El resultado marca un hito importante de AttoLab de imec y KMLabs
Imec presenta imagen de resist de línea/espacio con paso de 20 nm mediante litografía de interferencia EUV de alta NA
Imec, un centro de investigación e innovación líder en todo el mundo en nanoelectrónica y tecnologías digitales, anuncia por primera vez el uso de una fuente de generador de armónicos altos de 13,5 nm para imprimir líneas/distancias con un paso de 20 nm mediante interferencia de litografía de un res…








