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Progrès dans les processus, les masques et la technologie de mesure permettent de tirer pleinement parti des avancées en résolution offertes par le premier scanner EUV ASML 0,55NA.
Imec démontre la volonté de l'écosystème de la lithographie EUV à haute NA
Cette semaine, imec, un centre de recherche et d'innovation mondialement reconnu pour la nanoélectronique et les technologies numériques, présente lors de la conférence 2024 Advanced Lithography + Patterning les progrès réalisés dans les processus EUV, les masques et la métrologie, développés pour l…








