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Pfeiffer Vacuum presenta alla fiera Semicon Korea soluzioni innovative per il vuoto

Nuove pompe a secco della serie A4 di Pfeiffer Vacuum. / New dry pumps from Pfeiffer Vacuum in their A4 series.
Nuove pompe a secco della serie A4 di Pfeiffer Vacuum. / New dry pumps from Pfeiffer Vacuum in their A4 series.

- Nuova serie di pompe a secco A4

- Nuova pompa a secco A 200 L

- Nuove turbopompe a magneti con cuscinetto ATH-M serie

Pfeiffer Vacuum, leader mondiale nel settore della tecnologia del vuoto, partecipa alla fiera Semicon Korea a Seoul dal 12 al 14 febbraio 2014. I visitatori dello stand potranno confrontarsi con esperti di Pfeiffer Vacuum sulle soluzioni innovative per il vuoto. «Siamo lieti di presentare alla Semicon Korea importanti nuove soluzioni per il vuoto. Con questi sviluppi di prodotto, stabiliremo nuovi standard in tutto il settore del vuoto», afferma il dott. Matthias Wiemer, membro del consiglio di amministrazione di Pfeiffer Vacuum Technology AG. L’azienda presenta allo stand 5730 nella Hall D i nuovi prodotti:

Nuova serie di pompe a secco A4

Le pompe a pistoni rotativi multistadio senza olio della serie A4 offrono una portata di aspirazione da 100 a 1.700 m3/h. Queste pompe efficienti dal punto di vista energetico e affidabili sono ideali per l’uso in processi complessi dell’industria dei semiconduttori e delle rivestimenti. Grazie a materiali resistenti alla corrosione e a un elevato flusso di gas, questa serie di pompe è ad esempio ottimale per applicazioni nei processi CVD.

Nuova pompa a secco A 200 L

La nuova pompa a pistoni rotativi multistadio senza olio A 200 L offre, nonostante le dimensioni compatte, un’elevata portata di aspirazione e tempi di svuotamento molto brevi. Questa pompa a secco è adatta per il funzionamento in ambienti puliti e ideale per applicazioni come camere di trasferimento e di transito, nonché per tutte le altre applicazioni non corrosive. Inoltre, l’A 200 L si distingue per una facile integrazione negli impianti di produzione di semiconduttori e per un funzionamento particolarmente a risparmio energetico.

Nuove turbopompe a magneti ATH 2804 M e ATH 3204 M

Le turbopompe a magneti della serie ATH-M sono dotate di un magnete attivo a 5 assi che controlla la posizione del rotore. Grazie a questa tecnologia di alta qualità, si ottiene stabilità e affidabilità a lungo termine unite a un’elevata silenziosità di funzionamento. Grazie alla dotazione di processo di queste pompe ad alto vuoto e al loro ottimo flusso di aspirazione, sono ideali per l’uso nella produzione di semiconduttori, in particolare nei processi di etching, nonché per molte altre applicazioni industriali.

Pfeiffer Vacuum parteciperà anche alla fiera Semicon China a Shanghai dal 18 al 20 marzo 2014.

Indirizzo della fiera Semicon Korea:

Convention & Exhibition Center (COEX)
159 Samsung-dong, Gangnam-gu,
Seoul 135731, Corea
Stand 5730 nella Hall D


Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions
35614 Asslar
Germania


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