Componentes de alta tecnología limpiados de forma segura y sostenible en la sala limpia

Los residuos de polvo formados durante el corte de obleas con láser se eliminan de manera eficiente con la tecnología de chorro de nieve quattroClean. La prueba de limpieza se realizó con un microscopio digital utilizando marcas con un diámetro externo de 0,4 mm. (Crédito de la foto: acp systems)

La interacción de los mecanismos de acción de la tecnología de chorro de nieve quattroClean permite eliminar contaminaciones particuladas hasta el rango submicrométrico y las contaminaciones filmicas más finas de manera segura y reproducible. (Fuente de la imagen: acp systems) / Gracias a la interacción de los efectos de la tecnología de chorro de nieve quattroClean, las contaminaciones particuladas hasta el rango submicrométrico, así como las contaminaciones filmicas más finas, se eliminan de manera fiable y consistente. (Crédito de la foto: acp systems)

La JetStation-HP, diseñada y equipada para uso en salas limpias, fue desarrollada para tareas de limpieza flexibles con los más altos requisitos de limpieza. Se carga manualmente y puede operarse de forma automatizada o semi-automatizada como una solución independiente. (Crédito de la foto: acp systems)

La configuración del proceso, en la que todos los parámetros del proceso se adaptan exactamente a la aplicación respectiva, las propiedades del material, las contaminaciones a eliminar y los requisitos de limpieza, se realiza en el centro técnico de acp systems. (Fuente de la imagen: acp systems) / El proceso en sí, donde todos los parámetros del proceso se adaptan con precisión a la aplicación respectiva, las propiedades del material, las contaminaciones a eliminar y las especificaciones de limpieza, está diseñado en el centro técnico de acp systems. (Crédito de la foto: acp systems)

El número de componentes que requieren limpieza en una sala limpia debido a especificaciones de limpieza más estrictas aumenta continuamente, y esto se aplica a numerosos sectores. Para estas tareas, que generalmente no pueden resolverse con métodos de limpieza tradicionales, la tecnología sostenible de chorro de nieve quattroClean permite una limpieza seca, precisa y reproducible según las necesidades. El sistema de limpieza adaptado a la clase de sala limpia puede estar diseñado para un funcionamiento totalmente automatizado e integrado en líneas de producción, así como operarse como una unidad autónoma semi-automatizada o manual.

Especificaciones de limpieza particulares, incluso en el rango submicrométrico, y requisitos de pureza de película extremadamente altos hacen necesaria en cada vez más sectores industriales una transferencia de los procesos de limpieza a un entorno limpio o de pureza. Esto incluye aplicaciones como la limpieza de componentes metálicos y ópticos, antes y después de un recubrimiento, para la tecnología DUV y EUV en la industria de suministros para semiconductores, así como la limpieza de piezas estructurales para satélites geoestacionarios en la ingeniería aeroespacial. En la fabricación de microchips, después del corte del wafer mediante láser o sierra de diamante, es necesario eliminar rastros de polvo o residuos de corte. En la tecnología de sensores y electrónica, por un lado, las ópticas y carcasas, por ejemplo, para sistemas de asistencia en vehículos y cámaras de teléfonos inteligentes, deben mantenerse muy limpias para garantizar un funcionamiento correcto y duradero. Por otro lado, se trata de limpiar superficies de contacto antes del proceso de unión, así como componentes electrónicos ya montados, incluyendo sensores de imagen. En productos de tecnología médica e industria farmacéutica, como implantes, instrumentos y soluciones Lab on Chip, su uso seguro también depende de la limpieza de las piezas. Por muy diferentes que sean estas tareas de limpieza, las especificaciones de limpieza exigidas hoy en día ya no pueden alcanzarse de manera segura con procedimientos tradicionales como la limpieza con aire comprimido, cepillado o limpieza química húmeda.

Con nieve hacia la máxima pureza

Con la tecnología de chorro de nieve escalable quattroClean, acp systems AG ofrece una solución limpia y probada para estas tareas. La limpieza se realiza en seco con CO2 líquido, neutro en emisiones de carbono. Un elemento clave para un rendimiento de limpieza fiable es la boquilla de doble material sin desgaste, a través de la cual se dirige el dióxido de carbono. Al salir de la boquilla, se relaja en finas partículas de nieve. Estas son agrupadas por un chorro de aire comprimido separado y aceleradas a velocidad supersónica. Cuando el potente y enfocado rayo de limpieza impacta en la superficie a limpiar, los cuatro mecanismos de acción (efecto térmico, mecánico, de solvente y de sublimación) de la tecnología de chorro de nieve quattroClean aseguran que las contaminaciones particuladas, incluso en el rango submicrométrico, y las contaminaciones en película sean eliminadas de manera precisa y reproducible.

Como el dióxido de carbono cristalino se sublima completamente durante la limpieza, las superficies o piezas quedan secas. Al mismo tiempo, la limpieza es respetuosa con el material, permitiendo tratar superficies delicadas, finas y con estructuras complejas.

El diseño del proceso y de la planta garantiza el resultado de limpieza

El diseño del proceso para una limpieza total o parcial se realiza en el centro tecnológico de acp systems mediante ensayos. Se ajustan todos los parámetros del proceso, como los caudales de aire comprimido y CO2, el número de boquillas, el área de chorro y el tiempo, de manera precisa a cada aplicación, propiedades del material, contaminantes a eliminar y requisitos de limpieza. Estos pueden almacenarse como programas de limpieza específicos para cada pieza en el control de la planta. Durante la limpieza, una supervisión y control exhaustivos garantizan que cada pieza se trate con los parámetros validados del proceso.

La ejecución y equipamiento de los sistemas de limpieza modulares se adaptan a la clase de sala limpia correspondiente. Están fabricados completamente en acero inoxidable y tienen superficies lisas y homogéneas. El diseño optimizado para el flujo de la cámara de proceso asegura una eliminación rápida y precisa de las contaminaciones y del CO2 sublimado mediante la extracción integrada. Además, un sistema de preparación de medios adaptado a la tarea evita contaminaciones cruzadas y recontaminaciones.

Soluciones para limpieza integrada, semi-automatizada y manual

Para una adaptación óptima de la solución de limpieza a los requisitos y la situación de producción, acp systems ofrece diferentes soluciones modulares y sistemas diseñados a medida. La JetCell-HP compacta ha sido desarrollada para una limpieza flexible y automatizada. La célula de limpieza Plug and Play puede integrarse fácilmente en entornos de producción conectados o funcionar como una solución autónoma. Interfaces integradas permiten conectar el sistema de limpieza controlado digitalmente a un sistema de control superior. Todos los datos recopilados durante la supervisión y el control del proceso se pueden registrar automáticamente y transferir al sistema de control. La JetStation-HP ofrece una célula de limpieza cerrada para operación semi-automatizada o manual. En estas alternativas aptas para salas limpias, toda la tecnología para el proceso de chorro de nieve y la preparación de medios también está integrada en la carcasa compacta del sistema. Para la puesta en marcha, solo es necesario conectar CO2 y aire comprimido.