Aktywacja powierzchni za pomocą elastycznych i poręcznych źródeł plazmy

Kompakte, atmosfericzne źródło plazmy w paśmie ISM 2,45 GHz, m.in. odpowiednie do aktywacji powierzchni lub zastosowań medycznych. (© FBH/D. Wolf) / Compact, atmospheric plasma source in the 2.45 GHz ISM band, suited e.g. for surface activation or medial applications. (© FBH/D. Wolf)

Kompakte Pulslichtquelle liefert flexible Pulse im Piko- und Nanosekundenbereich mit Nanojoule-Energien. (© FBH/P. Immerz) / Kompaktowe źródło światła impulsowego zapewniające elastyczne impulsy w zakresie pikosekund i nanosekund z energią nanojouli. (© FBH/P. Immerz)

Na targach branżowych SEMICON Europa w Monachium, Ferdinand-Braun-Institut, Leibniz-Institut für Höchstfrequenztechnik (FBH), zaprezentuje od 13 do 16 listopada 2018 najnowsze i rozwijane technologie. Instytut będzie prezentować się na wspólnym stoisku »Forschungsfabrik Mikroelektronik Deutschland« w hali A4, stoisko 504.

Na stoisku FBH pokaże między innymi kompaktowe źródło plazmy atmosferycznej, które na przykład nadaje się do obróbki powierzchni i integracji z maszynami produkcyjnymi lub procesowymi. Na miejscu zostaną przykładowo aktywowane testowe powierzchnie, aby przygotować je do druku lub powlekania. Źródło pracujące w paśmie ISM 2,45 GHz składa się z mikrofalowego oscylatora mocy, rezonatora do pobudzania plazmy oraz elektroniki sterującej, które są zintegrowane w kompaktowej obudowie. Dostarczanie medium plazmy (powietrze, tlen, argon, ...) oraz medium chłodzącego jest tak elastycznie zrealizowane, że źródło może być zintegrowane zarówno ręcznie (np. w medycynie), jak i w maszynach produkcyjnych lub procesowych (np. przemysł drukarski, urządzenia do powlekania). Źródło plazmy osiąga moc około 20 W, co wystarcza dla wielu zastosowań.

Na stoisku można również zobaczyć wszechstronne źródło impulsowe (PLS), które łączy dwie kluczowe kompetencje FBH: dostosowane diodowe lasery do generowania impulsów w połączeniu z zoptymalizowanymi komponentami wysokiej prędkości do sterowania. PLS dostarcza bardzo precyzyjne impulsy w zakresie pikosekund i nanosekund z energią nanojouli. Energia impulsu, szerokość, odstęp oraz częstotliwość powtórzeń mogą być elastycznie dostosowywane. System laserowy oferuje dowolnie wybierane częstotliwości kolejnych impulsów od Hertzów do megaherców i szczytowe moce impulsów do 50 watów. System wszechstronny może być sterowany komputerowo w różnych trybach impulsów i łatwo integrować się z różnymi systemami laserowymi.

Ponadto, FBH prezentuje demonstrator potencjałowo wolnego, różnicowego głowicy pomiarowej do pomiaru wysokich prądów. Dzięki temu adapterowi pomiarowemu dla oscyloskopów można zmierzyć różnicowe sygnały elektryczne w zakresie częstotliwości od DC do ponad 1 GHz galwanicznie odseparowane – nawet przy nakładaniu się wysokiego napięcia wspólnego. Jako kolejne eksponaty można zobaczyć heterointegrowane układy scalone do zastosowań terahercowych, które łączą zalety dwóch światów technologii na poziomie chipu: wysokie moce wyjściowe z fosforku indu, złożoność technologii krzemowej.