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3 Schritte 10 häufige Fehler
  • Desinfektion | Verfahren, Geräte, Mittel, Medien (Tücher, Swaps,...)

Reinraumreinigung und -desinfektion in der Praxis: 10 häufige Fehler, die Risiken erhöhen – und wie man sie vermeiden kann

10 häufige Fehler bei der Reinraum-Reinigung und -Desinfektion

Wenn es um GMP geht, stehen meist Herstellprozesse, Validierungen oder Qualifizierungen im Mittelpunkt. Die Reinigung taucht in vielen Betrieben eher am Rand auf – als Routineaufgabe, die „mitläuft“.

Aber was denken Sie – wie viele GMP-Abweichungen hängen tatsächlich mit Reinigung zusammen?

Die Antwort ist n…

Imec leistet Pionierarbeit bei der Herstellung von Festkörper-Nanoporen im Wafer-Maßstab (300 mm) mit EUV-Lithographie, wie auf dem Foto zu sehen. © imec / Imec pioneers full wafer-scale (300mm) production of solid-state nanopores with EUV lithography, as shown on photo. © imec Querschnitt und Aufsicht im TEM: Die hergestellte Halbleiter-Nanopore. / Cross-sectional and top-view TEM of the fabricated solid-state nanopore, Querschnitt und Aufsicht im TEM: Die hergestellte Halbleiter-Nanopore. / Cross-sectional and top-view TEM of the fabricated solid-state nanopore,
  • Elektronik (Wafer, Halbleiter, Mikrochips,...)

Durchbruch ermöglicht skalierbare, hochpräzise Biosensorik-Anwendungen in Biowissenschaften und in der Medizintechnik

Imec demonstriert erstmals mittels EUV-Lithographie die Herstellung von Halbleiter-Nanoporen im Wafermaßstab

1. Imec hat die erste erfolgreiche Herstellung von Halbleiter-Nanoporen im Wafer-Maßstab mittels EUV-Lithographie auf 300mm-Wafern erreicht. Diese Innovation verwandelt die Nanoporen-Technologie von einem Konzept im Labormaßstab in eine skalierbare Plattform für Biosensorik, Genomik und Proteomik.
2. Na…

Die kundenindividuelle Planung, Dokumentation und Inbetriebnahme der von Automatisierungslösung für das Reinigungssystem sowie dessen Einbindung in bestehende Fertigungslinien runden das Angebotsspektrum ab. (Foto: acp systems AG) / Customized planning, documentation, and commissioning of the automation solution for the cleaning system, as well as its integration into existing production lines, round off the company's range of services. (Photo: acp systems AG) Zum Einsatz kommt das skalierbare quattroClean-Schneestrahlverfahren auch für die Reinigung von Front-Opening Unified Pods (FOUP), um die Sauberkeit von Wafern in der Halbleiterherstellung bei deren Aufbewahrung und Transport sicherzustellen. (Foto: acp systems AG) / The scalable quattroClean snow jet process is also used for cleaning Front-Opening Unified Pods (FOUP) to ensure the cleanliness of wafers in semiconductor manufacturing during storage and transport. (Photo: acp systems AG) Für die Prozessauslegung und Ermittlung der anwendungsspezifisch optimalen Reinigungsparameter verfügt der Hersteller über ein eigenes Reinraum-Technikum. (Foto: acp systems AG) / The manufacturer has its very own cleanroom technical center for designing processes and determining the optimal cleaning parameters for specific applications. (Photo: acp systems AG) Die trockene, ressourcenschonende quattroClean-Schneestrahltechnologie erfüllt die hohen Reinheitsanforderungen in der Elektronikfertigung stabil und reproduzierbar. Hier eine Anwendung aus der Medizintechnik, bei der neben einem Chip auch dessen Verpackung gereinigt wird. (Foto: acp systems AG) / The dry, resource-saving quattroClean snow jet technology meets the high cleanliness requirements in electronics manufacturing in a robust and reproducible manner. Here is an application from medical technology in which both a chip and its packaging are cleaned. (Photo: acp systems AG)
  • Reinigung | Verfahren, Geräte, Mittel, Medien (Tücher, Swaps,...)

quattroClean-Schneestrahltechnologie – trocken und fertigungsintegriert reinigen

Reinigungsherausforderungen in der Elektronik- und Halbleiterfertigung nachhaltig und effizient lösen

Die Elektronik- und Halbleiterfertigung steht vor verschiedenen Herausforderungen: Zunehmend kleinere Strukturgrößen, steigende Ansprüche an die Leistungsdichte, Zuverlässigkeit und Sicherheit elektronischer Komponenten sowie neue Fertigungstechnologien erfordern eine höhere Präzision und tech…

Laserentwicklung bei TRUMPF (Bildquelle: TRUMPF) / Laser development at TRUMPF (Photo: TRUMPF)
  • Elektronik (Wafer, Halbleiter, Mikrochips,...)

