Híres előadók a 2. szakmai konferencián „Filmes szennyezés”

A gyárlátogatások ebben az évben az Ecoclean-nél Filderstadtban (kép) és a Quality Analysis-nál Nürtingenben kerülnek megrendezésre.

A 2. szakmai konferencia "Filmes szennyeződések" előadásai ebben az évben olyan ismert vállalatoktól származnak, mint a MAHLE, TE Connectivity, WITZENMANN, OLYMPUS, CARL ZEISS, PERO és sok más. Szintén bemutatkoznak a Fraunhofer IPA, Fraunhofer IPM, Fraunhofer IVV és a Bayreuthi Egyetem kutatásait bemutatva, amelyek ipari vállalatokkal folytatott projekteket fednek le.

A Süddeutscher Verlag Veranstaltungen GmbH közzétette a 2. Filmes Szennyeződések Konferencia teljes napirendjét, amely 2017. november 14-15-én kerül megrendezésre a Ludwigsburgban található Nestor Hotelben. A 17 előadásból álló program, amely a filmes szennyeződések hatásairól szól a gyártásban, valamint gyárlátogatások a Dürr EcoClean-nél és a Quality Analysis-nál, mindkét napon gazdag és informatív élményt ígér a résztvevők számára.

A meghívott előadók között különböző szervezetek szakértői találhatók, többek között Dr. Markus Rochowicz a Fraunhofer IPA-tól, aki az AdhëSa ipari szövetség aktuális állásáról fog beszámolni. Andrea Krause, a Witzenmann GmbH-tól, a feldolgozási folyamatban és a végtermékben lévő oldódó maradványokról tart előadást. Dominik Falk a HMT – Häsler Metalltechnik-től tájékoztat a filmes szennyeződések felismerésére szolgáló képalkotó fluoreszcens analízisről, Volker Seipel, a TE Connectivity-től pedig a kontaktusfelületekről beszél az ultrahangos hegesztéshez használt vezetékek csatlakozási területén.

A filmes szennyeződések mindenhol jelen vannak a gyártási folyamatban

„Izgatottan várom a szakmai napot. A filmes szennyeződések témája olyan sokrétű, mint az érintett anyagok – az egész periódusos rendszer részt vesz benne –, így a hatások a felhasznált anyagok és körülmények függvényében jelentősen változnak. A filmes szennyeződések mindenhol jelen vannak a gyártási folyamatban. Számomra személy szerint az olyan események, mint a ludwigsburgi konferencia, platformot jelentenek a tapasztalatok cseréjére és a témában való beszélgetésre, valamint lehetőséget adnak arra, hogy szakterületi tudást szerezzenek, amely ilyen tömör formában másképp nem érhető el” – mondja Andrea Krause, a Witzenmann GmbH-tól.

Lézeres szkennerek a képi inline vizsgálathoz

További előadók között szerepel Markus Fabich az Olympus Európa SE & Co.KG-tól, aki arról fog beszélni, hogyan azonosíthatók a filmes szennyeződések modern fluoreszcens mikroszkópos módszerekkel. Dr. Albrecht Brandenburg a Fraunhofer IPM-től beszámol a filmes szennyeződések azonosítására szolgáló lézeres szkennerekről az inline vizsgálat során. Dr. Axel Müller az OHB Systems-től egy előadást tart a űrkutatás tisztasági követelményeiről, míg Dr. Andreas Schäfer a nanoAnalytics-től megvitatja a laboratóriumi analitika alkalmazási lehetőségeit filmes szennyeződések területén.

Tisztítási folyamatok összehasonlítása

Michael Onken a SAFECHEM Europe GmbH-tól a tisztítási technikákról beszél a filmes szennyeződések oldószerekkel történő tisztításáról. Dr. Martin Hanek a CSC JÄKLECHEMIE-től bemutatja a nedves tisztítási eljárásokat, míg Dieter Ortner a PERO AG-tól összehasonlítja különböző tisztítási folyamatokat. További előadások hangzanak el a VACOM GmbH-tól és az Unicorn Technologies-tól. A programot Oliver Bosch, a Mahle GmbH Technical Cleanliness részlegének vezetője vezeti.

Tapasztalatcsere

„Számomra különösen érdekes a szakmai konferencián megtudni, hogy a többi résztvevő milyen kihívásokkal szembesül a filmes és egyéb szennyeződések kapcsán, és milyen folyamatokat és analitikai módszereket alkalmaznak ezek kezelésére” – mondja Dr. Roland Steiner, a Carl Zeiss SMT GmbH tisztítási technológia igazgatója, a félvezetőgyártási technológia üzletágban.

Hálózatépítési platform

A szakmai program és a gyárlátogatások mellett a 2. Filmes Szennyeződések Konferencia helyet ad a vitáknak és a tapasztalatcserének az alkalmazók, döntéshozók, tudósok és analitikusok között. Ez az esemény egyedülálló platformot kínál arra, hogy a résztvevők más ipari szakértőkkel megosszák a technikai tisztasággal és filmes szennyeződések kezelésével kapcsolatos tapasztalataikat, kihívásaikat és jövőbeli kilátásaikat.

Személyes szinten folytatott beszélgetések

„Nagyon várom ezt az eseményt, mert ez az iparágban egyedülálló. A szakmai konferencián ugyanazok az OEM-ek és a teljes beszállítói lánc jelen vannak. Ami külön öröm, hogy mindenki egyenlő szinten beszélget, és nagyon jó szakmai tudás halmozódik fel, új trendeket lehet megismerni, valamint gyakorlati példákat és megvalósításokat osztanak meg egymással” – kommentálja Dominik Falk, az HTM felületi technológiai igazgatója az eseményt.
Szakmai kiállítás

Egy kísérő szakmai kiállítás, ahol képviseltetik magukat a CCI – von Kahlden, a Cleaning Excellence Center (CEC), a CLEAR & CLEAN, a CleanControlling, a HYDAC, az OLYMPUS, az RJL Micro & Analytic és a TREAMS, színesíti az eseményt.