Szakértők számolnak be a 2. Szakkonferencián "Filmes szennyeződés" 2017. november 14-15-én Ludwigsburgban, Stuttgart mellett, szerzett tapasztalataikról.

Banner_eMailing

Konferencia-Filmikus Szennyezés_web

TE Connectivity - Volker Seipel
Platform Element Engineering Core Technologies igazgató

"Elektromos préselt érintkezők a gyártási folyamat során olajokkal és más folyadékokkal szennyeződnek. Az előadás bemutatja, milyen hatással lehetnek ezek a szennyeződések, és hogyan biztosít a TE folyamatbiztos termékeket. A konferencia számomra fórumot jelent, ahol elsősorban kapcsolatokat építhetek és tanulhatok."

HMT - Háseler Metall Technik - Dominik Falk
Felülettechnológiai üzletág vezető

"A filmes szennyeződések témája már régóta nagy téma cégünknél. Ezért mindig keresünk megfelelő mérési módszereket. Amikor olyan módszereket találunk, amelyek potenciállal rendelkeznek, teszteljük azokat nálunk, és összehasonlítjuk a jelenleg alkalmazott gyakorlattal. Itt nagyon gyorsan kiderül, mennyire alkalmas a módszer, illetve milyen potenciál rejlik benne, és hol van szükség továbbfejlesztésre.
Nagyon várom az eseményt, mert egyedülálló az iparágban. A szakmai konferencián ugyanazok az OEM-ek és a teljes beszállítói lánc vannak jelen. Számomra a legszebb az, hogy mindenki egyenrangúan beszél, és nagyon jó szakmai tudás halmozódik fel, új trendeket lehet megismerni, valamint gyakorlati példákat és megoldásokat osztanak meg egymással."

Witzenmann GmbH - Andrea Krause
Ti-ts fejlesztési osztály, technikai tisztaság

"A gyártási folyamat során különféle segéd- és működő anyagokat használnak, amelyek szükségesek ahhoz, hogy a folyamat egyáltalán működjön. Sajnos ezek nem mindig mentesek a „mellékhatásoktól”, és a későbbi lépésekben súlyos zavarokat okozhatnak. Ez drámainak hangzik, de kezelhető, mivel a problémákat általában időben észreveszik. Ezt a problémakört megfelelő tisztítási lépésekkel lehet minimalizálni. Alapvetően ez érvényes a megrendelő által végzett összeszerelésre is, amely meghatározza a termékkel szemben támasztott követelményeket.

Nehezebb elkerülni a nem kívánt hatásokat a későbbi működés során. Ehhez ismerni kell minden anyagot, amely a folyamat során tervszerűen vagy véletlenszerűen érintkezhet a termékkel. A potenciális kockázatok értékeléséhez figyelembe kell venni a működési körülményeket. Ártalmatlan visszamaradások a gyártási folyamatból lebomolhatnak a használat során, és agresszív anyagokat szabadíthatnak fel. Ez egy holisztikus megközelítést igényel, amely túlmutat saját folyamatunkon, és szoros együttműködést a vevőkkel."

"Egy példán keresztül bemutatom, mennyire összetettek lehetnek az érintett anyagok és azok „mellékhatásai”, valamint hogyan segíthet a szimuláció a kockázatértékelésben."

nanoAnalytics - Dr. Andreas Schäfer
Ügyvezető és laborvezető

"Előadásom a laboratóriumi analitika alkalmazási lehetőségeiről szól a filmes szennyeződések területén, és arról, hogyan lehet a filmes szennyeződéseket a lehető legpontosabban jellemezni. Gyakran az a cél, hogy az érintett anyagokat azonosítsuk. Más esetekben a laterális eloszlást vagy a töltöttség erősségét vizsgálják. Rövid általános bevezető után példákra fogok összpontosítani. Természetesen várom, hogy találkozhatok régi ismerősökkel, de különösen azzal, hogy új kapcsolatokat építsek. A filmes szennyeződések szerepe rendkívül széles terület. Ezért szinte inevitable, hogy ilyen eseményeken új, érdekes kapcsolatokat alakítunk ki."

Carl Zeiss SMT - Dr. Roland Steiner
Igazgató, Tisztítási Technológia

"El fogom mondani, hogy a filmes szennyeződések (mások mellett) milyen fontos szerepet játszanak a litográfiai rendszerek gyártásában. Kiemelten fontos, hogy az ilyen szennyeződések kimutatása, elkerülése és végső soron eltávolítása már a gyártás során, valamint az egész beszállítói láncon keresztül megtörténjen. Itt a ZEISS Szilíciumipari Gyártástechnológia (SMT) részlegének folyamatfejlesztési aspektusaira fogok kitérni."

OHB Systems - Dr. Axel Müller
Tisztasági mérnök

"Előadásom a űrkutatásban alkalmazott speciális kémiai-filmborítási tisztasági követelményekről szól. Különösen a nagyfelbontású felvételek vagy a Föld spektroszkópiája 36 000 km-es távolságból való garantálásához szükséges különleges intézkedésekről, amelyek a tisztaságot érintik a tervezésben, anyagválasztásban és alkalmazási módszerekben. Emellett a karbantartásmentes működés sajátosságokat kíván a folyamatbiztonság (ragasztás terén), amelyek a felületi tisztaság és a mérési módszerek követelményeit is magukban foglalják. E két aspektust bemutatom, és egy iparágakat átívelő tapasztalatcserét hívok életre."

OLYMPUS EUROPA - Markus Fabich
Vertikális Piaci Szakértő Gyártási Tudományos Megoldások Osztály

"Az (fluoreszcens) mikroszkópia általánosan elfogadott technológia. Ennek ellenére a „egyszerű” szó nem az, amit sokan kimondanak. Meg vagyok győződve arról, hogy a modern FL-mikroszkópia megkönnyíti és megbízhatóbbá teszi a szennyeződésvizsgálat rutinját. Lehet, hogy az idő még lehetőséget ad arra is, hogy betekintést nyújtsak az UV-videó mikroszkópiába és a röntgenfluoreszcencia analitika aktuális állásába."

CSC JÄKLECHEMIE - Dr. Martin Hanek
Üzletfejlesztés (ST/E) Osztályvezető, Felület

"Előadásom címe: Nedves tisztítási eljárások - a médiumok erősségeinek kihasználása. A gyakorlatban releváns vízi- és oldószeres eljárásokat fogom tárgyalni. A lényeg a tisztítási eljárások erősségeinek és gyengeségeinek bemutatása, valamint annak vizsgálata, hogyan lehet ezeket a tulajdonságokat céltudatosan kihasználni a legjobb eredmény eléréséhez.
Tisztítás, amennyire csak szükséges, de nem annyira, amennyire lehetne! Ez az első részvételem ezen a szakmai konferencián. Várom az érdekes előadásokat, az ösztönző vitákat és a kihívásokat a részegység- és alkatrésztisztítás témakörében."