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- Électronique (wafers, semi-conducteurs, microprocesseurs,...)
Fraunhofer ENAS est partenaire du nouveau projet européen <i>« HaloFreeEtch »</i> pour la recherche sur des procédés de gravure innovants sans halogènes
Davantage de durabilité dans la fabrication de semi-conducteurs
Le Fraunhofer ENAS fait partie du nouveau projet lancé en septembre 2024, intitulé « HaloFreeEtch » (« Nouvelles approches pour l’etching sans halogènes et durable du silicium et du verre »). Ce projet, coordonné par l’Université Technique de Chemnitz, a une durée de 48 mois et est financé par l’Uni…








