Le résultat marque une étape importante du AttoLab d'imec et de KMLabs
Imec présente une imagerie de résist ligne/espace à pas de 20 nm avec lithographie par interférence EUV à haute NA
Imec, un centre de recherche et d'innovation mondialement reconnu pour la nanoélectronique et les technologies numériques, annonce pour la première fois l'utilisation d'une source de générateur d'harmoniques élevées de 13,5 nm pour l'impression de lignes/espacements avec un pas de 20 nm par lithogra…








