Mała maszyna o dużej mocy do najwyższych wymagań dotyczących wysokiej czystości

Nowa PowerJet compact CNp od LPW jest obecnie oferowana w dwóch wersjach. Wprowadzenie na rynek wersji do zastosowań w produkcji addytywnej planowane jest na początek 2023 roku. (Zdjęcie: LPW)

Nowa PowerJet compact CNp od LPW jest obecnie oferowana w dwóch wersjach. Wprowadzenie na rynek wersji do zastosowań w produkcji addytywnej planowane jest na początek 2023 roku. (Zdjęcie: LPW)

LPW Reinigungssysteme GmbH wypracowało sobie w ostatnich latach na całym świecie pozycję partnera w zakresie indywidualnych rozwiązań systemów dla segmentu High Purity. Systemy specjalistów z Riederich są wykorzystywane w wielu zaawansowanych technologicznie dziedzinach i spełniają najwyższe wymagania dotyczące czystości. Wraz z przyznaniem patentów na od dawna sprawdzoną metodę wymiany ciśnienia w próżni CNp w lutym 2022 roku, był to tylko logiczny krok, aby wprowadzić na rynek oszczędny w miejscu standardowy system komorowy z tą technologią. Podczas tegorocznej targowej prezentacji parts2clean LPW po raz pierwszy zaprezentowało nowy PowerJet compact CNp.

Dwustopniowy system zajmuje zaledwie nieco ponad 4 m² i oprócz metod czyszczenia ultradźwiękami oraz cyklicznej nukleacji (CNp) posiada również niezbędne funkcje suszenia na wyższych poziomach wymagań. Suszenie może być realizowane zarówno za pomocą gorącego powietrza, jak i przez podgrzewanie próżniowe za pomocą promieniowania podczerwonego. Ponadto nowa jednostka wyposażona jest w komorę obróbki osadzoną w dwóch zbiornikach wstępnych, przeznaczoną dla towarów o rozmiarze do 600 x 400 x 300 mm i wadze do 150 kg. Konstrukcja typu sandwich wspiera procesy czyszczenia i płukania, a także suszenia dzięki wyższemu poziomowi temperatury. Obieg wody obejmuje zintegrowany pełny filtr z powierzchnią filtracyjną ponad 4 m² i jednostki filtrujące do 0,5 μm.

Obecnie PowerJet compact CNp dostępny jest w dwóch wersjach:

Moduł 1 „Clean”:
Zakres zastosowania obejmuje od końcowego czyszczenia dla klasycznych wymagań dotyczących precyzyjnego czyszczenia po obróbce, aż po wstępne czyszczenie dla zastosowań w wysokiej czystości w pomieszczeniach czystych. Moduł może być wyposażony w separator koalescencyjny grawitacyjny lub w układ recyrkulacji VE i jest na przykład idealny do usuwania cząstek i zanieczyszczeń organicznych w przypadku osadzania lub produkcji odlewów.

Moduł 2 „Pure”:
Ten moduł jest przeznaczony do adaptacji do pomieszczeń szarych lub czystych i wyposażony w podłączenie do zewnętrznego systemu dostarczania ultra-czystej wody (moduł „High Purity”).

Moduł UPW „HighPurity”:
Jest to system dostarczania wody wysokiej czystości nadający się do recyrkulacji, stanowiący rozszerzenie wersji Pure. Podstawowy moduł stanowi „rozwiązanie samodzielne” z podstawą na podłodze i dopasowaną obudową. Dostarcza podgrzaną wstępnie wodę wysokiej czystości i może być wykorzystywany zarówno jako źródło mediów, jak i pełnoprawny dodatkowy układ płukania w systemie urządzenia.

Moduły 1 i 2 można również wyposażyć w międzyczasowe płukanie parowe. Służy ono do ograniczenia ryzyka krzyżowego zanieczyszczenia z procesu czyszczenia do procesu płukania. Połączenie trzech modułów (Clean – Pure – High Purity) umożliwia realizację nawet 7-stopniowego procesu czyszczenia i płukania z czasowym rozłożeniem inwestycji (lub od razu) oraz suszeniem o niskiej zawartości zanieczyszczeń, wszystko w ramach standardowego systemu. Przepływy mediów we wszystkich trzech modułach są monitorowane za pomocą szerokiej gamy czujników specyficznych dla danej aplikacji, co zapewnia kontrolę jakości procesu. Ponadto możliwe jest podłączenie do systemu serwisowego online, zdalnego systemu konserwacji, chmurowego pulpitu LPW oraz ciągłe monitorowanie i analiza wartości procesowych związanych z partiami. Co więcej, inżynierowie z Riederich pracują obecnie nad wersją modułu Clean do post-processingu w technologiach druku addytywnego.