Entwicklung von Quantenalgorithmen // Gemeinsames Projekt von TRUMPF, Fraunhofer Institut für Lasertechnik ILT und FU Berlin // Effizienzsteigerung in der Lasertechnik angestrebt

Forschungsprojekt: TRUMPF will mit Quantencomputern seine Laser verbessern

Das Hochtechnologieunternehmen TRUMPF, das Fraunhofer-Institut für Lasertechnik ILT und das Dahlem Center for Complex Quantum Systems am Fachbereich Physik der Freien Universität Berlin erforschen die Grundlagen der Laserphysik mit Hilfe von Quantenalgorithmen. Das langfristige Ziel ist, mit Quant…

Auf den Gesamtprozess kommt es an. Durch die nahtlose Integration von Reinigungs- und Reinraumprozessen sind die einzelnen Schritte perfekt aufeinander abgestimmt. Höchste Reinheit und höchste Sicherheit entstehen durch die Auswahl der optimalen Reinigungstechnologie und der kontinuierlich überwachten Reinhaltung des Produktionsumfelds. (Fotos: LPW und Weiss Klimatechnik) Die Klimatisierung des Weiss Klimatechnik-Reinraums sorgt für stabile Bedingungen und spart Energie. Die eingesetzten Filtersysteme sowie die thermische und hygienische Aufbereitung erreichen ISO-Klasse 6 oder 5. (Fotos: LPW und Weiss Klimatechnik) Reinräume schaffen jene Umgebungsbedingungen, die für die Folgeprozesse (Montage, Verpackung etc.) nach der Teilereinigung erforderlich sind. Die Reinigungstechnik muss an diese Bedingungen in enger technischer Abstimmung adaptiert werden. (Fotos: LPW und Weiss Klimatechnik) Das System PowerJet Compact CNp (v. l. n. r. Module Clean, Clean AM und Pure) ist standardmäßig mit einer in die beiden Vorlagetanks eingebetteten Behandlungskammer für Ware bis zu einer Chargengröße von 600 x 400 x 300 mm für Gewichte bis 150 kg ausgelegt. Die Kreislaufführung verfügt über eine integrierte Vollstromfiltration mit einer Filterfläche von über 4 m² und Filtereinheiten bis zu 0,5 µm. (Fotos: LPW und Weiss Klimatechnik)
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Kooperation LPW und Weiss Klimatechnik

Modulares Reinigungssystem und Reinraum für höchste High Purity-Anforderungen

Wo höchste Reinheit gefragt ist, sind präzise sowie lückenlos aufeinander abgestimmte Prozesse unverzichtbar. Diesbezüglich sind LPW Reinigungssysteme GmbH sowie Weiss Klimatechnik GmbH gefragte Partner. Denn sie bieten für Branchen wie etwa Medizin-, Halbleiter-/Hochvakuumtechnik, Luft- und Ra…

Montech Reinraumförderbänder mit nachgewiesener geringer Partikelemission. (Copyright: MONTECH AG)
  • Transfersysteme

Fraunhofer IPA bestätigt die Reinraumtauglichkeit von drei Montech-Förderbändern. Die geprüften Modelle erfüllen die Anforderungen bis ISO-Klasse 4 und bieten hohe Prozesssicherheit für sensible Produktionsumgebungen.

Fraunhofer IPA bestätigt Reinraumtauglichkeit von drei Montech-Förderbändern

Die Montech AG hat vom Fraunhofer-Institut für Produktionstechnik und Automatisierung IPA das TESTED DEVICE® Zertifikat für drei Förderbandmodelle erhalten. Getestet wurden das TB30R-140x1500/VR, das TB40R-400x1500/VR sowie das TB30R-140x1500/MR. Alle drei Systeme erfüllen nachweislich die Rein…

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