Czyszczenie powierzchni do ostatniego kąta

Efekty tworzenia się pęcherzyków. (Źródło: LPW Reinigungssysteme GmbH)

Tworzenie pęcherzyków i kawitacja. (Źródło: LPW Reinigungssysteme GmbH)

Cykliczne nukleacje działa częściowo również pod zanieczyszczeniem i w ukrytych partiach elementu bezpośrednio na powierzchni elementu. (Źródło: LPW Reinigungssysteme GmbH)

Gerhard Koblenzer i Hans Hauger, LPW Reinigungssysteme GmbH. (Źródło: LPW Reinigungssysteme GmbH)

Oczyszczanie powierzchni do ostatniego zakamarka. Za każdym razem, gdy otwieramy butelkę z wodą gazowaną, napotykamy na wybuchające bąbelki. Tworzą się one podczas przejścia z fazy ciekłej do gazowej i są przykładem procesu fizycznego, którego działanie wykorzystywane jest do czyszczenia. To tak zwane nukleacja została teraz rozwinięta przez LPW Reinigungssysteme GmbH dla ich metod czyszczenia i za to otrzymała Nagrodę Clean! 2018.

Technologia »Cyclic Nucleation process (CNp)« działa na zasadzie cyklicznej nukleacji, czyli podciśnieniowego procesu o szczególnych zaletach w czyszczeniu struktur kapilarnych i złożonych geometrii, takich jak występują wszędzie w produkcji przemysłowej:
W zamkniętym pojemniku wypełnionym płynem czyszczącym lub płukającym obniża się ciśnienie do tego stopnia, że w pojemniku i bezpośrednio na wszystkich powierzchniach tworzą się bąbelki, również w złożonych strukturach, takich jak najcieńsze, wydłużone kanały, tzw. kapilary i otwory. Po nagłym odjęciu podciśnienia powstałe pęcherzyki pary znowu się zapadają. Implozja wywołuje tak zwaną siłę zmiany ciśnienia, która działa mechanicznie na powierzchnię elementu i penetruje oraz odrywa zabrudzenia.

Główna nowość wskazuje przymiotnik »cykliczny« nukleacji. »Kluczowym efektem mechanicznym czyszczenia jest ustalenie określonego cyklu pomiędzy zdefiniowanym dolnym punktem przełączania w próżni a górnym punktem przełączania w podciśnieniu lub ewentualnie nadciśnieniu, który może być powtarzany i modyfikowany dowolną ilość razy«, wyjaśnia dyrektor LPW Gerhard Koblenzer.
Zmiany ciśnienia przenoszą się w płynie czyszczącym aż do ostatnich zakamarków. Na całej powierzchni powstaje przepływ medium, a tym samym celowa wymiana. Cząstki i zabrudzenia w trudno dostępnych miejscach są rozpuszczane przez efekt kawitacji i transportowane z bezpośredniego obszaru elementu dzięki asymetrycznej wymianie medium.

Metoda CNp nie tylko, jak dotąd, zapewnia bezpieczne procesowo czyszczenie w branżach takich jak elektronika, przemysł półprzewodników, technika medyczna oraz przemysł optyczny. Cykliczna nukleacja nadaje się również do zadań czyszczenia w wielu innych gałęziach przemysłu, na przykład w motoryzacji. Przykładami są drobne otwory w technologii wtrysku paliwa oraz ukryte i złożone geometrie wewnętrzne, takie jak elementy chłodzące czy w przypadku załadunku sypkiego.