Soluciones óptimas adaptadas para aplicaciones de precisión y alta pureza

En casos con una gran variedad de materiales, altas demandas de rendimiento y especificaciones de limpieza correspondientes a los Grados 2 y 1, los sistemas de limpieza ultrasónica multibaño son una solución óptima. Las estaciones de limpieza y enjuague pueden combinarse libremente, permitiendo incluso el uso de diferentes medios de limpieza y calidades de agua de enjuague. (Crédito de la foto: Ecoclean)

Para el desarrollo de procesos y la determinación de los parámetros de limpieza específicos de las piezas, disponen de centros de pruebas de alta pureza con salas limpias y el equipo de análisis adecuado. (Fuente de la imagen: Ecoclean) / High-purity test centers with cleanrooms and the appropriate analysis equipment are available for developing processes and determining part-specific cleaning parameters. (Photo credit: Ecoclean)

Construcción, procesamiento y equipamiento de los sistemas evitan que se produzcan recontaminaciones y contaminaciones cruzadas. Están diseñados para su conexión o integración en una sala limpia. (Crédito de la foto: Ecoclean)

La construcción y las características especiales de alta pureza del sistema de doble cámara para medios acuosos permiten una limpieza eficiente incluso de componentes de gran tamaño, logrando de manera estable las especificaciones de limpieza correspondientes al Grado 2. (Fuente de la imagen: Ecoclean) / Gracias al diseño y a las características especiales de alta pureza del sistema de doble cámara para medios acuosos, incluso componentes de gran tamaño pueden ser limpiados de manera eficiente para garantizar que se cumplan de manera constante las especificaciones de limpieza correspondientes al Grado 2. (Crédito de la foto: Ecoclean)

La opción de proceso de Limpieza con Presión Pulsada (PPC) garantiza que las contaminaciones también se eliminen de los más pequeños cavidades, estructuras capilares más finas y superficies porosas de componentes complejos. (Crédito de la foto: Ecoclean) / La opción del proceso de Limpieza con Presión Pulsada (PPC) elimina eficazmente las contaminantes, incluso de las cavidades más pequeñas, las estructuras capilares más finas y las superficies porosas de componentes complejos. (Crédito de la foto: Ecoclean)

Elemento de unión de tamaño milimétrico, óptica de precisión compleja o componente de gran tamaño para instalaciones, los requisitos de limpieza para componentes de alta tecnología son cada vez más exigentes y estrictos en numerosas industrias. Las especificaciones concretas varían según el componente, la industria y el campo de aplicación, pero con sistemas de limpieza convencionales generalmente no se puede alcanzar el resultado necesario para una calidad de producto estable. Como proveedor experimentado durante años de soluciones para la limpieza de precisión y alta pureza, Ecoclean impulsa de manera constante el desarrollo de sistemas de limpieza, procedimientos y procesos para este sector, entre otros con paquetes de equipamiento diseñados específicamente.

Son industrias como, por ejemplo, la industria de suministros para semiconductores, la industria óptica y optoelectrónica, la tecnología de capas delgadas, la tecnología de vacío, láser y análisis, así como la tecnología médica, en las que las exigencias de rendimiento y fiabilidad de componentes y piezas han aumentado enormemente y continúan creciendo. Esto tiene repercusiones en la limpieza de componentes.

Requisitos de limpieza más altos debido a nuevos productos y procesos

Para componentes utilizados en instalaciones de producción de semiconductores, los nuevos desarrollos, entre ellos en los escáneres y stepper para litografía EUV, no solo resultan en componentes mecánicos cada vez más complejos desde el punto de vista geométrico, sino que también son cada vez más grandes y pesados. Los diámetros de estos equipos hoy en día varían entre un milímetro y más de un metro, y la "brecha" continúa ampliándose. Paralelamente, aumenta la variedad de materiales. Además, las especificaciones en cuanto a limpieza particulada, química en película, limpieza orgánica e inorgánica se vuelven cada vez más estrictas. Lo mismo sucede con componentes de tecnología de vacío, utilizados en rangos UHV, XHV y UCV, por ejemplo, en sistemas láser de alto rendimiento, instrumentos de medición y análisis de alta tecnología. En ópticas de precisión como espejos, lentes y prismas, así como en componentes microópticos, las geometrías más complejas y los materiales modificados también plantean nuevas y desafiantes tareas de limpieza. En la tecnología de recubrimientos, los procesos cada vez más potentes exigen superficies extremadamente limpias. Y esto independientemente de si las piezas, como herramientas de maquinaria, componentes automotrices y productos ópticos, deben limpiarse antes o después de un recubrimiento.

