Cosa dicono i relatori in anticipo sulle loro presentazioni?

TE Connectivity - Volker Seipel, Manager Platform Element Engineering Core Technologies:

"I contatti elettrici di punzonatura vengono contaminati durante il processo di produzione con oli e altri fluidi. La presentazione descrive quale impatto queste contaminazioni possono avere e come TE fornisce prodotti sicuri dal punto di vista del processo. La conferenza rappresenta per me un forum per stabilire principalmente contatti e imparare."

HMT - Häseler Metall Technik - Dominik Falk, Responsabile del settore Tecnologie di Superficie:

"Il tema delle contaminazioni filmiche è da molto tempo un argomento importante nella nostra azienda. Per questo motivo siamo sempre alla ricerca di metodi di misurazione appropriati. Quando troviamo metodi con potenziale, li testiamo presso di noi e li confrontiamo con le pratiche attualmente in uso. Qui si vede molto rapidamente quanto il metodo sia già adatto o quale potenziale abbia e dove deve essere ulteriormente sviluppato.

Sono felice di partecipare all'evento, poiché è unico nel settore. Alla conferenza specialistica si incontrano sia OEM che l'intera catena di fornitura. La cosa bella è che tutti discutono a pari livello e si condivide una grande conoscenza tecnica, si apprendono nuove tendenze e si condividono esempi pratici e implementazioni.

Witzenmann GmbH - Andrea Krause, Dipartimento di sviluppo ti-ts, Purezza Tecnica:

"Nel processo di produzione vengono utilizzate varie materie ausiliarie e sostanze di esercizio, necessarie affinché il processo funzioni. Purtroppo, queste non sono sempre prive di 'effetti collaterali' e possono causare gravi disturbi nelle fasi successive del processo. Sembra drammatico, ma è gestibile, poiché le anomalie vengono generalmente rilevate tempestivamente. Questo problema può essere minimizzato mediante appropriati passaggi di pulizia. Lo stesso principio vale anche per il montaggio da parte del cliente, che definisce requisiti specifici sul prodotto.

È più difficile evitare effetti indesiderati nel funzionamento successivo. Per farlo, è necessario conoscere tutte le sostanze che possono entrare in contatto con il prodotto durante il processo, sia pianificato che casuale. Per valutare i potenziali rischi durante l'uso, devono essere considerate le condizioni operative. Residui innocui del processo di produzione possono degradarsi sotto condizioni operative e rilasciare sostanze aggressive. Ciò richiede una visione olistica oltre il proprio processo e una stretta collaborazione con i clienti.

Mostrerò attraverso un esempio quanto complessi possano essere le sostanze coinvolte e i loro 'effetti collaterali' e come la simulazione possa aiutare nella valutazione del potenziale di rischio."

nanoAnalytics - Dr. Andreas Schäfer, Direttore e Responsabile del laboratorio:

"Nel mio intervento parlerò delle possibilità di utilizzo dell'analisi di laboratorio nel campo delle contaminazioni filmiche e di come si possano caratterizzare al meglio le contaminazioni filmiche. Spesso si tratta principalmente di identificare le sostanze coinvolte. In altri casi si analizza la distribuzione laterale o la concentrazione. Oltre a una breve introduzione generale, il focus sarà su esempi pratici. Sono naturalmente felice di incontrare vecchi conoscenti e, soprattutto, di stabilire nuovi contatti. Il campo in cui le contaminazioni filmiche giocano un ruolo è molto ampio. Per questo motivo, nelle manifestazioni su questo tema si creano quasi inevitabilmente anche nuovi e interessanti contatti."

Carl Zeiss SMT - Dr. Roland Steiner, Direttore Tecnologie di Pulizia:

"Presenterò come le contaminazioni filmiche (tra le altre) svolgano già un ruolo importante nella produzione di sistemi litografici. È fondamentale che la rilevazione, l'evitamento e, infine, la rimozione di tali contaminazioni avvengano già durante la produzione e lungo tutta la catena di fornitura. Mi concentrerò sugli aspetti dello sviluppo di processo nel settore Semiconductor Manufacturing Technology (SMT) di ZEISS."

OHB Systems - Dr. Axel Müller, Ingegnere della Pulizia:

"Il mio intervento riguarda requisiti di purezza specifici per la formazione di film chimici nello spazio. Quando si tratta di garantire immagini ad alta risoluzione o spettroscopia della Terra da una distanza di 36.000 km, sono evidenti le precauzioni particolari riguardo alla purezza nel design, nella scelta dei materiali e nelle modalità di impiego. Inoltre, il funzionamento senza manutenzione comporta caratteristiche particolari in termini di sicurezza del processo (incollaggio), che impongono requisiti sulla purezza delle superfici e sui metodi di rilevamento. Verranno illustrati entrambi gli aspetti e si inviterà a uno scambio di esperienze tra settori."

OLYMPUS EUROPA - Markus Fabich, Specialista di Mercato Verticale, Divisione Soluzioni Scientifiche:

"In teoria, la microscopia (fluorescenza) è uno standard riconosciuto. Tuttavia, 'semplice' non è la parola che molti usano. Sono convinto di poter trasmettere come la moderna microscopia a fluorescenza rende più semplice e affidabile la routine nei controlli di contaminazione. Potrebbe essere anche il momento di dare uno sguardo alla videoscopica UV e allo stato attuale dell'analisi a fluorescenza a raggi X."

CSC JÄKLECHEMIE - Dr. Martin Hanek, Responsabile Sviluppo Commerciale (ST/E), Direttore del settore Superficie:

"Il titolo della mia presentazione è: Utilizzo delle forze dei metodi di pulizia a umido. Tratterò i metodi pratici di pulizia con acqua e solventi. Si tratta dei punti di forza e di debolezza di ciascun metodo di pulizia e di come sfruttare al meglio i punti di forza per ottenere un risultato ottimale.

Pulire il più possibile, ma non di più! È la mia prima partecipazione a questa conferenza specialistica. Sono ansioso di ascoltare interventi interessanti, di partecipare a discussioni stimolanti e di affrontare le sfide legate alla pulizia dei componenti."