobře připraven na další úspěšnou spolupráci s podniky a institucemi v oblasti mikro- a nanosystémové techniky.

Význam nyní probíhajícího rozšíření pro ústav zdůrazňuje ředitel ISIT profesor Wolfgang Beneck: "Nové technologické možnosti povedou k dalším bilaterálním průmyslovým projektům a k veřejně financovaným projektům. Pro ISIT představují dobré příležitosti k dalšímu růstu zaměstnanosti v Itzehoe nad rámec rozšíření ISIT."

Obrázek: Modelový pohled na plánovanou novou laboratoř, kancelářskou a čistírenskou budovu při Fraunhoferu ISIT. Inspirací pro návrh fasády jsou struktury na silikonovém waferu.