¿Año nuevo, trabajo nuevo? ¡Echa un vistazo a las ofertas! más ...
PMS Systec & Solutions GmbH Piepenbrock MT-Messtechnik

cleanroom online


Estructuración de exposición única a 28 nm de paso con el proceso MOx de Inpria en un escáner de campo completo EUV de NA 0,33 después de la metallización de Ru. / Patrocinado de exposición única a 28 nm de paso utilizando el proceso MOx de Inpria en un escáner de campo completo EUV de NA 0,33 después de la metallización de Ru. Paso de línea/espacios de 24 nm, obtenido en un escáner de campo completo NXE:3400B con NA de 0,33, (izquierda) después del desarrollo y (derecha) después del grabado en la dimensión crítica objetivo (CD) (uLER = rugosidad de borde de línea sin sesgo). Agujeros de contacto de 28 nm, obtenidos con un escáner de campo completo NXE:3400 de NA 0,33, después del revelado. / Contact holes of 28 nm obtained on a 0.33NA NXE:3400 full field scanner, after developing.

Correlación demostrada entre datos morfológicos y eléctricos en líneas/espacios de 28 nm, lo que aumenta la comprensión de los efectos de defectos estocásticos en la fiabilidad y el rendimiento de los componentes

Imec lleva la capacidad de patrón de exposición única de 0,33NA EUVL al límite

Esta semana, imec, un centro de investigación e innovación líder mundial en nanoelectrónica y tecnologías digitales, y ASML, el fabricante líder mundial de equipos de litografía de semiconductores, presentarán en la Conferencia SPIE Advanced Lithography 2021 varias ponencias que demuestran la capaci…

Reconocimiento en cinco categorías principales confirma a Vetter como un socio confiable incluso en tiempos difíciles

Vetter también obtiene éxito en 2021 en los CMO Leadership Awards

- Vetter destaca con excelentes valoraciones en categorías clave
- Resultados reflejan experiencias positivas de los clientes
- La distinción subraya el alto enfoque en el cliente del proveedor de servicios farmacéuticos

Vetter, una organización líder mundial en Contract Development y Manufacturing (CD…

Colaboración entre Sarcura e imec dirigida al desarrollo de una solución citométrica basada en fotónica de silicio, que permite el control y la manipulación de procesos celulares en tiempo real.

SARCURA e imec trabajan conjuntamente en una solución de citometría de alto rendimiento para la separación automatizada de células (T), con el fin de abordar los desafíos en la fabricación de terapias celulares y génicas

La Sarcura GmbH, una startup tecnológica austriaca en sus primeras etapas, anunció hoy la colaboración con imec, un centro líder mundial en investigación e innovación en nanoelectrónica y tecnologías digitales. El objetivo es desarrollar un prototipo de un zytómetro basado en un chip de silicio para…

Mejor informado: Con el ANUARIO, BOLETÍN, NEWSFLASH, NEWSEXTRA y el DIRECTORIO DE EXPERTOS

Manténgase al día y suscríbase a nuestro BOLETÍN mensual por correo electrónico y al NEWSFLASH y NEWSEXTRA. Obtenga más información sobre el mundo de las salas limpias con nuestro ANUARIO impreso. Y descubra quiénes son los expertos en salas limpias en nuestro directorio.

Buchta Pfennig Reinigungstechnik GmbH HJM ClearClean