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La progettazione del processo e la definizione dei parametri di processo ottimali avvengono nel proprio laboratorio di prova in ambiente sterile. La preparazione dei mezzi di processo - anidride carbonica e aria compressa - garantisce una qualità dell'aria come richiesta, ad esempio, dalla produzione di semiconduttori. (Fonte immagine: acp systems) / The process is designed in the company’s own cleanroom test facility. Optimum process parameters are also defined here. The process media - carbon dioxide and compressed air - are prepared in such a way so as to ensure the air quality required by the semiconductor industry, for example. (Photo credit: acp systems) La cella di pulizia compatta in acciaio inossidabile JetCell con ugelli rotanti è stata sviluppata per applicazioni di pulizia automatizzata e permette di coprire grandi superfici in breve tempo. Può essere facilmente integrata in ambienti di produzione collegati o essere utilizzata come soluzione autonoma. (Fonte immagine: acp systems) Con la tecnologia di pulizia con neve quattroClean a secco, è possibile ottenere una pulizia particellare conforme a ORK 1 in modo ripetibile. Per residui filmanti, i risultati di pulizia corrispondono a quelli ottenuti con altri metodi di pulizia ultra-fini. (Fonte immagine: acp systems) Per soddisfare in modo affidabile le esigenze talvolta enormemente aumentate di pulizia tecnica nell'industria elettronica o per pulire componenti già assemblati, sono necessarie soluzioni di pulizia efficaci, asciutte e compatibili con le camere bianche come la tecnologia a getto di neve quattroClean. (Fonte immagine: acp systems)
  • Pulizia | Procedure, apparecchiature, mezzi, supporti (tessuti, swap,...)

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