


Das Ergebnis markiert einen wichtigen Meilenstein des AttoLab von imec und KMLabs
Imec präsentiert 20nm Pitch Line/Space Resist Imaging mit High-NA EUV Interferenzlithographie
IImec, ein weltweit führendes Forschungs- und Innovationszentrum für Nanoelektronik und digitale Technologien, meldet erstmals den Einsatz einer 13,5 nm High Harmonic Generator-Quelle für das Printing von Linien/Abständen mit 20 nm Pitch mittels Interferenzlithografie eines Inpria-Metalloxid-Res…