Új év, új munka? Nézze meg az ajánlatokat! Több ...
Systec & Solutions GmbH Becker Piepenbrock C-Tec

reinraum online


Összes publikáció: IMEC Belgium

Ábra 1. Az áramlási citométer chipen belüli ábrázolása. / <i>Ábra 1: Az áramlási citométer chipen belüli képe.</i> Ábra 2: (balra) A chip rétegszerkezetének schematikus keresztmetszete, amely megmutatja a fény bevezetését a chipbe, a sejtek megvilágítását, valamint a sejtszórási jelek gyűjtését és detektálását. (jobbra) Kísérleti szórási diagram egy teljes perifériás vérből származó mononukleáris mintáról, amelyet az on-chip áramlási citométerrel mértek.
  • Tudomány

On-Chip-Áramlási Citometria integrált fotonikával magas átviteli sebességű sejtelemezésekhez

Imec és Sarcura bemutatják a skálázható on-chip detektálást emberi fehérvérsejteken

Az imec, egy világszerte vezető kutatási és innovációs központ a nanoelektronikában és digitális technológiákban, valamint a Sarcura GmbH, egy osztrák technológiai startup, bemutatják az On-Chip áramlási citométerük koncepcióját integrált fotonikával.

Ez az innováció, amelyet 2024.05.20-án publikálta…

  • Új építés

Aláírás egy szándéknyilatkozat aláírása egy 300 mm-es kutatási és fejlesztési vonal létrehozásáról speciális chiptechnológiákhoz Malagában

A spanyol kormány, Andalúzia régió és az imec szándéknyilatkozatot (MoU: Memorandum of Understanding) írnak alá, amelyben egy új, 300 mm-es kutatási és fejlesztési vonal létesítéséről van szó Malaga-ban, speciális chiptechnológiák számára.

Az új gyártósor kiegészíti az imec meglévő, Leuvenben (Belgiu…

Egy High-NA EUV-eszköz összeszerelése az imec és az ASML közös High-NA laboratóriumában az ASML központjában, Veldhovenben, Hollandia. (Kép forrása: ASML) / Egy High NA EUV-eszköz összeszerelése az imec-ASML közös High-NA laboratóriumában az ASML székhelyén, Veldhovenben, Hollandia. (Kredit: ASML)
  • Konferencia

Előrehaladás a folyamatokban, maszkokban és mérési technikában lehetővé teszi, hogy teljes mértékben kihasználjuk az első ASML 0,55NA EUV-szkenner által nyújtott felbontási fejlődést.

Imec bemutatja a High-NA EUV mintázási ökoszisztéma készségét

Ebben a héten az imec, a világ egyik vezető kutatási és innovációs központja a nanoelektronika és digitális technológiák terén, bemutatja a 2024-es Advanced Lithography + Patterning konferencián az EUV-folyamatok, maszkok és metrológia fejlődését, amelyeket a szélsőséges ultraibolya litográfiához (E…

A tervezési útvonalkereső PDK lehetővé teszi a digitális tervek készítését 2 nm-es Gate All Around (GAA) technológiával, beleértve a hátulsó csatlakozást. A tervezési útvonalkereső PDK lehetővé teszi a digitális tervezéseket 2 nm-es Gate All Around (GAA) technológiával, beleértve a hátsó oldali összeköttetést.
  • Elektronika (wafer, félvezető, mikrochipek,...)

A Design Pathfinding Kit PDK csökkenti a belépési küszöböt a tudomány és az ipar számára a legmodernebb félvezető technológiákba

Imec bemutatja az első Design Pathfinding Process Design Kit-et az N2 Node számára

Az Imec, a világ vezető kutatási és innovációs központ a nanoelektronikában és digitális technológiákban, bemutatja a IEEE International Solid-State Circuits Conference (ISSCC) 2024-en az Open Process Design Kit (PDK)-ját, kísérő képzési programmal, amelyet az EUROPRACTICE kínál. A PDK lehetővé tesz…

  • Elektronika (wafer, félvezető, mikrochipek,...)

Az ASML jelentősen részt vesz az imec jövőbeli csúcstechnológiás pilotgyárában

Imec és ASML Memorandum of Understanding (MoU) aláírása a félvezető kutatás és a fenntartható innováció támogatására Európában

Az imec, a nanoelektronika és digitális technológiák vezető kutatás- és innovációs központja, valamint az ASML Holding N.V. (ASML), a félvezetőipar egyik vezető beszállítója, ma bejelentik, hogy intenzívebben kívánják együttműködésüket folytatni a legmodernebb High-Numberical Aperture (High-NA) Extr…

TEM-keresztszelvények Ru-vonalakról 18 nm-es fémközzel: (balra) AR 3, (jobbra) AR 6. A TEM-ek szinte függőleges profilt mutatnak a Ru-vonalakról, és bizonyítják a jelenlegi séma skálázhatóságát magasabb AR-okra.
  • Konferencia

Imec bemutat egy utat a vezetési ellenállás felének csökkentésére a félvezető-damascene technológiával magas arányú feldolgozás révén

Az Imec, egy világszerte vezető kutatási és innovációs központ a nanoelektronikában és digitális technológiákban, bemutatta a IEEE International Interconnect Technology Conference 2022 (IITC 2022) során azokat a technológiákat, amelyek a fémvezeték ellenállásának csökkentését célozzák szűk fém pitch…

  • Automatizálás

A Macronix Octaflash UW-sorozatú tárolója magas sűrűségű Flash-megoldásokat kínál az NXP S32Z és S32E valós idejű processzorokhoz

A Macronix International Co., Ltd. (TSE: 2337) ma bejelentette, hogy a magas hatékonyságú Macronix MX25UW Octaflash memóriacsaládot az NXP® Semiconductor az S32Z és S32E valós idejű processzorokhoz választotta az alkalmazások biztonságos integrálására. A döntés mindkét vállalat következő lépését jel…

EnergyVille 2 kutatóépület Genkben / EnergyVille 2 kutatóépület Genkben Huw Hampson Jones (Solithor) és -Olivier Rousseaux (imec)
  • Akkumulátor

Egy áttörő megközelítés a szilárdtest-akkumulátorokhoz áttöri a határokat a közlekedés elektromosításában

Imec-Spin-off SOLiTHOR lezárja a 10 millió eurós induló tőkebevonási körét, hogy új áttörő technológiát fejlesszen szilárdtest akkumulátorokhoz

SOLiTHOR, az imec - az európai vezető kutatás-fejlesztési innovációs központ energia területén működő partner - által alapított új Spin-Off vállalat, az Energyville - az élvonalban áll az innovatív lítium-(Li)-akkumulátorcellák technológia fejlesztésében, gyártásában és kereskedelmében, hogy megbízh…

Jobban tájékozott: ÉVKÖNYV, HÍRLEVÉL, NEWSFLASH, NEWSEXTRA és SZAKÉRTŐI JEGYZÉK

Maradjon naprakész, és iratkozzon fel havi e-mail hírlevelünkre, valamint a NEWSFLASH-ra és a NEWSEXTRA-ra. Emellett nyomtatott ÉVKÖNYVÜNKBŐL is tájékozódhat arról, mi történik a tisztaterek világában. És jegyzékünkből megtudhatja, kik a tisztatér SZAKÉRTŐI.

Pfennig Reinigungstechnik GmbH Hydroflex MT-Messtechnik PMS