Pfeiffer Vacuum prezentuje na targach Semicon Korea innowacyjne rozwiązania próżniowe

Nowe suche pompy z serii A4 firmy Pfeiffer Vacuum. / Neue Trockenläufer der A4 Serie von Pfeiffer Vacuum.

- Nowa seria suchych rozbieraków A4

- Nowy suchy rozbierak A 200 L

- Nowe magnetycznie zawieszone turbopompy serii ATH-M

Pfeiffer Vacuum, wiodący na świecie dostawca technologii próżniowej, bierze udział w targach Semicon Korea w Seulu w dniach od 12 do 14 lutego 2014 roku. Odwiedzający stoisko będą mogli wymienić się doświadczeniami z ekspertami Pfeiffer Vacuum na temat innowacyjnych rozwiązań w zakresie próżni. „Cieszymy się, że na Semicon Korea zaprezentujemy ważne nowe rozwiązania w zakresie próżni. Dzięki tym rozwojom produktów wyznaczamy standardy w całym sektorze próżniowym”, mówi dr Matthias Wiemer, członek zarządu Pfeiffer Vacuum Technology AG. Firma prezentuje na stoisku 5730 w hali D nowe produkty:

Nowa seria suchych rozbieraków A4

Bezolejowe, wielostopniowe pompy tłokowe serii A4 oferują podciśnienie od 100 do 1700 m3/h. Te energooszczędne i niezawodne pompy są idealne do zastosowań w wymagających procesach przemysłu półprzewodnikowego i powłokowego. Dzięki odporności na korozję materiałów i wysokiemu przepływowi gazu, seria pomp jest na przykład optymalna do zastosowań w procesach CVD.

Nowy suchy rozbierak A 200 L

Nowa bezolejowa, wielostopniowa pompa tłokowa A 200 L, mimo niewielkich rozmiarów, zapewnia wysokie podciśnienie i bardzo krótkie czasy odsysania. Ten suchy rozbierak jest przeznaczony do pracy w czystych pomieszczeniach i jest idealny do zastosowań w czystych środowiskach, takich jak komory przeładunkowe i transferowe, a także do innych niekorozyjnych zastosowań. Ponadto A 200 L charakteryzuje się łatwą integracją z urządzeniami do produkcji półprzewodników i szczególnie oszczędnym zużyciem energii.

Nowe magnetycznie zawieszone turbopompy ATH 2804 M i ATH 3204 M

W magnetycznie zawieszonych turbopompach serii ATH-M aktywne magnetyczne łożysko 5-osiowe monitoruje pozycję wirnika. Dzięki tej wysokiej jakości technologii łożyskowej zapewniona jest długoterminowa stabilność i niezawodność w połączeniu z wysoką płynnością pracy. Ze względu na wyposażenie procesowe tych wysokoprzepływowych pomp oraz ich doskonałe podciśnienie, są one idealne do zastosowań w produkcji półprzewodników, zwłaszcza w procesach etching, a także w wielu innych zastosowaniach przemysłowych.

Pfeiffer Vacuum będzie również prezentować swoje produkty na targach Semicon China w Szanghaju w dniach od 18 do 20 marca 2014 roku.

Adres targów Semicon Korea:

Convention & Exhibition Center (COEX)
159 Samsung-dong, Gangnam-gu,
Seul 135731, Korea
Stoisko 5730 w hali D