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Ponentes destacados en la 2. Conferencia especializada «Contaminación cinematográfica»

Las visitas a las instalaciones se llevarán a cabo este año en Ecoclean en Filderstadt (imagen) y en Quality Analysis en Nürtingen.
Las visitas a las instalaciones se llevarán a cabo este año en Ecoclean en Filderstadt (imagen) y en Quality Analysis en Nürtingen.

Las conferencias de la 2ª Conferencia Técnica sobre el tema “Contaminación cinematográfica” provienen este año de empresas conocidas como MAHLE, TE Connectivity, WITZENMANN, OLYMPUS, CARL ZEISS, PERO y muchas más. También el Fraunhofer IPA, Fraunhofer IPM, Fraunhofer IVV y la Universidad de Bayreuth presentan avances en proyectos de investigación con empresas de la industria.

La Süddeutscher Verlag Veranstaltungen GmbH ha anunciado la agenda completa de la 2ª Conferencia Técnica sobre Contaminación Cinematográfica, que tendrá lugar los días 14 y 15 de noviembre de 2017 en el Nestor Hotel en Ludwigsburg. Con un total de 17 ponencias sobre los efectos de las contaminaciones cinematográficas en la producción, así como visitas a las instalaciones de Dürr EcoClean y Quality Analysis, los asistentes podrán disfrutar de un programa completo e informativo durante ambos días.

Entre los ponentes se encuentran expertos de diferentes organizaciones, entre ellos el Dr. Markus Rochowicz del Fraunhofer IPA, quien informará sobre el estado actual de la alianza industrial AdhëSa. Andrea Krause, de Witzenmann GmbH, abordará el tema: Residuos solubles en el proceso de fabricación y en el producto final. Dominik Falk de HMT – Häseler Metalltechnik, informará sobre análisis de fluorescencia mediante imágenes para detectar contaminaciones cinematográficas, y Volker Seipel, de TE Connectivity, presentará el tema de superficies de contacto en áreas de unión por ultrasonidos de cables.

Las contaminaciones cinematográficas están presentes en todo el proceso de fabricación

“Estoy muy expectante por la conferencia especializada. El tema de las contaminaciones cinematográficas es tan variado como los materiales involucrados —todo el sistema periódico está presente—, por lo que los efectos se multiplican dependiendo del material y las condiciones de uso. Las contaminaciones cinematográficas están presentes en todo el proceso de fabricación. Personalmente, eventos como esta conferencia en Ludwigsburg ofrecen una plataforma para el intercambio de experiencias y discusión, además de la oportunidad de adquirir conocimientos específicos que de otra forma no estarían disponibles en esta forma condensada”, dice Andrea Krause, de Witzenmann GmbH.

Escáner láser para inspección en línea mediante imágenes

Otros ponentes incluyen a Markus Fabich, de Olympus Europa SE & Co.KG, quien hablará sobre cómo identificar contaminaciones cinematográficas mediante microscopía de fluorescencia moderna. El Dr. Albrecht Brandenburg, del Fraunhofer IPM, informará sobre escáneres láser para inspección en línea de contaminaciones cinematográficas. El Dr. Axel Müller, de OHB Systems, presentará una ponencia sobre requisitos de pureza en la exploración espacial, y el Dr. Andreas Schäfer, de nanoAnalytics, discutirá las posibilidades de la analítica de laboratorio en el área de contaminaciones cinematográficas.

Comparación de procesos de limpieza

Michael Onken, de SAFECHEM Europe GmbH, hablará en la sesión sobre técnicas de limpieza de contaminaciones cinematográficas mediante solventes. El Dr. Martin Hanek, de CSC JÄKLECHEMIE, presentará procedimientos de limpieza en húmedo, y Dieter Ortner, de PERO AG, comparará diferentes procesos de limpieza en su ponencia. Otras presentaciones serán de VACOM GmbH y Unicorn Technologies. La programación será guiada por Oliver Bosch, de Technical Cleanliness de Mahle GmbH.

Intercambio de experiencias

“Para mí, lo más interesante de la conferencia es conocer los desafíos que enfrentan otros participantes en relación con las contaminaciones cinematográficas y otras contaminaciones, así como los procesos y análisis necesarios para enfrentarlos”, comenta el Dr. Roland Steiner, Director de Tecnología de Limpieza en el Grupo de Negocios de Tecnología de Fabricación de Semiconductores de Carl Zeiss SMT GmbH.

Plataforma para establecer contactos

Además del programa de ponencias y las visitas a las instalaciones, la 2ª Conferencia Técnica sobre Contaminación Cinematográfica ofrece un espacio para la discusión y el intercambio de experiencias entre usuarios, decisores, científicos y analistas. Por ello, el evento es una plataforma única para compartir conocimientos con otros expertos de la industria sobre el manejo de la limpieza técnica, contaminaciones cinematográficas, desafíos y perspectivas.

Discutir en igualdad de condiciones

“Estoy muy ilusionado con este evento, porque es único en su sector. En la conferencia se reúnen tanto OEMs como toda la cadena de suministro. Lo mejor es que todos discuten en igualdad de condiciones, compartiendo conocimientos especializados, aprendiendo sobre nuevas tendencias y compartiendo ejemplos prácticos y experiencias de implementación”, comenta Dominik Falk, director de tecnología de superficies en HTM.
Exposición comercial

Una exposición acompañante con representantes de CCI – von Kahlden, Cleaning Excellence Center (CEC), CLEAR & CLEAN, CleanControlling, HYDAC, OLYMPUS, RJL Micro & Analytic y TREAMS complementa el evento.


Más información


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