Corrélation démontrée entre les données morphologiques et électriques sur des lignes/espaces de 28 nm, ce qui améliore la compréhension des effets des défauts stochastiques sur la fiabilité et le rendement des composants
Imec pousse la capacité de patterning en une seule exposition de l'EUVL à 0,33NA jusqu'à ses limites
Cette semaine, imec, un centre de recherche et d'innovation mondialement reconnu dans le domaine de la nanoélectronique et des technologies numériques, et ASML, le principal fabricant mondial de machines de lithographie pour semi-conducteurs, présentent plusieurs conférences lors de la conférence SP…








