
Imec demonstriert 18nm Pitch Line/Space Patterning mittels eines High-Chi Directed Self-Assembly Prozesses
Diese Woche, auf der SPIE Advanced Lithography Conference 2021, demonstrierte imec, ein weltweit führendes Forschungs- und Innovationszentrum für Nanoelektronik und digitale Technologien, zum ersten Mal die Fähigkeit der Directed Self Assembly (DSA), Linien/Zwischenräume mit einem Pitch von nur…