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Progressi nei processi, nelle maschere e nella tecnologia di misurazione consentono di sfruttare appieno il progresso nella risoluzione offerto dal primo scanner EUV ASML 0.55NA.
Imec dimostra la disponibilità dell'ecosistema di patterning EUV ad alta NA
Questa settimana imec, un centro di ricerca e innovazione leader a livello mondiale nel campo della nanoelettronica e delle tecnologie digitali, presenta alla 2024 Advanced Lithography + Patterning Conference i progressi nei processi EUV, nelle maschere e nella metrologia, sviluppati per l'ultraviol…








