Imec dimostra il patterning di linee/spazi di 18 nm di passo mediante un processo di auto-assemblaggio diretto ad alto Chi
Questa settimana, alla SPIE Advanced Lithography Conference 2021, imec, un centro di ricerca e innovazione leader a livello mondiale nel campo della nanoelettronica e delle tecnologie digitali, ha dimostrato per la prima volta la capacità della Self Assembly Diretta (DSA) di strutturare linee/spazi…








