Mit welchen Worten bereiten die Referenten ihre Präsentationen vor?

TE Connectivity - Volker Seipel, Platform Element Engineering Core Technologies igazgató:

"Az elektromos préselt érintkezők a gyártási folyamat során olajokkal és egyéb folyadékokkal szennyeződhetnek. Az előadás bemutatja, milyen hatással lehetnek ezek a szennyeződések, és hogyan biztosít a TE folyamatbiztos termékeket. A konferencia számomra egy fórumot jelent, ahol elsősorban kapcsolatokat építhetek és tanulhatok."

HMT - Háseler Metall Technik - Dominik Falk, Felületi technológia üzletágvezető:

"A filmes szennyeződések témája már régóta nagy téma cégünknél. Ezért mindig keresünk megfelelő mérési módszereket. Amikor találunk potenciállal rendelkező módszereket, teszteljük azokat nálunk, és összehasonlítjuk a jelenlegi gyakorlatokkal. Itt nagyon gyorsan kiderül, mennyire alkalmas a módszer, illetve milyen potenciál rejlik benne, és hol van még fejlődési lehetőség.

Nagyon várom az eseményt, hiszen egyedülálló a szakterületen. A szakmai konferencián ugyanakkor OEM-ek és a teljes beszállítói lánc is jelen van. Számomra az a legjobb, hogy mindenki egyenlő szinten vitatkozik, és nagyon jó szakmai tudás halmozódik fel, új trendeket lehet megismerni, valamint gyakorlati példákat és megvalósításokat oszthatunk meg egymással.

Witzenmann GmbH - Andrea Krause, Tisztaságtechnikai fejlesztési osztály:

"A gyártási folyamat során különböző segéd- és működtető anyagokat alkalmaznak, amelyek szükségesek ahhoz, hogy a folyamat egyáltalán működjön. Sajnos ezek nem mindig mentesek a „mellékhatásoktól”, és a későbbi folyamatlépésekben súlyos zavarokat okozhatnak. Ez drámainak hangzik, de kezelhető, mivel a problémák általában időben észrevehetők. Ezt a problémakört megfelelő tisztítási lépésekkel lehet minimalizálni. Ez alapvetően igaz a megrendelő által végzett összeszerelésre is, amely meghatározza a termékkel szemben támasztott követelményeket.

Nehezebb elkerülni a nem kívánt hatásokat a későbbi működés során. Ehhez szükséges minden anyag ismerete, amely a folyamat során szándékosan vagy véletlenül érintkezhet a termékkel. A kockázatok értékeléséhez figyelembe kell venni a működési körülményeket. A gyártási folyamatból származó ártalmatlan visszamaradások lebomolhatnak a felhasználási körülmények között, és agresszív anyagokat szabadíthatnak fel. Ez egy holisztikus megközelítést igényel, túlmutatva saját folyamatainkon, és szoros együttműködést a vevőkkel."

Egy példán keresztül bemutatom, mennyire összetettek az érintett anyagok és azok „mellékhatásai”, illetve hogyan segíthet a szimuláció a kockázati potenciál értékelésében."

nanoAnalytics - Dr. Andreas Schäfer, ügyvezető és laborvezető:

"Előadásomban a laboratóriumi analitika alkalmazási lehetőségeiről beszélek filmes szennyeződések területén, és arról, hogyan lehet a filmes szennyeződéseket a lehető legpontosabban jellemezni. Gyakran az a cél, hogy az érintett anyagokat azonosítsuk. Más esetekben a laterális eloszlást vagy a töltöttségi erőt vizsgálják. Rövid általános bevezetés mellett példákra fogok összpontosítani. Természetesen örömmel várom, hogy találkozzak régi ismerősökkel, de főként új kapcsolatokat építsek. A filmes szennyeződések szerepe nagyon széles terület. Ezért szinte elkerülhetetlen, hogy ezen a témánál új, érdekes kapcsolatokat alakítsunk ki."

Carl Zeiss SMT - Dr. Roland Steiner, Tisztítási technológia igazgató:

"El fogom mondani, hogy a filmes szennyeződések (mások mellett) milyen fontos szerepet játszanak a litográfiai rendszerek gyártásában. Lényeges, hogy az ilyen szennyeződések kimutatása, elkerülése és végső eltávolítása már a gyártás során és a beszállítói láncon keresztül megtörténjen. Itt a ZEISS Szilícium-alapú Gyártástechnológiai Üzletág (SMT) folyamatfejlesztési aspektusaira fogok koncentrálni."

OHB Systems - Dr. Axel Müller, Tisztaságtechnikai mérnök:

"Előadásom a űrkutatásban alkalmazott, kifejezetten kémiai-filmes tisztasági követelményekről szól. Különösen a magas felbontású felvételek vagy a Föld spektroszkópiája 36 000 km távolságból különleges óvintézkedéseket igényel a tisztaság terén, a tervezésben, az anyagválasztásban és az alkalmazási módszerekben. Emellett a karbantartásmentes működés különlegességeket von maga után a folyamatbiztonság (ragasztás) terén, amelyek felület tisztasági és kimutatási módszereket tesznek szükségessé. Ezeket a szempontokat bemutatom, és egy iparágakat átfogó tapasztalatcserére invitálok."

OLYMPUS EUROPA - Markus Fabich, Vertikális Piaci Szakértő Gyártási Tudományos Megoldások Osztály:

"Az (fluoreszcens) mikroszkópia elfogadott technológia. Mégis, a „könnyű” szó nem jellemző sokak szájára. Meggyőződésem, hogy bemutathatom, hogyan teszi a modern FL-mikroszkópia a szennyezésvizsgálat rutinját egyszerűbbé és megbízhatóbbá. Lehet, hogy még időben lesz lehetőség betekintést nyújtani az UV-videomikroszkópiába és a röntgenfluoreszcencia analitika aktuális állásába."

CSC JÄKLECHEMIE - Dr. Martin Hanek, Üzletfejlesztés (ST/E) Területvezető Felület:

"Előadásom címe: Nedves tisztítási eljárások - a médiumok erejének kihasználása. A gyakorlati szempontból releváns vizes és oldószeres módszereket fogom bemutatni. A tisztítási eljárások erősségeiről és gyengeségeiről, valamint arról, hogyan lehet ezeket céltudatosan kihasználni a legjobb eredmény eléréséhez.

Tisztítás, amennyire szükséges, nem pedig amennyire lehetőség van rá! Ez az első részvételem ezen a szakmai konferencián. Várom az érdekes előadásokat, az inspiráló vitákat és a kihívásokat a részegységek tisztításával kapcsolatban."