SÜSS MicroTec technológiai fórumot rendez a nanoimprint témájában Grenoble-ben

AUSSS MicroTec, a vezető gyártó berendezések és folyamatmegoldások a félvezetőipar és kapcsolódó piacok számára, 2014. június 24-én technológiai fórumot rendez a nanoimprint litográfiáról Grenoble-ben. A egynapos műhelymunkán szakértők az iparból, valamint kutatásból és fejlesztésből mutatják be és vitatják meg a nanoimprint litográfia aktuális trendjeit és fejleményeit. A rendezvény keretében lehetőség nyílik a CIME nanotech (Centre Interuniversitaire de MicroElectronique et Nanotechnologies) tisztatereinek meglátogatására.

A rendezvényre való regisztrációhoz szükséges meglátogatni a cég weboldalát, a www.suss.com címen.

A nanoimprint litográfia (NIL) egy sokoldalú kulcstechnológia a nanotechnológiai gyártási folyamatokhoz, és része az ITRS litográfia ütemtervének, figyelembe véve a 32 és 22 nm-es szerkezetméretek megvalósíthatóságát. A nanoméretű szerkezetek másolásában egy mester-minta segítségével ez a technológia különösen hatékonynak bizonyult. A másolási folyamat megbízhatósága attól függ, hogy képes-e megfelelő méretarányos mester-mintát előállítani. A NIL már bizonyított 50 µm alatti felbontásnál, és viszonylag alacsony költségek mellett. Ezért várható, hogy ez a technológia vezető szerepet tölt be a nanostruktúrák kereskedelmi alkalmazásában. A SÜSS MicroTec gépei támogatják az új és költséghatékony mikro-/nanomásolási technológiákat, mint például az UV-nanoimprinting kis vagy nagy felületeken.

„A technológiai fórum a globális platformunk a műhelymunkák számára, és nagy népszerűségnek örvend a piacon. Sok ügyfél és partner használja a fórumot az információcsere és a hálózatépítés céljából,” magyarázza Frank P. Averdung, a SÜSS MicroTec AG igazgatóságának elnöke. „A nanoimprinting sokoldalúan alkalmazható technológia különböző területeken, ezért érdekes előadásokat és vitákat várunk a fórum keretében.”