Gli esperti riferiscono alla 2ª Conferenza Specializzata "Inquinamento Cinematografico" il 14 e 15 novembre 2017 a Ludwigsburg vicino a Stoccarda sulle loro esperienze.

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Filmato della conferenza - Inquinamento

TE Connectivity - Volker Seipel
Manager Platform Element Engineering Core Technologies

"I contatti di stampaggio elettrici vengono contaminati durante il processo di produzione con oli e altri fluidi. La presentazione descrive quale influenza queste contaminazioni possono avere e come TE mette a disposizione prodotti sicuri per il processo. La conferenza rappresenta per me un forum per stabilire soprattutto contatti e imparare."

HMT - Häseler Metall Technik - Dominik Falk
Responsabile Area Tecnica Superficiale

"Il tema delle contaminazioni filmiche è da molto tempo un grande argomento nella nostra azienda. Per questo motivo siamo sempre alla ricerca di metodi di misurazione appropriati. Quando troviamo metodi con potenziale, li testiamo presso di noi e li confrontiamo con le pratiche attualmente diffuse. Qui si vede molto rapidamente quanto il metodo sia già adatto o quale potenziale abbia e dove deve essere ulteriormente sviluppato.
Non vedo l'ora di partecipare all'evento, poiché è unico nel settore. Alla conferenza professionale si incontrano allo stesso modo OEM e tutta la catena di fornitura. La cosa bella è che tutti discutono alla pari e si ha una grande conoscenza tecnica, si apprendono nuove tendenze e si condividono esempi pratici e implementazioni."

Witzenmann GmbH - Andrea Krause
Dipartimento di Sviluppo ti-ts Pulizia Tecnica

"Nel processo di produzione vengono utilizzate varie sostanze ausiliarie e di esercizio, necessarie affinché il processo funzioni. Purtroppo, queste non sono sempre prive di 'effetti collaterali' e possono causare gravi disturbi nelle fasi successive del processo. Sembra drammatico, ma è gestibile, poiché le anomalie vengono generalmente rilevate tempestivamente. Questo problema può essere minimizzato tramite adeguati passaggi di pulizia. Lo stesso principio vale anche per il montaggio da parte del cliente, che definisce i requisiti corrispondenti al prodotto.

È più difficile evitare effetti indesiderati nel funzionamento successivo. Per farlo, è necessario conoscere tutte le sostanze che possono entrare in contatto con il prodotto durante il processo, sia pianificato che casuale. Per valutare i potenziali rischi durante l'uso, devono essere considerati le condizioni operative. Resti innocui del processo di produzione possono decomporsi in condizioni operative e rilasciare sostanze aggressive. Ciò richiede una visione olistica oltre il proprio processo e una stretta collaborazione con i clienti.

Mostrerò tramite un esempio quanto complessi possano essere le sostanze coinvolte e i loro 'effetti collaterali' e come la simulazione possa aiutare a stimare il potenziale di rischio."

nanoAnalytics - Dr. Andreas Schäfer
Direttore e Responsabile del Laboratorio

"Nel mio intervento parlerò delle possibilità di impiego dell'analisi di laboratorio nel campo delle contaminazioni filmiche e di come si possa caratterizzare il più precisamente possibile una contaminazione filmica. Spesso si tratta principalmente di identificare le sostanze coinvolte. In altri casi, si esamina la distribuzione laterale o la concentrazione. Oltre a una breve introduzione generale, il focus sarà su esempi pratici. Naturalmente sono felice di incontrare vecchi conoscenti a questa conferenza, ma soprattutto di stabilire nuovi contatti. Il campo in cui le contaminazioni filmiche giocano un ruolo è molto ampio. Per questo motivo, partecipando a eventi su questo tema, si incontrano quasi inevitabilmente anche nuovi e interessanti contatti."

Carl Zeiss SMT - Dr. Roland Steiner
Direttore Tecnologia di Pulizia

"Presenterò in che modo le contaminazioni filmiche (tra le altre) svolgono già un ruolo importante nella produzione di sistemi litografici. Di fondamentale importanza è che la prova, la prevenzione e infine la rimozione di tali contaminazioni avvengano già durante la produzione e lungo tutta la catena di fornitura. Mi concentrerò sugli aspetti dello sviluppo di processo nel settore Semiconductor Manufacturing Technology (SMT) di ZEISS."

OHB Systems - Dr. Axel Müller
Ingegnere di Pulizia

"Il mio intervento riguarda requisiti di purezza specifici per film chimici nel settore aerospaziale. Quando si tratta di garantire riprese ad alta risoluzione o spettroscopia della Terra da una distanza di 36.000 km, sono evidenti le precauzioni particolari riguardo alla purezza nel design, nella scelta dei materiali e nelle modalità di impiego. Inoltre, il funzionamento senza manutenzione comporta particolarità in termini di sicurezza del processo (incollaggio), che richiedono requisiti di purezza delle superfici e metodi di prova. Verranno illustrati entrambi gli aspetti e si inviterà a uno scambio di esperienze tra i settori."

OLYMPUS EUROPA - Markus Fabich
Specialista di Mercato Verticale Divisione Soluzioni Scientifiche di Produzione

"In teoria, la microscopia (fluorescenza) è uno standard riconosciuto. Tuttavia, 'semplice' non è la parola che molti usano. Sono convinto di poter trasmettere come la microscopia moderna a fluorescenza rende più semplice e affidabile la routine nel controllo delle contaminazioni. Potrebbe essere che ci siano ancora spazi per dare un'idea della videoscopia UV e dello stato attuale dell'analisi a fluorescenza a raggi X."

CSC JÄKLECHEMIE - Dr. Martin Hanek
Responsabile Sviluppo Commerciale (ST/E) Direttore di Area Superficie

"Il titolo della mia presentazione è: Utilizzo delle forze dei metodi di pulizia a umido. Tratterò i metodi pratici di pulizia con acqua e solventi. Si tratta dei punti di forza e di debolezza dei rispettivi metodi di pulizia e di come sfruttarli al meglio per ottenere un risultato ottimale.
Pulire il più possibile, ma non più di quanto sia necessario! È la mia prima partecipazione a questa conferenza specialistica. Non vedo l'ora di ascoltare interventi interessanti, di partecipare a discussioni stimolanti e di affrontare le sfide relative alla pulizia dei pezzi."