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La camera bianca di Imec costituisce la base per i PDK di NanoIC, basati su processi di 2 nm. (Immagine: Imec) / La cleanroom di Imec fornisce la base per i PDK di NanoIC, basati su flussi di processo da 2 nm. (Foto: Imec)
  • Workshop / Corso

Aggiornamento completo del Pathfinding N2 P-PDK di NanoIC consente a ricercatori e sviluppatori di familiarizzare con architetture SoC complete e di promuovere l'innovazione.

NanoIC amplia il suo rivoluzionario N2-PDK con avanzati macro di memoria SRAM

NanoIC-Pilotlinie, un'iniziativa europea coordinata da imec per accelerare l'innovazione nel settore delle tecnologie chip oltre i 2 nm, ha annunciato la pubblicazione del N2 P-PDK v1.0, un importante aggiornamento del loro N2 Pathfinding Process Design Kit (P-PDK). Questa versione include diverse n…

Figura 1 - (A sinistra) Curve di trasferimento di dispositivi 2D-pFET con strati di WSe2 sintetici passivati dai difetti, con il miglior dispositivo che mostra Imax = 690µA/µm; (a destra) Sezione TEM del 2D-pFET a doppia gate completato (Lch=lunghezza del canale; TG=top-gate; BG=back-gate; S=source; D=dreno; IL=interstrato), in collaborazione con TSMC. Figura 2 – (a) Incisione a secco in SiO2; (b) incisione a secco e umido che si ferma selettivamente sul canale monostrato di WS2, causando anche la rimozione laterale dello strato intermedio di AlOx lungo tutta la lunghezza del canale (in collaborazione con Intel).
  • Elettronica (wafer, semiconduttori, microchip,...)

La collaborazione con i principali produttori di semiconduttori è fondamentale per ottimizzare i moduli chiave per l'integrazione dei materiali 2D negli elementi

Imec sviluppa ulteriormente la tecnologia dei blocchi basata su materiali 2D per supportare la roadmap della futura tecnologia logica

– In collaborazione con i principali produttori di semiconduttori, Imec si è occupata delle principali sfide nello sviluppo della tecnologia dei dispositivi 2D, considerata un'opzione a lungo termine per l'espansione della roadmap della tecnologia logica.
– La collaborazione con TSMC ha portato a pFE…

Qualità massima dell'ambiente sterile: unità LAF sospesa per un' alimentazione flessibile nel riempimento delle siringhe. (Copyright: io) Scarico e confezionamento automatizzato di siringhe blisterate e autoclave nel ambiente sterile. (Copyright: io) Comoda e precisa gestione del riempimento delle siringhe in ambiente sterile di classe C – per la massima qualità del prodotto. (Copyright: io) Sicurezza massima: separazione delle siringhe con controllo qualità senza lacune per i più alti standard. (Copyright: io)
  • Prodotti, dispositivi, sistemi, impianti per applicazioni

Tradizione nel percorso verso il futuro – io accompagna il Gruppo Klosterfrau nella costruzione di una nuova linea di iniezione

Per soddisfare la crescente domanda di pazienti e clienti, il rinomato Gruppo Klosterfrau ha deciso di sviluppare una nuova linea di produzione presso lo stabilimento di Berlino. io ha assunto la pianificazione generale e il supporto all'esecuzione in modo completo.

Con prodotti di lunga tradizione…

3 Passaggi 10 errori comuni
  • Disinfezione | Procedure, dispositivi, mezzi, supporti (tovaglioli, tamponi,...)

Pulizia e disinfezione delle camere bianche in pratica: 10 errori comuni che aumentano i rischi – e come evitarli

10 errori comuni nella pulizia e disinfezione delle camere bianche

Quando si parla di GMP, di solito al centro ci sono i processi di produzione, le validazioni o le qualifiche. La pulizia appare in molte aziende più come un'attività marginale – come un'operazione di routine che "si svolge in background".

Ma cosa pensa – quanti scostamenti GMP sono effettivamente leg…

Imec fa il lavoro di pionieri nella produzione di nanopori a stato solido su scala wafer (300 mm) con litografia EUV, come si può vedere nella foto. © imec / Imec pioneers full wafer-scale (300mm) production of solid-state nanopores with EUV lithography, as shown on photo. © imec Sezione trasversale e vista dall'alto al TEM della nanoporo a stato solido fabbricata, Sezione trasversale e vista dall'alto al TEM della nanoporo a stato solido realizzata,
  • Elettronica (wafer, semiconduttori, microchip,...)

Il breakthrough consente applicazioni di biosensori scalabili e ad alta precisione nelle scienze della vita e nella tecnologia medica

Imec dimostra per la prima volta tramite litografia EUV la produzione di nanopori semiconduttori in wafer di dimensioni standard

1. Imec ha raggiunto la prima produzione di nanopori semiconduttori su scala wafer mediante litografia EUV su wafer da 300 mm. Questa innovazione trasforma la tecnologia dei nanopori da un concetto di laboratorio a una piattaforma scalabile per biosensori, genomica e proteomica.
2. I nanopori sono ce…

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