Definición de limpieza adecuada a las necesidades

Para la limpieza de componentes, surgen tareas exigentes que abarcan todo el proceso de fabricación. Los requisitos de limpieza varían según el producto, el campo de aplicación y la empresa. Normalmente, la definición de especificaciones de limpieza particulada, que en aplicaciones de precisión y alta pureza alcanzan hasta el nivel nanómetro, se realiza mediante indicaciones sobre la clase de pureza superficial (ORK). Las especificaciones sobre la limpieza superficial en película, química, orgánica e inorgánica, generalmente se definen mediante requisitos individuales o normas internas de la empresa, por ejemplo, tasas de desgasificación, que se evalúan mediante espectrómetros de masas. Para resolver estos desafíos de manera adecuada, eficiente y sostenible, se requiere tanto un conocimiento tecnológico integral como conocimientos sobre las aplicaciones y las relaciones físicas. Como proveedor completo experimentado de soluciones orientadas al futuro para la limpieza de precisión y alta pureza, Ecoclean posee ambos. Esto garantiza soluciones de limpieza diseñadas y equipadas según los requisitos, que logran mantener especificaciones de limpieza definidas hasta los requisitos más estrictos actuales (por ejemplo, grado 1).

Selección del proceso de limpieza y tecnología de la planta adecuados

Los criterios principales para la selección del proceso de limpieza y la tecnología de la planta más adecuados son la limpieza a lograr, la contaminación a eliminar, así como el material y la geometría del componente. Sobre esta base, se puede determinar qué pasos del proceso y con qué medio de limpieza y mecánica son necesarios. Aspectos como la calidad del medio de enjuague y la tecnología de secado también influyen en esta consideración, así como el manejo de las piezas de manera limpia y las condiciones del entorno, por ejemplo, la conexión o integración en una sala limpia.

Si la especificación estándar es "libre de aceite y grasa", por ejemplo, grado 4, existen sistemas compactos y eficientes de cámaras de vacío completo, cuya tecnología, conducción y tratamiento de medios, así como su construcción, están especialmente adaptados para aplicaciones de limpieza de alta gama. Con estos sistemas, que operan con solventes respetuosos con el medio ambiente o con limpieza basada en agua, también se puede lograr de manera estable un resultado que cumple con los requisitos en componentes geométricamente complejos. Para ello contribuyen opciones de proceso casi ilimitadas, como lavado por inyección, rociado, alta presión, inmersión, ultrasonidos o megasonidos, limpieza por plasma, así como Ultrasonidos Plus o Limpieza por presión pulsada (PPC). Frecuentemente, en estas aplicaciones, debido a las ventajas relacionadas con los medios, como la posibilidad de limpiar diferentes materiales, se emplea un alcohol modificado (medio polar parcialmente). El límite de los requisitos alcanzables con estos sistemas, por ejemplo, grado 2.

Especialmente en piezas grandes, los sistemas de limpieza por cámara ofrecen ventajas gracias a la concentración de la mecánica del proceso en la cámara de trabajo, por ejemplo, PPC, ultrasonidos o megasonidos, y rociado por inyección. Para poder utilizar estas ventajas también en especificaciones de limpieza de grado 2 o similares, Ecoclean fabrica sistemas de doble cámara EcoCvela para la limpieza con medios basados en agua. Además de la equipación especial de alta pureza, los circuitos de medios completamente separados para limpieza y enjuague garantizan que el resultado de limpieza definido se logre de forma segura y reproducible en el proceso.

Si, debido a una gran variedad de materiales y/o altas demandas de rendimiento o requisitos de limpieza, que en algunos casos corresponden al grado 1, no es posible resolver las tareas de limpieza con un sistema de cámara de entrega relativamente rápida, será necesario un sistema de limpieza ultrasónico multibañera. La gama de soluciones de Ecoclean, basada en módulos estandarizados, de las series UCMSmartLine o UCMPerformanceLine, ofrece soluciones eficientes en este ámbito. Gracias a la tecnología eléctrica y de control integrada en los módulos para los pasos del proceso de limpieza, enjuague, secado, carga y descarga, y a la posibilidad de equiparlos con un sistema de transporte flexible, permiten una fácil adaptación a cada tarea y pueden ampliarse según sea necesario. Sistemas de limpieza ultrasónicos multibañera diseñados a medida, como UCM HighLine, se emplean habitualmente en aplicaciones de alta gama, por ejemplo, en la industria de suministros para semiconductores, la industria láser y óptica.

Desarrollo y diseño del proceso en el centro de pruebas

El concepto de la planta más adecuado desde los aspectos de limpieza y rentabilidad se determina mediante ensayos de limpieza con componentes originales o cuerpos de prueba. Ecoclean dispone de centros de pruebas de alta pureza específicos para ello. Esto permite el desarrollo específico del proceso de limpieza y de los parámetros del proceso, que pueden almacenarse como programas en el control de la planta. Esto garantiza que cada pieza se trate con los parámetros de proceso validados y que la pureza requerida se logre de manera estable y reproducible. Además, todos los parámetros relevantes del proceso pueden supervisarse, documentarse y transferirse a sistemas superiores.