SÜSS MicroTec organizuje forum technologiczne na temat Nanoimprint w Grenoble

SÜSS MicroTec, wiodący producent urządzeń i rozwiązań procesowych dla przemysłu półprzewodnikowego i pokrewnych rynków, organizuje 24 czerwca 2014 roku Forum Technologiczne na temat litografii nanoimprint w Grenoble. Podczas jednodniowych warsztatów eksperci z przemysłu oraz z dziedziny badań i rozwoju przedstawią i omówią aktualne trendy i postępy w dziedzinie litografii nanoimprint. W ramach wydarzenia istnieje możliwość zwiedzenia czystych pomieszczeń CIME nanotech (Centre Interuniversitaire de MicroElectronique et Nanotechnologies).

Aby zarejestrować się na wydarzenie, konieczna jest wizyta na stronie internetowej firmy www.suss.com.

Litografia nanoimprint (NIL) jest wszechstronną technologią kluczową dla technologii produkcji w nanoskali i stanowi element harmonogramu litografii ITRS w zakresie możliwości tworzenia struktur o szerokości 32 i 22 nm. Podczas replikacji struktur w nanometrze z użyciem matrycy głównej, technologia ta okazała się szczególnie skuteczna. Niezawodność procesu replikacji zależy od zdolności do wyprodukowania odpowiedniej, proporcjonalnej matrycy głównej. NIL sprawdziła się już przy rozdzielczości poniżej 50 µm, przy relatywnie niskich kosztach. Można więc oczekiwać, że ta technologia odegra wiodącą rolę w komercjalizacji nanostruktur. Maszyny firmy SÜSS MicroTec wspierają nowe i oszczędne technologie mikro-/nanoreplikacji, takie jak UV-Nanoimprinting, dla małych i dużych powierzchni.

„Forum Technologiczne jest naszą globalną platformą do warsztatów i cieszy się dużą popularnością na rynku. Wielu klientów i partnerów korzysta z forum do wymiany informacji i nawiązywania kontaktów,” wyjaśnia Frank P. Averdung, prezes zarządu SÜSS MicroTec AG. „Nanoimprinting to wszechstronna technologia stosowana w różnych dziedzinach, dlatego spodziewamy się interesujących wykładów i dyskusji podczas forum.”