Componenti high-tech puliti in modo affidabile e sostenibile in ambiente sterile

I residui di polvere formatisi durante il taglio dei wafer con laser vengono rimossi efficacemente con la tecnologia a getto di neve quattroClean. La prova di pulizia è stata effettuata con un microscopio digitale utilizzando marchi con un diametro esterno di 0,4 mm. (Fonte immagine: acp systems)

La sinergia dei meccanismi di azione della tecnologia a getto di neve quattroClean consente di rimuovere contaminazioni particellari fino all'intervallo submicrometrico e le più sottili contaminazioni filmiche in modo sicuro e riproducibile. (Fonte immagine: acp systems) / Grazie all'interazione degli effetti della tecnologia a getto di neve quattroClean, le contaminazioni particellari fino alla gamma submicrometrica e le più sottili contaminazioni filmiche vengono rimosse in modo affidabile e coerente. (Credito fotografico: acp systems)

La JetStation-HP, progettata e dotata per l'uso in camere bianche, è stata sviluppata per compiti di pulizia flessibili con i più alti requisiti di pulizia. Viene caricata manualmente e può essere operata in modalità automatizzata o semi-automatizzata come soluzione autonoma. (Fonte immagine: acp systems)

La progettazione del processo, in cui tutti i parametri di processo sono adattati con precisione all'applicazione specifica, alle proprietà del materiale, alle contaminazioni da rimuovere e ai requisiti di pulizia, avviene nel centro tecnico di acp systems. (Fonte immagine: acp systems)

Il numero di componenti che richiedono una pulizia in camera bianca a causa di specifiche di pulizia più rigorose aumenta costantemente – e ciò riguarda numerosi settori industriali. Per questi compiti, che di solito non possono essere risolti con metodi di pulizia tradizionali, la tecnologia sostenibile di spruzzatura di neve quattroClean consente una pulizia su misura, riproducibile e asciutta. Il sistema di pulizia adattato alla classe di camera bianca può essere progettato per un funzionamento completamente automatizzato e integrato nelle linee di produzione, oppure come impianto standalone parzialmente automatizzato o manuale.

Specifiche di pulizia particolarmente rigorose fino al livello submicrometrico e requisiti di purezza filmica estremamente elevati rendono in sempre più settori industriali necessaria una migrazione dei processi di pulizia in ambienti puliti o puri. Questi includono applicazioni come la pulizia di componenti metallici e ottici, anche prima e dopo un rivestimento, per la tecnologia DUV ed EUV nell'industria dei semiconduttori, così come la pulizia di parti strutturali per satelliti geostazionari nell'ingegneria aerospaziale. Nella produzione di microchip, dopo il taglio del wafer con laser o sega diamantata, devono essere rimossi residui di trucioli o residui di sega. Nella tecnologia dei sensori e nell'elettronica, si tratta da un lato di ottiche e involucri per sistemi di assistenza in veicoli e fotocamere per smartphone, che devono essere estremamente puliti per garantire un funzionamento sempre impeccabile. Dall'altro, riguarda la pulizia delle superfici di contatto prima del bonding e di componenti elettronici già assemblati, tra cui sensori. Per prodotti di tecnologia medica e industria farmaceutica, come impianti, strumenti e soluzioni Lab on Chip, anche l'uso sicuro dipende dalla pulizia dei pezzi. Per quanto diverse siano queste attività di pulizia, le specifiche di pulizia richieste oggi non possono più essere raggiunte in modo affidabile con metodi tradizionali come la pulizia ad aria compressa, a spazzola o chimica umida.

Con la neve alla massima purezza

Con la tecnologia di spruzzatura di neve scalabile quattroClean, acp systems AG offre una soluzione conforme alle camere bianche e comprovata per questi compiti. La pulizia avviene in modo asciutto con CO2 liquido, neutrale dal punto di vista climatico. Elemento essenziale per una prestazione di pulizia affidabile è l'anello a doppio materiale senza usura, attraverso il quale viene condotto il diossido di carbonio. Quando esce dal ugello, si rilassa in fini particelle di neve. Queste vengono condensate da un getto di aria compressa separato e accelerate a velocità supersonica. Quando il getto di pulizia ben focalizzato colpisce la superficie da pulire, i quattro meccanismi di azione (effetto termico, meccanico, solvente e di sublimazione) della tecnologia di spruzzatura di neve quattroClean assicurano che contaminazioni particellari fino al livello submicrometrico e contaminazioni filmiche siano rimosse in modo conforme alle specifiche e riproducibile.

Poiché il diossido di carbonio cristallino sublima completamente durante la pulizia, le superfici o i pezzi risultano asciutti. Allo stesso tempo, la pulizia avviene in modo delicato sul materiale, consentendo di trattare anche superfici sensibili, filigranate e con strutture fini.

Progettazione del processo e dell'impianto garantisce il risultato di pulizia

La progettazione del processo per una pulizia totale o parziale viene eseguita nel centro di prova di acp systems attraverso esperimenti. In questa fase, vengono adattati con precisione tutti i parametri di processo, come i volumi di aria compressa e di diossido di carbonio, il numero di ugelli di spruzzo, l'area di spruzzo e il tempo di esposizione, alle singole applicazioni, alle proprietà del materiale, alle contaminazioni da rimuovere e alle specifiche di pulizia richieste. Possono essere memorizzati come programmi di pulizia specifici per pezzo nel sistema di controllo dell'impianto. Durante la pulizia, un monitoraggio e un controllo del processo senza interruzioni garantiscono che ogni pezzo venga trattato con i parametri di processo validati.

La realizzazione e l'equipaggiamento dei sistemi di pulizia modulari vengono adattati alla classe di camera bianca specifica. Sono completamente realizzati in acciaio inossidabile e presentano superfici lisce e omogenee. Il design ottimizzato per il flusso della camera di processo assicura un rapido e mirato smaltimento delle contaminazioni rimosse e del diossido di carbonio sublimato tramite l'aspirazione integrata. Un trattamento dei media adattato alle esigenze garantisce inoltre che contaminazioni crociate e ricontaminazioni siano evitate.

Soluzioni per la pulizia integrata, parzialmente automatizzata e manuale

Per un'ottimale adattamento della soluzione di pulizia alle esigenze specifiche e alla situazione di produzione, acp systems offre diverse soluzioni modulari e sistemi pianificati su misura. La compatta JetCell-HP è stata sviluppata per una pulizia flessibile e automatizzata. La cella di pulizia plug and play può essere facilmente integrata in ambienti di produzione collegati o operata come soluzione autonoma. Interfacce integrate consentono di collegare il sistema di pulizia controllato digitalmente a un sistema di controllo superiore. Tutti i dati raccolti durante il monitoraggio e il controllo del processo possono essere acquisiti automaticamente e trasmessi al sistema di controllo principale. Con la JetStation-HP è disponibile una cella di pulizia chiusa per operazioni parzialmente automatizzate o manuali. In queste alternative conformi alle camere bianche, tutta la tecnologia per il processo di spruzzatura di neve e il trattamento dei media è integrata nel robusto involucro dell'impianto. Per l'avvio, è sufficiente collegare diossido di carbonio e aria compressa.