SÜSS MicroTec pořádá technologické fórum na téma Nanoimprint v Grenoblu

SÜSS MicroTec, přední výrobce zařízení a procesních řešení pro polovodičový průmysl a související trhy, uspořádá dne 24. června 2014 technologické fórum na téma Nanoimprint Lithografie v Grenoblu. Během jednodenního workshopu představí odborníci z průmyslu i výzkumu a vývoje aktuální trendy a vývoj v oblasti Nanoimprint Lithografie a budou o nich diskutovat. V rámci akce bude možné navštívit čisté místnosti CIME nanotech (Centre Interuniversitaire de MicroElectronique et Nanotechnologies).

Pro registraci na akci je nutná návštěva webových stránek firmy www.suss.com.

Nanoimprint Lithografie (NIL) je všestranná klíčová technologie pro výrobní technologie v nanorozměrech a je součástí lithografického plánu ITRS s ohledem na dosažitelnost strukturálních šířek 32 a 22 nm. Při replikaci struktur v nanometrovém rozsahu z jednoho hlavního razítka se tato technologie ukázala jako obzvlášť efektivní. Spolehlivost procesu replikace závisí na schopnosti vyrobit odpovídající vhodné hlavní razítko. NIL se již osvědčila při rozlišení pod 50 µm, a to při relativně nízkých nákladech. Očekává se proto, že tato technologie bude hrát vedoucí roli při komercializaci nanostruktur. Stroje od SÜSS MicroTec podporují nové a nákladově efektivní mikro-/nanoreplikace technologie, jako je UV-nanoimprinting pro malé i velké plochy.

„Technologické fórum je naše globální platforma pro workshopy a těší se velké oblibě na trhu. Mnoho zákazníků a partnerů fórum využívá k výměně informací a k navazování kontaktů,“ vysvětluje Frank P. Averdung, předseda představenstva SÜSS MicroTec AG. „Nanoimprinting je všestranná technologie pro různé oblasti použití, a proto očekáváme zajímavé přednášky a diskuse v rámci fóra.“