Eksperci relacjonują na 2. Konferencji Fachowej "Zanieczyszczenie filmowe" w dniach 14 i 15 listopada 2017 roku w Ludwigsburgu pod Stuttgarem swoje doświadczenia.

Baner_eMailing

Konferenz-Filmische-Verunreinigung_web

TE Connectivity - Volker Seipel
Manager Platform Element Engineering Core Technologies

"Elektromechaniczne styki tłoczone są zanieczyszczone olejami i innymi płynami w wyniku procesu produkcyjnego. Prezentacja opisuje, jaki wpływ mogą mieć te zanieczyszczenia oraz jak TE zapewnia produkty procesowo-bezpieczne. Konferencja stanowi dla mnie forum, aby przede wszystkim nawiązać kontakty i się uczyć."

HMT - Häseler Metall Technik - Dominik Falk
Dyrektor działu technologii powierzchni

"Temat zanieczyszczeń filmowych jest od dawna ważny w naszej firmie. Dlatego zawsze poszukujemy odpowiednich metod pomiarowych. Gdy znajdziemy potencjalne metody, testujemy je u nas i porównujemy z obowiązującą praktyką. Szybko okazuje się, jak bardzo dana metoda jest już przydatna lub jakie ma potencjały i gdzie wymaga dalszego rozwoju.
Cieszę się na to wydarzenie, ponieważ jest ono unikalne w branży. Na konferencji spotykają się zarówno OEM-y, jak i cała łańcuch dostaw. Co jest piękne, to fakt, że wszyscy dyskutują na równych zasadach i posiadają bardzo dobrą wiedzę fachową, poznają nowe trendy oraz dzielą się przykładami praktycznymi i wdrożeniami."

Witzenmann GmbH - Andrea Krause
Dział rozwoju ti-ts, czystość techniczna

"W procesie produkcyjnym używa się różnych środków pomocniczych i operacyjnych, które są niezbędne do funkcjonowania procesu. Niestety, nie zawsze są one wolne od „skutków ubocznych” i mogą powodować poważne zakłócenia na kolejnych etapach. Brzmi to dramatycznie, ale jest do opanowania, ponieważ nieprawidłowości zwykle są szybko wykrywane. Ten problem można zminimalizować odpowiednimi krokami czyszczenia. Dotyczy to zasadniczo również montażu przez klienta, który określa odpowiednie wymagania dotyczące produktu.

Trudniej jest unikać niepożądanych efektów w późniejszej eksploatacji. Aby to zrobić, konieczne jest poznanie wszystkich substancji, które mogą mieć kontakt z produktem w trakcie procesu, zarówno planowo, jak i przypadkowo. Aby ocenić potencjalne ryzyko w użytkowaniu, trzeba uwzględnić warunki pracy. Nieszkodliwe pozostałości z procesu produkcyjnego mogą się rozkładać pod warunkami eksploatacji i uwalniać agresywne substancje. Wymaga to holistycznego podejścia wykraczającego poza własny proces i ścisłej współpracy z klientami.

Na podstawie przykładu pokażę, jak złożone mogą być substancje zaangażowane i ich „skutki uboczne” oraz jak symulacje mogą pomóc w ocenie potencjału ryzyka."

nanoAnalytics - Dr. Andreas Schäfer
Dyrektor zarządzający i kierownik laboratorium

"W mojej prezentacji chodzi o możliwości zastosowania analityki laboratoryjnej w zakresie zanieczyszczeń filmowych i jak można je jak najdokładniej scharakteryzować. Często chodzi głównie o identyfikację substancji zaangażowanych. W innych przypadkach bada się rozkład lateralny lub siłę zajętości. Oprócz krótkiego wprowadzenia ogólnego, skupimy się na przykładach. Z niecierpliwością czekam na spotkanie ze starymi znajomymi, a przede wszystkim na nawiązanie nowych kontaktów. Dziedzina, w której odgrywają rolę zanieczyszczenia filmowe, jest bardzo szeroka. Dlatego na wydarzeniach na ten temat niemal nieuchronnie nawiązuje się nowe, interesujące kontakty."

Carl Zeiss SMT - Dr. Roland Steiner
Dyrektor ds. technologii czyszczenia

"Przedstawię, w jakim stopniu zanieczyszczenia filmowe (obok innych) odgrywają ważną rolę już przy produkcji systemów litograficznych. Kluczowe jest, aby wykrywanie, unikanie i usuwanie takich zanieczyszczeń odbywało się już na etapie produkcji i w całym łańcuchu dostaw. Skupię się na aspektach rozwoju procesu w dziale Semiconductor Manufacturing Technology (SMT) firmy ZEISS."

OHB Systems - Dr. Axel Müller
Inżynier ds. czystości

"Moja prezentacja dotyczy specjalnych wymagań dotyczących czystości chemiczno-filmowej w lotnictwie. Przy zadaniu zapewnienia wysokiej rozdzielczości zdjęć lub spektroskopii Ziemi z odległości 36 000 km, szczególne środki ostrożności w zakresie czystości w projektowaniu, doborze materiałów i metodach stosowania są oczywiste. Ponadto bezobsługowa eksploatacja wymaga szczególnych rozwiązań w zakresie bezpieczeństwa procesu (klejenie), co pociąga za sobą wymagania dotyczące czystości powierzchni i metod wykrywania. Te dwa aspekty zostaną omówione i zaproszą do wymiany doświadczeń między branżami."

OLYMPUS EUROPA - Markus Fabich
Specjalista ds. rynku pionowego, dział rozwiązań naukowych

"Pod względem technicznym mikroskopia (fluorescencyjna) jest uznaną metodą. Jednak słowo „prosty” nie jest tym, które przychodzi wielu na myśl. Jestem przekonany, że potrafię przekazać, jak nowoczesna mikroskopia fluorescencyjna upraszcza rutynę w kontroli zanieczyszczeń i czyni ją bardziej niezawodną. Może się okazać, że czas jeszcze pozwoli na wgląd w wideomikroskopię UV i aktualny stan analityki rentgenowskiej fluorescencji."

CSC JÄKLECHEMIE - Dr. Martin Hanek
Dyrektor ds. rozwoju biznesu (ST/E), dział powierzchni

"Tytuł mojej prezentacji to: Metody czyszczenia na mokro - wykorzystywanie mocnych stron mediów. Omówię praktyczne metody czyszczenia wodne i rozpuszczalnikowe. Chodzi o mocne i słabe strony poszczególnych metod czyszczenia i jak celowo wykorzystywać ich mocne strony, aby osiągnąć optymalne wyniki.
Czyszczenie jak najbardziej konieczne, ale nie tak dobre, jak możliwe! To moja pierwsza udział w tej konferencji branżowej. Czekam na interesujące prelekcje, inspirujące dyskusje i wyzwania związane z czyszczeniem elementów."