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Structuration à un seul exposant avec un pas de 28 nm utilisant le procédé MOx d'Inpria sur un scanner EUV à champ complet 0,33NA après métallisation Ru. / Patterning à exposition unique de 28 nm de pas utilisant le procédé MOx d'Inpria sur un scanner EUV à champ complet 0,33NA après métallisation Ru. Pas de traduction nécessaire, car le texte est déjà en français. Trou de contact de 28 nm, obtenu avec un scanner à champ complet NXE:3400 de 0,33NA, après le développement. / Trou de contact de 28 nm obtenu sur un scanner à champ complet NXE:3400 de 0,33NA, après le développement.

Corrélation démontrée entre les données morphologiques et électriques sur des lignes/espaces de 28 nm, ce qui améliore la compréhension des effets des défauts stochastiques sur la fiabilité et le rendement des composants

Imec pousse la capacité de patterning en une seule exposition de l'EUVL à 0,33NA jusqu'à ses limites

Cette semaine, imec, un centre de recherche et d'innovation mondialement reconnu dans le domaine de la nanoélectronique et des technologies numériques, et ASML, le principal fabricant mondial de machines de lithographie pour semi-conducteurs, présentent plusieurs conférences lors de la conférence SP…

Reconnaissance dans cinq catégories principales confirme Vetter comme un partenaire fiable même en période difficile

Vetter réussit également en 2021 aux CMO Leadership Awards

- Vetter se distingue par d'excellentes évaluations dans les catégories clés
- Les résultats reflètent l'expérience positive des clients
- La distinction souligne la forte orientation client du prestataire de services pharmaceutiques

Vetter, une organisation mondiale de développement et de fabrication…

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