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Avec l'iglidur I190, igus a développé un nouveau filament polyvalent pour l'impression 3D. Il est ainsi possible d'imprimer des pièces spéciales résistantes à l'usure, comme des paliers lisses, avec une résistance mécanique à la flexion de 80 MPa. (Source : igus GmbH) Lors du test, un roulement iglidur I190 imprimé a été confronté à des roulements fabriqués par additive à partir d'ABS et de polyamide, ainsi qu'à des roulements tournés et moulés en POM et en nylon. Le résultat : le roulement igus imprimé était jusqu'à 50 fois plus résistant à l'usure que les roulements en plastiques standard. (Source : igus GmbH)

Filament FDM facile à traiter iglidur I190 assurant une fabrication rapide de pièces d'usure à haute résistance

Composants stables et résistants à l'usure facilement imprimables soi-même avec le nouveau filament tribologique igus

Pour produire rapidement et à moindre coût des pièces d'usure en dimensions spéciales, igus a développé avec iglidur I190 un nouveau filament polyvalent, facile à traiter. Il se distingue par une résistance mécanique à la flexion élevée de 80 MPa. Ce matériau tribologiquement optimisé est sans lubri…

Grâce à la connectivité mobile, le Weidmüller IoT Gateway 30 peut être utilisé partout, indépendamment de l'infrastructure existante. Weidmüller IoT-Gateway : le polyvalent pour toutes les applications IoT / Weidmüller IoT Gateway : l'indispensable pour toutes les applications IoT

Passerelle IoT 30 – Modem 4G/LTE pour une connectivité mobile flexible. – Connexion des données IoT et accès à distance. – Connexions variées via interfaces série et protocoles (Modbus RTU, TCP, OPC UA, MQTT, RFC1006…). – Accès à distance intégré u-link

Weidmüller passerelle multifonction

L'automatisation des installations connaît une évolution rapide depuis plusieurs années. Weidmüller a toujours saisi et poursuivi les exigences qui en découlent, notamment en développant des composants intelligents, tels que la passerelle IoT 30. La passerelle multifonctionnelle complète de manière…

Structuration à un seul exposant avec un pas de 28 nm utilisant le procédé MOx d'Inpria sur un scanner EUV à champ complet 0,33NA après métallisation Ru. / Patterning à exposition unique de 28 nm de pas utilisant le procédé MOx d'Inpria sur un scanner EUV à champ complet 0,33NA après métallisation Ru. Pas de traduction nécessaire, car le texte est déjà en français. Trou de contact de 28 nm, obtenu avec un scanner à champ complet NXE:3400 de 0,33NA, après le développement. / Trou de contact de 28 nm obtenu sur un scanner à champ complet NXE:3400 de 0,33NA, après le développement.

Corrélation démontrée entre les données morphologiques et électriques sur des lignes/espaces de 28 nm, ce qui améliore la compréhension des effets des défauts stochastiques sur la fiabilité et le rendement des composants

Imec pousse la capacité de patterning en une seule exposition de l'EUVL à 0,33NA jusqu'à ses limites

Cette semaine, imec, un centre de recherche et d'innovation mondialement reconnu dans le domaine de la nanoélectronique et des technologies numériques, et ASML, le principal fabricant mondial de machines de lithographie pour semi-conducteurs, présentent plusieurs conférences lors de la conférence SP…

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