Nový rok, nová práce? Podívejte se na nabídky! více ...
C-Tec PMS Pfennig Reinigungstechnik GmbH Becker
cleanroom online
Němčina Angličtina Francouzština Maďarština Polština Čeština Italština Španělština Nizozemština

Všechny publikace od Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS

FeFET wafer © Fraunhofer IPMS Ilustrace ferroelektrických prvků na bázi HfO₂, které umožňují škálovatelné, CMOS-kompatibilní nespalující paměti. Architektura podporuje integraci jak do front-endových (FeFET), tak do back-endových paměťových struktur a zároveň otevírá možnosti pro pokročilé ferroelektrické funkce, jako jsou multiferroické, pyroelektrické a laditelné HF prvky. © Fraunhofer IPMS
  • ‌
  • Elektronika (wafer, polovodiče, mikročipy,...)

Úspěšná výměna válečků pro ferroelektrické ukládací materiály mezi Fraunhofer IPMS a CEA-Leti v rámci pilotní linky FAMES

Fraunhofer IPMS a CEA-Leti úspěšně dokončily první výměnu ferroelektrických vzorků waferů v rámci pilotní linky FAMES. Tím byl dosažen důležitý milník ve společné evropské platformě pro pokročilé vestavěné nevolatilní paměťové technologie. S tímto úspěchem prokázala pilotní linka, která byla spuštěn…
Nový měřicí adaptér pro současné kontaktování až osmi párů interdigitalních elektrod. © Fraunhofer IPMS / New measurement adapter for simultaneous contacting of up to eight interdigital electrode pairs. © Fraunhofer IPMS Explosivní schéma měřicího adaptéru s umístěním čipu AX1580. Červené zásuvky kontaktují bránu, zatímco SMA zásuvky kontaktují každý pár zdroj-odvod. © Fraunhofer IPMS / Explozivní pohled na měřicí adaptér ukazující umístění čipu AX1580. Červené zásuvky se připojují ke bráně, zatímco SMA zásuvky se připojují ke každému páru zdroj-odvod. © Fraunhofer IPMS Čip AX1580, 15x15 mm², s 8 zlatými interdigitálními elektrodovými páry s šířkou kanálu 10 mm a délkami kanálů 2,5; 5; 10 a 20 µm. Samotný čip může být použit jako bránková elektroda; bránkový oxid mezi bránou a interdigitálními elektrodami je typicky SiO₂ s tloušťkou 230 nm. © Fraunhofer IPMS / Čip AX1580, 15x15 mm², s 8 zlatými interdigitálními elektrodovými páry s šířkou kanálu 10 mm a délkami kanálů 2,5; 5; 10 a 20 µm. Samotný čip může být použit jako bránková elektroda; bránkový oxid mezi bránou a interdigitálními elektrodami je typicky SiO₂ s tloušťkou 230 nm. © Fraunhofer IPMS
  • ‌
  • Elektronika (wafer, polovodiče, mikročipy,...)

Revoluční čipy pro výzkum materiálů

Fraunhofer IPMS uzavírá mezeru v charakterizaci organických polovodičů

Inovativní čipy Fraunhoferova institutu pro fotonické mikrosystémy IPMS revolucionalizují charakterizaci organických materiálů a urychlují vývoj nových elektronických aplikací. Nově vyvinutý měřicí adaptér umožňuje poprvé současné kontaktování až osmi párů interdigitálních elektrod a stanovuje tak n…
Kontrolní kontroly ve výrobním procesu waferů. © Fraunhofer IPMS / Kontrola kvality ve výrobním procesu waferů. © Fraunhofer IPMS
  • ‌
  • Reinstmedien (voda, plyny, ...)

Čistá voda pro udržitelnou výrobu polovodičů

Fraunhofer IPMS, AlixLabs a NSS Water revolučně mění udržitelnou správu čisté vody ve výrobě polovodičů

AlixLabs a NSS Water oznamují strategickou spolupráci na vývoji udržitelných a nákladově efektivních řešení pro správu čisté vody (německy pro ultra-pure water, UWP) v výrobě čipů. Vzhledem k narůstajícím obavám z neustále rostoucí spotřeby vody v polovodičovém průmyslu budou obě švédské společnosti…
Experti z DIVE a Fraunhofer IPMS v čisté místnosti ve Freibergu. © Fraunhofer IPMS / Experti z DIVE a Fraunhofer IPMS v čisté místnosti ve Freibergu. © Fraunhofer IPMS Obrazové systémy od DIVE umožňují nedestruktivní kontrolu waferů. © DIVE imaging systems GmbH / Imaging Systems from DIVE for a non-invasive wafer control. © DIVE imaging systems GmbH
  • ‌
  • Zařízení

Inovativní partnerství pro úspornou kontrolu waferů

Fraunhofer IPMS a DIVE optimalizují polovodičové procesy s inovativním měřicím systémem

Fraunhoferův institut pro fotonické mikrosystémy IPMS společně s firmou DIVE imaging systems GmbH zavedl zásadní krok směrem k úsporné výrobě polovodičů. S úspěšnou instalací optického měřicího zařízení od DIVE v čisté místnosti Fraunhofer IPMS se podařilo výrazně snížit kontrolní náklady během výro…
Použití chemikálií v čisté místnosti. © Fraunhofer IPMS / Einsatz von Chemikalien im Reinraum. © Fraunhofer IPMS Přehled mezinárodních projektových partnerů. © GENISIS/ CEA-Leti / Přehled mezinárodních projektových partnerů. © GENISIS/ CEA-Leti GENESIS zahájení © CEA-Leti Pět fází v procesu výroby čipů je řešeno společností GENESIS. © CEA-Leti / Pět klíčových etap v životním cyklu výroby čipů řešených společností GENESIS. © CEA-Leti
  • ‌
  • Know How, Institut

Startovní výstřel pro evropský projekt »GENESIS«

Projekt GENESIS minimalizuje ekologickou stopu evropského polovodičového průmyslu

Pro projekt GENESIS, který se věnuje vývoji udržitelných procesů a technologií pro dodavatelský řetězec výroby polovodičů, se spojilo konsorcium napříč Evropou. Tato interdisciplinární velká iniciativa podporuje úsilí evropského průmyslu čipů dosáhnout svých cílů udržitelnosti – od vývoje materiálů…
Pohled do NEWSLETTERU

Lépe informováni: S ROČENKOU, NEWSLETTEREM, NEWSFLASH, NEWSEXTRA a ADRESÁŘEM ODBORNÍKŮ

Buďte aktuální a přihlaste se k odběru našeho měsíčního e-mailového NEWSLETTERU a NEWSFLASH a NEWSEXTRA. Získejte další informace o dění ve světě čistých prostorů s naší tištěnou ROČENKOU. A zjistěte, kdo jsou odborníci na čisté prostory, v našem adresáři.

HJM ClearClean Berner International GmbH Hydroflex